含铜废水蚀刻液处理技术： 1、化学沉淀法：化学沉淀法包括氢氧化物沉淀法和硫化沉淀法。 （1）氢氧化物沉淀法：氢氧化物沉淀法中石灰法使用较广，其机理主要是往废水中添加碱（一般是氢氧化钙），提供废水的pH值，使铜等重金属离子生成难容氢氧化物沉淀，从而降低废水中铜离子含量而达到排放标准。其处理工艺为：重金属酸性废水→沉砂池石灰乳混合反应池→沉淀池→净化水→外排。该法处理后的净化水有较高的pH值及钙硬度，和严重的结垢趋势，需采用合适的水质稳定措施进行阻垢后才能实现回用，而且不适于处理印刷电路板生产过程中的含铜络合物废水。 （2）硫化沉淀法：硫化沉淀法是利用添加Na2S等能与重金属形成比较稳定的硫化沉淀物的原理，其工艺为：含铜废水→硫化物沉淀处理→中和处理→外排。该法用于常规的中和沉淀法无法处理的铜络合物的废水，但加入了大量的化学药剂，因此存在二次污染。 含铜废蚀刻液提铜水处理设备 。福建蚀刻液再生循环系统
1.蚀刻液提铜该技术解决了单一离子膜电解过程中膜性能不稳定、循环时间不长的难题,实现酸性蚀刻工序的清洁生产和废水的零排放,产生了有高附加值的金属电解铜,从而降低了酸性蚀刻液的生产成本。 2.采用阴离子膜电解法,一价铜离子在阳极被氧化成二价铜离子,ORP升高,ORP高达900MV的酸性蚀刻液可循环利用,无需再使用强氧化剂氯酸钠。3.采用阳离子膜电沉积法,蚀刻废液可循环利用。典型规模废酸性蚀刻液处理量:100~200吨/月。主要技术指标再生蚀刻液技术指标：蚀刻因子3.0；蚀刻1.5~2.5mil/min;pH2.0~2.3;ORP540~600mV;铜含量110~160g/L;回收铜纯度>99.90%。主要设备及运行管理一、主要设备阴离子膜电解系统、阳离子膜电沉积系统、蚀刻液存储及组分调节膜处理系统。 江西废蚀刻液设备厂家印制电路板(PCB)是电子产品的重要组成部分,蚀刻液其现行生产过程会产出大量的三氯化铁。
2、含铜清洗废蚀刻液水处理设备：采用重金属液态离子吸附剂，通过萃取工艺技术有效分离废液中的铜离子，使铜得到回收，废液得到再生。萃取铜后不会破坏废液中萃余液成份。降铜后的废蚀刻液只需加入少许的蚀刻盐及氨水，就可达标循环使用。萃取溶液再生和制备流酸铜溶液同时完成。经电解法合成金属铜。此工艺技术具有国际先进水平，无废气、废渣、废水等产生，真正做到了资源循环利用，做到了清洁生产。 工艺流程：酸性蚀刻液再生循环利用及铜回收设备。
废杂铜的种类繁多，回收利用技术和工艺也有所不同，但一般都将其分为预处理和再生利用两部分。所谓预处理就是对混杂的废杂铜进行分类、挑选出机械夹杂的其它废弃物，除去废铜表面的油污等，终得到品种单一，相对纯净的废铜，为熔炼提供优良的原料，从而简化了熔炼过程。废杂铜再生利用的方法很多，主要可分为两大类，即废杂铜的直接利用和间接利用。蚀刻液直接利用是将高质量的废铜直接熔炼成精铜或铜合金，间接利用是通过冶炼除去废杂铜中的金属，并将其铸成阳极板，再经过电解得到电解铜电镀厂蚀刻液提铜水进行回收，配合磺化煤油作提铜处理。
每生产一平方米正常厚度（18μm）的双面板消耗蚀刻液约为2—3升，并出废蚀刻液2—3升、一次洗涤废水5—10升、二次洗涤废蚀刻液水8——12升。目前的做法是定时或不定时地从蚀刻槽排出部分铜含量很高的母液——废蚀刻液，同时向其中添加新的蚀刻液。由于蚀刻液的佳蚀刻铜离子浓度在100—140克/升，而废液外排时则希望铜离子浓度越高越好（常在150——160克/升），以尽可能提高蚀刻液利用率，降低溶液总的使用量。因此，不论是采用人工间歇排放工艺还是比重控制的连续排放工艺，实际生产中蚀刻液并未处于其佳技术状态。从经济成本上说，目前的做法对PCB企业不利。酸性蚀刻液再生循环利用及铜回收设备。浙江金蚀刻液
酸性蚀刻液提铜再生铜回收设备。福建蚀刻液再生循环系统
碱性蚀刻液目前通行的做法是，在各印制板厂内储存起来，放在密封的池子或储罐内等待外单位拉走处理。外单位一般是经当地环保部门审批过有资质的回收公司，他们把废液拉回去后，使用化学方法（中和法、电解法、置换法）回收废液内的铜，或提炼成流酸铜产品。这些方法，工艺落后，铜回收不彻底，处理的经济效益不明显，有二次污染污染物排放。特别是碱性蚀刻，由于有大量的氨离子存在，一旦处理不当往外排放，势必对水体生态系统造成大的冲击。 氨洗水：其中含铜离子较低，采用传统的方法进行处理没有效益可言，因此没有单位愿意回收。通常的做法是排到线路板厂的废水处理站，加碱变成铜污泥，变成固体废物后交由专门环保公司处理，这样既增加了公司废水处理负荷，也增加了固体废物和污染物排放总量。国外方法：有人搞循环再生，废蚀刻液回用，文献资料偶有介绍，但搞得非常好的厂家不多。 福建蚀刻液再生循环系统
