超纯水机的反渗透原理是在原水一方施加比自然渗透压力更大的压力，使水分子由浓度高的一方逆渗透到浓度低的一方。由于反渗透膜的孔径远远小于病毒和细菌的几百倍乃至上千倍以上，故各种病毒，细菌，重金属，固体可溶物，污染有机物，钙镁离子等根本无法通过反渗透膜，从而达到水质净化的目的。超纯水设备采用多介质过滤器、活性炭过滤器及保安过滤器作为前级处理，有效除去原水中的悬浮物、泥砂、微粒、有机硅胶体、有机物、异味、余氯等杂质，使经过处理后的原水符合反渗透的进水要求，然后进入程控反渗透装置去除水中的溶解性盐类物质、细菌、热源等，然后使用离子交换混床进行深度脱盐，使产水电阻率达到15～18.2MΩ.cm，后处理采用紫外线杀菌器和精密过滤器隔绝细菌的二次污染.通过合理的工艺设计，设备选型，方可制造出超纯水，电阻率可达18.20MQ。海门电镀超纯水质量保证
随着集成电路特征尺寸进入深亚微米阶段，芯片制造过程对其表面清洁度的要求越来越高。为了保证芯片材料表面的清洁度，我们需要应用到超纯水对其进行清洗。超纯水设备通常由石英砂过滤器，活性碳过滤器，阻垢剂、精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO超纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人值守，使该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。浙江电池超纯水供应厂家加入少量高锰酸钾的水源，玻璃蒸馏装置进行二次蒸馏，以全石英蒸馏器进行蒸馏，收集于石英容器中。
纯度极高的水。集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水。高纯水(high-puritywater,ultra-highpuritywater)是化学纯度极高的水，其中的杂质的含量小于0.1mg/L。目前人们制成的高纯水的纯度已经达到99.999999%，其中杂质含量低于0.01mg/L。高纯水主要指水的温度为25℃时，电导率小于0.1us/cm,pH值为6.8-7.0及去除其他杂质和细菌的水。即通过反渗透膜过滤后的水，反渗透膜的孔径一般为10A到100A之间，所以它耐杌去除95%以上的离子态杂质。
纯度极高的水。集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水。超纯水是指下列杂质含量极低的水:1.无机电离杂质，如Ca、Mg、Na、K、Fe、Fe、Mn、Al、HCO端、CO端、SO殪、CI、NO娱、NO端、SiO端、PO等;2.有机物，如烷基苯磺酸、油、有机铁、有机铝以及其他碳氢化合物等;⑤颗粒,如尘埃、氧化铁、铝、胶体硅等;3.微生物,如细菌、浮游生物和藻类等;⑤溶解气体，如N2、02、CO2、H2S等。超纯水中电离杂质的含里用水的电阻率数值来衡里o理论上纯水中只有H离子和OH离子参加导电o在25C时超纯水的电阻率为18.3(兆欧厘米)，-般约为15~18(兆欧:厘米)。一般应用较普遍的还是电子工业。
超纯水可以饮用吗？水对人体很重要，是人体的溶剂、清洁剂、冷却剂、润滑剂和缓冲剂。人可以三天无饭，但不能三天无水。想要健康，需要正确的认识水。标准中我们可以看出，超纯水的电阻率一般大于18MΩ•cm，有机物含量TOC小于50ppb。这说明超纯水中的离子含量非常低，除了H+和OH-外，其它离子几乎可以忽略。而我们平常饮用的水中或多或少都含有些矿物成分，电阻率数值一般在1MΩ•cm左右。超纯水由于其中的污染物质含量非常低，单纯的饮用对人体并没有危害，但水中的某些成分能够提升饮用的口感。饮用超纯水的口感会稍差一些。超纯水是经过多个纯化过程制备的，制备一升的超纯水需要较高的纯化成本。在超纯水应用的领域中，水的纯度直接关系到器件的性能、可靠性、阈值电压，导致低击穿，产生缺陷。镇江化工超纯水专业生产
第二级深度脱盐、进一步铩菌、除去微粒以及使超纯水在管内循环流动，这一级分设在各厂房内。海门电镀超纯水质量保证
把水里的阴阳离子都除掉的水。主要通过RO膜和混床树脂来把水中的离子除掉。但，现在也有不少人把RO水也叫去离子水，这是不准确的。应用离子交换树脂去除水中的阴离子和阳离子，但水中仍然存在可溶性的有机物，可以污染离子交换柱从而降低其功效，去离子水存放后也容易引起细菌的繁殖。从自来水到去离子水一般要经过几步处理：先通过石英砂过滤颗粒较粗的杂质，再分别依次通过阴阳离子交换柱去除离子，然后加压通过反渗透膜，较后一般还要经过一步紫外杀菌以去除水中的微生物。假如此时电阻率还没有达到要求的话，可以再进行一次离子交换和反渗透过程。而蒸馏水只是先气化再冷凝，纯度一般不如去离子水，实际半导体工业中用的大多数是去离子水。去离子水是指除去了呈离子形式杂质后的纯水。国际标准化组织ISO/TC147规定的“去离子”定义为：“去离子水完全或不完全地去除离子物质，主要指采用离子交换树脂处理方法。”现在的工艺主要采用RO反渗透的方法制取。在半导体行业中，去离子水被称为“超纯水”或是“18兆欧水”。海门电镀超纯水质量保证
