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超纯水设备基本参数
  • 品牌
  • 翮硕,硕科
  • 型号
  • SK0003
  • 适用领域
  • 电子工业,化工,电镀,医药,食品饮料,多种适用
  • 加工定制
超纯水设备企业商机

    EDI超纯水设备系统工艺介绍满足用户需要,达到符合标准的水质,尽可能地减少各级的污染,在工艺设计上,取达国家自来水标准的水为源水,再设有介质过滤器,活性碳过滤器,精密过滤器等预处理系统、双级RO反渗透主机系统、EDI或离子交换混床系统等。1.介质过滤器主要作用是去除源水中的悬浮物质及机械杂质设备由高质量不锈钢材料制作而成。体内装有布水帽、精制石英砂等,亦可装其它填料。合理的石英砂装填比例及良好的布水系统,使系统的产水水质更加稳定。另外设备还设有气体冲刷功能,能极大限度地去除介质上及床层中的污垢,提高出水水质和延长工作周期。2.活性碳过滤器具有除臭、去色、除油、吸附有机物杂质等作用,能极大程度的去除水中的游离余氯,保证反渗透膜的进水水质,设备由高质量不锈钢材料制成。 硕科超纯水设备供应商-专注提供一体化超纯水设备及解决方案!涂装行业超纯水设备维护保养内容

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    EDI超纯水设备几大性能优势。连续再生优势:连续再生替代了间歇式再生,这就不再需要备用离子交换设备。每个模块都可以单独进行化学清洗,剩余的模块可以承担短期的高流量。启动/操作简单:与混床的间歇式再生相比,不再需要再生操作;EDI超纯水设备操作简单,所需伐门少,同时也无须操作者花费很大精力;操作只需简单的分析和控制。模块更换方便:模块的一般寿命高于3-5年;备用模块储存方便。外面的铝板能良好的保护模块、管道和食品不受损坏。更换EDI超纯水设备模块简单、快捷。产水纯度更高:在进水低于40us/cm时,产水一般超过10~15MΩ.cm(25℃),不受产水量波动的影响。回收率更高:如果水的硬度以CaCo3计小于1ppm时,回收率可达到90-95%;C室废水的浓度约为300-400us/cm,排出时接近中性。该部分水可进入前级RO系统再使用;如果水的硬度超过1ppm的CaCo3会在C室产生结垢,从而影响工作。在这种情况下,进入EDI超纯水设备之前的工艺要进行调整以降低硬度。硬度较高的水源建议采用软化器。占地面积小:EDI超纯水设备系统与混床相比在相同流量处理能力的条件下占地面积要小的多,约为1/10。这种为客户着想的设计是通过省去巨大的再生储存和废水中和系统而得以实现的。 涂装行业超纯水设备维护保养内容在工业生产中,超纯水设备的选择和应用直接影响到生产效率和经济效益。

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    超纯水设备的日常维护保养1.定期清洗滤芯超纯水设备中的滤芯是水质纯净的重要组成部分。定期清洗滤芯可以去除滤芯内的杂质和污垢,水质的稳定。一般情况下,滤芯的清洗周期为3-6个月,具体根据水质情况和设备使用时间来确定。2.检查水源和电源超纯水设备的正常运行需要稳定的水源和电源。因此,定期检查水源和电源的运行情况是必要的。水源应保持清洁,避免污染;电源要稳定,避免电压不稳定对设备造成损坏。3.定期更换配件超纯水设备中的一些配件,如O型圈、密封圈等,会随着时间的推移而磨损或老化,导致设备泄漏或损坏。因此,定期更换这些配件是非常重要的。一般情况下,配件的更换周期为6个月至1年。4.清洗和消毒设备超纯水设备的管道和储水箱等部分容易滋生细菌和霉菌,影响水质的纯净度。因此,定期清洗和消毒设备是必要的。清洗时,可使用专门的清洗剂和工具,注意不要损坏设备。消毒时,可使用紫外线灯照射或加入消毒剂,确保设备的卫生。

    半导体、电子行业是目前世界上要求非常高标准的超纯水设备用户。超纯水制造技术的发展极大地推动了半导体和电子工业的技术进度。同时半导体、电子工业的迅速发展促进了超纯水制造技术装备的发展。目前使用很多的制水工艺:(RO)反渗透+(EDI)电去离子工艺。(RO)反渗透+混床工艺。产水符合电子工业用水(水质符合美国ASTM标准,电子部超纯水水质标准(18MΩ*cm,15MΩ*cm,12MΩ*cm和Ω*cm四级)。电子超纯水设备应用范围。半导体工业用超纯水、彩色显像管用高纯水、集成电路、精细化工、实验室。半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,线宽越窄,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、Ω.cm,以区分不同水质。 工业超纯水设备一般需要做什么预处理呢?

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    光电光学玻璃行业的超纯水设备主要是为玻璃清洗时给超声波提供超纯水,镀膜玻璃镜片清洗超纯水设备设计上,采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO+EDI+SMB除盐水处理工艺,确保处理后的超纯水水质出水电阻率达到MΩ.cm。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品,采用PLC+触摸屏控制,全套系统自动化程度高,系统稳定性高。磨是光学玻璃生产中决定其加工效率和表面质量(外观和精度)的重要工序。研磨工序中的主要污染物为研磨粉和沥青,少数企业的加工过程中会有漆片。其中研磨粉的型号各异,一般是以二氧化铈为主的碱金属氧化物。根据镜片的材质及研磨精度不同,选择不同型号的研磨粉。在研磨过程中使用的沥青是起保护作用的,以防止抛光完的镜面被划伤或腐蚀。玻璃研磨过后,需要用超纯水进行产品的清洗,以获得高质量的产品。 超纯水设备厂家选硕科,主要生产工业反渗透超纯水设备。涂装行业超纯水设备维护保养内容

制药超纯水设备装置选购技巧。涂装行业超纯水设备维护保养内容

    电子工业超纯水设备工艺及使用注意事项。高纯水又名超纯水,是指化学纯度极高的水,其主要应用在生物、化学化工、冶金、宇航、电力等领域,但其对水质纯度要求相当高,所以一般应用比较普遍的还是电子行业。在超纯水设备的生产过程中,水中的阴阳离子可用电渗析法、反渗透法及离子交换技术等去除,水中的颗粒一般可用超过滤、膜过滤等技术去除;水中的细菌,目前国内多采用加药或紫外灯照射或臭氧杀菌的方法去除;水中的TOC则一般用活性炭、反渗透处理。在高纯水的应用领域中,水的纯度直接关系到器件的性能、可靠性,因此高纯水要求具有相当高的纯度和精度。 涂装行业超纯水设备维护保养内容

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