在超纯水的生产过程中，水中的阴、阳离子可用电渗析法、反渗透法及离子交换树脂技术等去除；水中的颗粒一般可用超过滤、膜过滤等技术去除；水中的细菌，目前国内多采用加药或紫外灯照射或臭氧杀菌的方法去除；水中的TOC则一般用活性炭、反渗透处理。在超纯水应用的领域中，水的纯度直接关系到器件的性能、可靠性、阈值电压，导致低击穿，产生缺陷，还影响材料的少子寿命，因此超纯水要求具有相当高的纯度和精度。天然水中溶解的气体主要有O2、CO2、SO2和少量的CH4、氡气、氯气等，在超纯水的生产过程中，还必需去除这类的气体。超纯水的电阻率（25℃）为18.3x106Ω/cm。徐州激光超纯水生产企业
在电子元器件的生产过程当中，超纯水主要用作清洗用水以及用来配制各种溶液、浆料，不同的电子元器件在生产过程中超纯水的用途及对水质的要求也略有不同。因此电子行业的生产用水离不开超纯水设备，这也是电子行业为什么用超纯水设备的原因。芯片制造行业对超纯水的水质要求非常高，在生产过程中需用大量的超纯水、超纯水清洗半成品、成品。这也对超纯水设备的处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了严格的要求。我公司超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM超纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部超纯水水质试行标准、美国半导体工业用超纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。盐城实验室超纯水专业生产用RO反渗透替代离子交换脱盐，进一步除去有机物、胶体、细菌等杂质。
超纯水通过使用更大通量的膜元件，搭载极限分离技术，使得反渗透设备的回收率更高。可以连续工作，无需树脂更换，自动化性能强，无需人工操作。设计结构紧凑，占地面积小，安装方便。超纯水设备具有抗污染能力强、节能环保、产水水质稳定、脱盐率高、系统内无死水等优势，出水水质符合美国ASTMD5127电子及半导体业用超纯水水质TypeE-1.2，高于中国国家电子级超纯水标准GBT11446.1-1997EW-Ⅰ标准。专注电子超纯水领域，是集研发设计、设备制造、工程施工、运营维护为一体的环保解决方案服务商。
超纯水：既将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。电阻率大于18M？*cm，或接近Q*cm极限值。通常实验室中常用NANOpure或Mi1li-Q制备，制水源一般为去离子水或者RO水；超纯水是把水中的导电介质几乎完全去除，又把水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。电阻率大于18M或接近18.3M°C)。现在的超纯水制备采用了预处理、电渗析(EDI)紫外线杀菌、反渗透(RO)、离子交换及各种膜过滤技术等。高纯水分析领域的许多突破和发展，新的仪器和新分析方法的不断应用都为制水工艺的发展创造了条件。
电力系统所用的超纯水，要求各杂质含量低达到“微克/升”级。在超纯水的制作中，水质标准所规定的各项指标应该根据电子(微电子)元器件(或材料)的生产工艺而定(如普遍认为造成电路性能破坏的颗粒物质的尺寸为其线宽的1/5-1/10)，但由于微电子技术的复杂性和影响产品质量的因素繁多，至今尚无一份由工艺试验得到的适用于某种电路生产的完整的水质标准。随着电子级水标准的不断修订，而且超纯水分析领域的许多突破和发展，新的仪器和新分析方法的不断应用都为制超纯水工艺的发展创造了条件。超纯水的重金属、细菌、微粒数杂质含量是ppb级。金华激光超纯水生产厂商
离子交换技术的两种及以上的技术，通过合理的工艺设计，设备选型，方可制造出超纯水。徐州激光超纯水生产企业
反渗透水处理是一种生产超纯水的新工艺，也是一种环保、经济和发展潜力较大的超纯水制备工艺，与传统方法相比，该设备具有以下优势：无需使用任何再生化学品进行再生，减少了化学品运输问题，同时降低了系统运行费用。无需中和药剂。EDI膜块不会有酸碱废液产生，所以不需要酸碱中和池，一般情况下，EDI进水为二级反渗透产水，水质较好，即使经过EDI系统的浓缩之后，EDI的浓水水质仍然优于一级反渗透产水，所以EDI浓水可以回流至一级反渗透产水箱。整套系统运行成本较低。这是因为反渗透没有酸碱再生，减少了相关费用的产生。水资源利用率高。徐州激光超纯水生产企业
