OLED高低温光学性能测试-芯艾蓝光电(推荐商家)产品描述该设备主要是针对于电工、电子产品，以及其原器件，及其它材料在高温、低温的环境下贮存、运输、使用时的适应性试验。该试验设备主要用于对产品按照国家标准要求或用户自定要求，在低温、高温、条件下，对产品的物理以及其他相关特性进行环境模拟测试，测试后，通过检测，来判断产品的性能，是否仍然能够符合预定要求，以便供产品设计、改进、鉴定及出厂检验用。
体采用数控机床加工成型，造型美观大方，并采用无反作用把手，操作简便。箱体内胆采用进口不锈钢（SUS304）镜面板，箱体外胆采用A3钢板喷塑，增加了外观质感和洁净度。补水箱置于控制箱体右下部，并有缺水自动保护，更便利操作者补充水源。大型观测视窗附照明灯保持箱内明亮，OLED高低温光学性能测试，且利用发热体内嵌式钢化玻璃，随时清晰的观测箱内状况 可选配PMT＋光谱仪自动切换。广州国产高长温光学测试系统
扫描波长光学测量解决方案结合使用一个或多个光功率计与可调激光源 (TLS)，可以支持光功率与波长关系测量。此类测量常用于确定被测器件输入功率与输出功率的比值，比值称为插入损耗，单位为 dB。当 TLS 在选中范围内调谐波长时，功率计将定时采样指定数量测量点的功率。通过一个触发信号与 TLS 扫描同步，这些样本能够实现与对应波长的精确相关。使用多个功率计可以同时测量多端口器件 (例如多路复用器、功率分离器和波长开关) 的输出。使用81600B、81940A 或 81980A TLS，以及功率计 (例如 816x 系列模块或多端口 N7744A 和 N7745A) 和**的 N7700A IL 软件，可以组成一个测量系统。这些“波长扫描”例程的编程过程非常简单，可以使用**的 816x 即插即用驱动程序，并应用 N4150A 光基础程序库 (PFL) 的测量功能进行增强。该测量装置在 TLS 后与 81610A 回波损耗模块连接，还可以测量光反射 (回波损耗)。洛阳响应时间高低温光学测试系统定制进口**高低温腔体，光纤探头与样品在同一个腔体内。
标准样品尺寸比较大390mmX310mm (可接受定制)；
客户样品尺寸可定制高低温腔体，比较大可到1米5；
视场角测量比较大可以到80°以上；
温控范围-40°C~120°C；
可选配PMT+光谱仪自动切换；
测试样品跟探测器在同一腔体内部，可形成比较大视场角测量；
可实现多片自动切换连续测量，不需要重新测样的等待时间；
定制进口**高低温腔体尺寸比较大可到1米5；
光纤探头与样品在同一个腔体内，可实现最大化视场角测量；
温度范围: -40°C~120°C；
测试项目:亮度，色度,光谱，视场角，响应时间等。
光谱法
光谱法利用物质的光谱特征，进行定性、定量及结构分析的方法称为光谱法或光谱分析法。按物质能级跃迁的方向，可分为吸收光谱法（如紫外-可见分光光度法、红外分光光度法、原子吸收分光光度法）及发射光谱法（如原子发射光谱及荧光分光光度法等）。按年能级跃迁类型，可分为电子光谱、振动光谱及转动光谱等类别。按发射或吸收辐射线的波长顺序，分为γ射线、X射线、紫外、可见及红外光谱法、微波谱法以及电子自旋共振波谱法等。按被测物质对辐射吸收的检测方法的差别（在明背景下检测吸收暗线或是在暗背景下检测共振明线）可分为吸收光谱法与共振波谱法两类。按被测物质粒子的类型，可分为原子光谱、分子光谱等。 客户客户样品尺寸可定制高低温腔体，比较大可到1米5，可选配PMT＋光谱仪自动切换。
ORI测试系统由一组CRI离轴反射式平行光管、一组TG目标发生器、一组CGT控制器、一组机械适配器、AEH光学台、MP机械调整台、一组光谱滤波片、一组光衰减器、一组靶标、一组IM电子相机（版本配置适用于不同的光谱带宽）、计算机、图像采集卡、TAS-O软件、以及可选的一组参考镜头组成。一组离轴反射式平行光管用于不同口径及焦距光学镜头的精确测试，一组电子相机用于测试工作在不同光谱带宽的镜头。ORI测试系统是一套多功能的测试系统，支持所有类型的工作在紫外到长波红外波段的光学镜头（紫外镜头，可见光镜头，可见光/近红外镜头，短波红外镜头，中波红外镜头以及长波红外镜头）。多功能的实现由设计一系列的模块而实现（相机，一组靶标，目标发生器等），适用于不同光谱范围的镜头测试。通过模块的更换，ORI测试系统可以简单的实现由可见光镜头测试转换为红外镜头的测试。可实现多片自动切换连续测量机械架构根据客户要求灵活定制。太原两低温光学测试系统
按照客户要求定制报表输出。广州国产高长温光学测试系统
为了解决实际测量中单一测量方法存在的局限性,结合白光干涉测量技术与共聚焦测量技术,通过紧凑型部分共光路结构原则,设计并搭建了一套超精密表面形貌光学测量系统,实现微纳米几何形貌的三维重构与测量。基于C#语言与DirectX11开发组件,开发了上位机执行软件,实现了两种光学测量模式下硬件的协调控制及纳米标准样板表面形貌的三维重构。对台阶高度标定值为(98.8±0.6)nm的台阶标准样板进行测量,实验表明:用白光干涉测量模式和共聚焦测量模式分别实现了对台阶样板的大范围快速测量和小范围精密测量,10次测量的平均值分别为100.5和99.8 nm,标准差均小于2 nm,说明该系统能较好地满足微纳器件超精密表面形貌测量的要求。广州国产高长温光学测试系统
