纯水设备可能会出现的故障:三、高压泵不停机:1、高压泵压力不足,不能达到高压设定的压力,2、逆止阀堵塞,不出纯水,3、高压失灵,无法起跳,四、高压泵停机,但废水不停,1、电磁阀失灵,不能有效断水,2、电脑盒有故障,不能关闭电磁阀(指微电脑型),3、逆止阀泄压(废水流量小),五、水满后,机器反复起跳:1、原水压力不足,2、逆止阀泄压,3、高压开关或液位开关失灵,4、系统有泄压现象,六、纯水设备的压力桶水满,但纯水无法流出:1、压力桶气压泄掉,2、后置活性炭堵塞,七、纯水流量不足,1、前置滤芯堵塞,2、高压泵压力不足,3、RO膜堵塞。4、废水阀或废水比例器过于导通,5、后置活性碳堵塞,6、压力桶压力不足或内部破坏。反渗透纯净水设备的特点为在线水质监测控制,实时监测水质变化,以保障水质安全。苏州实验室纯化水设备耗材
医用纯水设备具有哪些特点呢?脱盐率高,运行压力低的进口很低卷式复合反渗透膜,产水水质优良,运行成本低廉,使用寿命长。高效率,低噪声,器质优越的进口泵,减少能耗,且降低运行噪音。在线产品水电导率仪,可随时监测水质情况。产水,浓水各设有流量计,以监视运行出水量及系统回收率。精滤前后各有压力表,反渗透前后压力表,过续监测反渗透及精滤膜压差,提示何时需要更换。高压开关保护反渗透膜不会因为压力过高而损坏。低压开关保护高压泵不会因供水停止而损坏。不锈钢调节阀,随时调节出水量及系统回收率。快冲阀定时冲洗膜表面,降低膜污染,延长膜的使用寿命。大型纯水制作设备生产厂EDI纯水设备的优点有水质稳定。
GMP对纯化水系统的要求如下:水处理设备及其输送系统的设计、安装和维护应能确保制药用水达到设定的质量标准。水处理设备的运行不得超出其设计能力。纯化水、注射用水储罐和输送管道所用材料应无毒、耐腐蚀;储罐的通气口应安装不脱落纤维的疏水性除菌滤器;管道的设计和安装应避免死角、盲管。应对制药用水及水源的水质进行定期监测,并有相应的记录。纯化水、注射用水的制备、储存和分配应能防止微生物的滋生,如注射用水可采用70℃以上保温循环。应按照操作规程定期消毒纯化水、注射用水管道、储罐以及其它必要的辅助管道(如清洁、消毒用的管道、生产用临时连接管道),并有相关记录。操作规程还应详细规定制药用水微生物污染的警戒限度、纠偏限度和应采取的措施。
制药纯化水设备频出故障的原因:1、日常维护保养不到位,如果用户不重视制药纯化水设备的维护保养,或者维保工作不到位,没有按照在厂商的提供操作建议定期对预处理装置的滤芯进行清洗、对树脂再生等,很容易导致设备频出故障。2、人为操作不恰当,人为操作不当是造成制药纯化水设备频繁发生故障的重要原因之一。在制药纯化水设备投入使用后,操作管理人员在开启设备时需要给设备一个约20分钟的适应期,以减少纯化水设备各个部件之间的磨损。纯化水设备运行时间可控制在2-5h范围,因为如果制药纯化水设备长时间处于运行状态,系统会超负荷而导致故障发生。也就是说,用户在使用纯化水设备时,应适当停止运作设备,让设备适当“休息”,为设备长期运作稳定提供保障。制药纯化水设备日常维护保养不到位以及人为操作不恰当,都有可能导致设备产水量降低,甚至引起设备的损坏,因此,设备操作管理人员要规范操作设备以及做好维保工作,确保设备长期稳定制水。制药纯化水设备制备纯化水的水源可能是城市管网自来水、地下水或者地表水。
电子半导体行业用超纯水设备的优势:1. 工业用超纯水设备能够连续稳定的制备品质优良的超纯水,不会因为树脂再生而停止运行,设备结构设计相对靠紧,所以其占地较小,可以为企业节省很多空间,工业用超纯水设备在出厂前均需进行装置调试,所以设备故障几率较小,日常保养、维修等操作都十分简单。2. 工业用超纯水设备在电子半导体行业中的应用十分重要,为该行业的生产提供无菌、无杂质的高纯度水,确保生产的电子产品品质不会受到水质的影响。超纯水设备所生产的超纯水电阻率一般应大于10兆欧,10兆欧以上的水才叫超纯水。EDI超纯水器价格
反渗透技术利用高压泵的加压,反渗透膜的截留,能有效去除水中固体溶解物等杂质。苏州实验室纯化水设备耗材
制药纯化水设备污染情况如何判断?通过肉眼观察,制药纯化水设备反渗透膜运行一段时间后,其性能出现下降。在这种情况下,可打开膜壳检查反渗透膜外观是否有杂物沉积,如有杂物沉积说明反渗透膜已经污染。或者拆卸膜元件,确定膜元件的重量相比初始时是否明显增加,如若是则反渗透膜已经被污染。通过产水情况来判断,如果发现制药纯化水设备的产水为浑浊状态,这说明纯化水设备受到污染,而且可以直接确定制药纯化水设备内部元件有受损的情况,此时应当及时排查故障原因并解决问题。总结来说,制药纯化水设备污染情况自检方式,主要包括通过产水量来检测、通过进水端与浓水端压差波动检测、通过肉眼观察以及通过产水情况来判断。如有发现制药纯化水设备已经污染,应及时作出应对策略,确保产水水质达标。苏州实验室纯化水设备耗材
主要的考虑是此类工艺真的越来越少见了。虽然在EDI的使用说明方面,我们一般讲进水电导率<40μs/cm即可,但是在实际运行中一级RO产水电导率缓慢或意外变高,导致的EDI产水水质不如预期(一般合理预期为1-5MΩ*cm),甚至损坏的情况时有发生。上述情况跟我前文说过的一级RO+二级EDI工艺的逐渐消失,本质上是同一个原因---工艺设计太理想且高估了设备的日常运维水平。EDI进水水质要求五、18M超纯水工艺(工业级)18M超纯水工艺图(工业级)一级TOC脱除18M超纯水工艺图(工业级)二级TOC脱除工业级一般18M超纯水工艺的几个要点:①预处理阶段一般建议同时配置软水器和阻垢剂加*,及其...