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炉基本参数
  • 产地
  • 深圳
  • 品牌
  • 迪斯普
  • 型号
  • 齐全
  • 是否定制
炉企业商机

PECVD管式炉的具体工艺流程?硅烷与氨气反应生成SiN 淀积在硅片表面形成减反射膜。   利用高频电源辉光放电产生等离子体对化学气相沉积过程施加影响的技术。由于等离子体存在,促进气体分子的分解、化合、激发和电离,促进反应活性基团的生成,从而降低沉积温度。PECVD在200℃~500℃范围内成膜,远小于其它CVD在700℃~950℃范围内成膜。   反应过程中有大量的氢离子注入到硅片中,使硅片中悬挂键饱和、缺陷失去活性,达到表面钝化和体钝化的目的。炉子初次使用或长时间不用后,要在 120℃左右烘烤 1 小时,在 300℃左右烘烤 2 小时后使用。内蒙古真空箱式炉研究所**

CVD管式炉的安全使用:在关键部位安装有声、光警报装置和安全联锁保护装置,确保安全,其设备安全设施达到国家规定的安全标准,包括: (1)超温断偶报警及保护;充气异常;接地保护;短路保护等。 (2)炉盖关紧、真空度满足要求,方可启动加热。针对实验室的使用要求,装卸料采用间歇式手动装、卸料。装料时将料盒放置在料盆支架上,打开并取出炉管一端的密封端盖,放入带料盒的料盒支架,再将密封端盖安装在炉管法兰上并拧紧卡箍螺栓。 然后通人工艺气氛,直到炉管内氧含量达到工艺要求时进行升温烧结。产品烧结工艺完成后,应继续通人小量的工艺气氛并进行降温,直到炉内温度低于工艺要求时,方可打开炉管密封端盖取出产品。佛山PECVD管式炉价格箱式气氛炉应用于适合各类大专院校实验室、工矿企业化验室,供化学分析、物理测定。

真空管式炉主要运用于冶金,玻璃,热处理,锂电正负极材料,新能源,磨具等行业,测定材料在一定气温条件下的专业设备。炉型结构简单,操作容易,便于控制,能连续生产。   真空管式炉具有的性能设计,集多项于一身,安全性,可靠性,实用性均达效果,下面我们来看看它的结构特点:   1、炉体采用双层炉壳结构,双层炉壳之间装有风机,可以快速升降温,炉壳表面温度低。   2、真空度可以达到10Pa。   3、真空管式炉炉膛材料采用的进口氧化铝多晶纤维真空吸附制成,节能50%,加热炉膛为一体化,方便取放实验物料、更换炉管。加热元件采用硅钼棒。   4、炉管采用99高纯刚玉管、两端采用SUS304高真空法兰密封。   5、电炉温度控制系统采用人工智能调节技术,具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能,该控制系统温度显示精度为±1℃,温场稳定度±5℃,升温速率1~20℃可任意设置。

管式炉均系采用国际先进技术,自行研制开发的高性能高节能的新型电炉,有单管、双管、卧式、可开启式、立式、单温区、双温区、三温区等多种管式炉型。主要应用于大专院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多、可选配气氛、抽真空炉型等。管式炉的特点 1、外观采用耐高温、耐腐蚀油漆处理。 2、控制台采用智能PID数显控制器、稳定性好、精度高,配有电流表、结构新颖。 3、炉门采用加厚、加固处理,防止变形4、炉衬采用高纯氧化铝和保温棉,保温效果好 5、炉膛温度时时检测功能(不加热情况下同样显示炉膛实际温度,便于随时观察炉膛温度情况)。具有过载保护和短路保护6、炉壳选用不错钢板折边焊接制成,工作室为耐火材料制成的炉膛,加热元件置于其中,炉与壳间用保温材料砌筑。多温区管式炉以1800型硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和40段程序控温系统。

马弗炉注意事项 1、当马弗炉一次使用或长期停用后再次使用时,必须进行烘炉。烘炉的时间应为室温至200℃四小时,200℃至600℃四小时。使用时,炉温较高不得超过额定温度,以免烧毁电热元件。禁止向炉内灌注各种液体及易溶解的金属,马弗炉较好在低于较高温度50℃以下工作,此时炉丝有较长的寿命。 2、马弗炉和控制器必须在相对湿度不超过85%、没有导电尘埃、性气体或腐蚀性气体的场所工作。凡附有油脂之类的金属材料需进行加热时,有大量挥发性气体将影响和腐蚀电热元件表面,使之销毁和缩短寿命。因此,加热时应及时预防和做好密封容器或适当开孔加以排除。 3、马弗炉控制器应限于在环境温度0-40℃范围内使用。 4、根据技术要求,定期经常检查电炉、控制器的各接线的连线是否良好,指示仪指针运动时有无卡住滞留现象,并用电位差计校对仪表因磁钢、退磁、涨丝、弹片的疲劳、平衡破坏等引起的误差增大情况。 5、热电偶不要在高温时骤然拔出,以防外套炸裂。 6、经常保持炉膛清洁,及时清理炉内氧化物之类东西。真空管式炉使用后,速度调节旋钮应旋转回“0”,然后停止。广州PECVD管式炉用途

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