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工业烤箱基本参数
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  • 型号
  • 齐全
工业烤箱企业商机

工业烤箱的热风循环系统由送风马达、风轮和电热器组成,送风马达带动风轮送出冷风,冷风经过电热设备加热携带热能后经风道进入工业烤箱的烘箱工作室。工业烤箱的热风循环系统有利于提高空气温度的均匀性,在工业烤箱开关箱门运送物料的过程中,温度值会受到影响发生变动,热风循环系统的均匀性则有利于在比较大快速度内恢复工作状态的温度值。工业烤箱的热风循环系统由送风马达、风轮和电热器组成,送风马达带动风轮送出冷风,冷风经过电热设备加热携带热能后经风道进入工业烤箱的烘箱工作室。上海哪家的工业烤箱比较好?漳州工业烤箱非标定制

工业烤箱的热风循环系统由送风马达、风轮和电热器组成,在送风机的作用下由进风口送冷风(即外界空气),经风路系统流入到送风机环节,送风机再把冷空气经风轮、蜗壳、等分风系统送风到正在加热的电热器上,出来的便是热风。热风经过风路系统进入到工业烤箱内箱体进而形成各路风路,进行水平或垂直等送风到各个角落,从而使各位置点的温度达到一致,继而不断的在工业烤箱内进行热风的交替循环,把物体加热固化。通过数显仪表与温感器的连接来控制温度,采用热风循环送风方式,热风循环系统分为水平式和垂直式。定制工业烤箱温度不均匀工业烤箱怎样挑选比较好?

可定制高温烘箱温度控制系统:1、采用数显微电脑温度控制器,控制精确可靠,精度:0.1℃(显示范围)。2、具有定时功能、控温保护功能,设有风机停转开关。电气控制系统:1、采用品牌电气控制元件。2、电气线路设计实用,合理布线,可靠放心。3、箱体顶部为电器控制柜,方便于集中检查维修。保护系统1、超温保护系统2、过电流保护3、快速熔断器4、接地保护可选择配件(需另外收费,订购时请注意)1、可编程控制器,可实现升温速率可调和保温时间可调,多段可编程。2、单独限温控制器,可实现在主控制器失灵后设备升温过高的情况下立即切断加热。3、无纸记录仪,通过USB接口将其记录的数据导入计算机可供分析、打印等,是有纸记录仪的更新换代产品,多通道温度记录。4、配RS-485接口,可连接计算机和记录仪,实现时时监控工作状态。5、温度测试孔,可实现不同测试线或仪器插入设备工作室内进行多种实验,测试孔孔径有φ25、φ50、φ80可选。6、载物托架,烘箱设备标配是2个载物托架,客户可根据自身需求增配托架数量。*技术细节变动之处,恕不另行通知,具体设备参数以咨询结果为准。

高温无氧固化烘箱用途介绍:无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、、船舶、电子、通讯等科研及生产单位,主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化,模压固烤、IC(晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别)、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干,电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。1、技术指标与基本配置:1.1使用温度:RT~260℃,极限温度:300℃;1.2炉膛腔数:2个,上下布置;1.3炉膛材料:SUS304镜面不锈钢;加热元件:不锈钢加热器;热偶:K分度1.4温度和氧含量记录:无纸记录仪;2、氧含量(配氧分析仪):2.1高温状态氧含量:≤10ppm+气源氧含量;低温状态氧含量:≤20ppm+气源氧含量2.2控温稳定度:1℃;2.3温度均匀度:2%℃(260℃平台);合肥真萍告诉您工业烤箱的运用方式。

一、本产品广泛应用于航空、航天、电子、通讯等科研及生产单位。确定仪器仪表、电工产品、材料、零部件、设备等在低气压、高温单项或同时作用下的环境适应性与可靠性试验.二、主要技术指标:1、工作室温度范围:常温~+300℃用户使用温度260℃2、温度波动度:1.0℃(空载);3、温度偏差:常压温度试验:常温~200℃时2℃200~300℃时5.0℃低气压高温综合试验:≤100℃时2.0℃,100℃~200℃时5.0℃200℃~300℃时7.0℃4、升降温速率:升温时间:①常压时:90min(常温~+260℃)②低气压0.0001pa时:180min(常温~+260℃)降温时间:3℃~10℃/min(260℃~120℃),1℃~5℃/min(120℃~常温℃)降温方式:水冷降温5、试验箱承压方式:采用内承压方式6、压力范围:常压~0.0001Pa工业烤箱对如今市场的影响。精密工业烤箱价格

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HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。  增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。漳州工业烤箱非标定制

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