高低温交变试验箱厂家直供

真空烘箱是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿，使工作室内形成真空状态，降低水的沸点，加快干燥的速度。下面为大家介绍一下真萍科技真空烘箱的特点。一、真空程序分段控制该型号机型，抽真空过程可提供程序化编程，只需根据客户要求编辑设定真空值，保压时间值。相当大可实现18段抽真空和保压编程。二、操作步骤1.接通电源；2.产品送入腔体，关门；3.打开电源；4.工作温度设定好，启动加热，设备进入自动恒温状态；5.真空值和时间设定好后，启动真空泵，开始进入自动抽真空阶段；6.到达时间值后，真空泵自动关闭。试验箱对如今市场的影响。高低温交变试验箱厂家直供

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex阿摩利亚气体)破坏，解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线，解决液晶的受潮问题，解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜的柜体规格、配备。1.左右双开门，3mm钢化玻璃，1mm厚不锈钢板，气密式隐藏锁把手。2.柜体密封高吸附力磁性胶条与柜体密闭，脚垫采高承载车轮及调整高低脚垫。3.附高载重不锈钢隔板，柜体加装高载重煞车轮。4.上掀式气密盖，方便FFU保养及维修。5.回风循环设计，单向氮气循环不产生紊流。6.背面气密开门式设计，方便洁净清理与保养。销售试验箱产品分类选择知识合肥真萍与您分享试验箱对如今市场的影响。

真萍科技洁净烘箱是参照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造，广泛应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。下面为大家介绍一下洁净烘箱的箱体结构。 1.烘箱总体由箱体部分，电气控制柜部分，电加热部分，风道部分，尘埃物过滤部分，N2 进气排气及风冷部分等组装而成，结构合理，功能实用。 2.外箱材料:外箱采用SS41#中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆可防止微尘。 3.内胆材料：采进口SUS304#2mm不锈钢板全周氩焊,并经碱性苏打水清洁有效的防止了机台本身灰尘的产生。 4.保温材料：采用正厂玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充，有效的防止了热能浪费。 5.电热部分：采用进口覆套式电热器（SHEATHED HEATER）无尘无氧化电热发生器。 6.风道部分：整体结构采用了水平送风的方式由左向右送风后经美国进口H.E.P.A，(特殊风道设计)过滤效果可达99.99%,Class100。

隧道炉适用于五金模具、航天航空、纳米材料、精密陶瓷、粉末治金、铁氟龙喷涂、五金、锂电池、化工、运动器材、汽车零配件、电机、化工、工业之烘烤、干燥、预热回火、退火、老化等用途。下面为大家介绍一下真萍科技隧道炉的产品特性。1.采用智能型温度控制模块，PID自动演算，LED显示，配合SSR大功率可控硅输出，能精确控制温度之精细度；2.分段控制（当到达设定温度时可任意关掉其中几段发热管，降低加热功率，其达到省电效果）；3.内箱采用1.5mm厚SUS304#不锈钢(清洁无尘，防生锈、耐腐蚀)，外箱采用1.5mm厚Q235冷轧钢板(强度、塑性和焊接综合性能相当好)；4.整机控制系统采用触摸屏加PLC程序控制，设备加热、运风、传动、自动门开关均采用智能控制，有效防止失误动作；5.当实际检测温度超过超温保护温控器设定值时，自动切断加热电源，起到双重保护功能。合肥真萍试验箱的运用领域。

连续炉即是连续作业炉，是指连续地或间歇地装料，工件在炉内不断移动，完成加热、保温，有时包括冷却在内全过程的热处理炉。连续作业炉可借助某些机械机构连续地或间歇地进行装料和出料，连续顺序地通过按零件处理工艺要求的不同温度区完成加热过程。使用连续作业炉可提高产品质量，提高劳动生产率和改善劳动条件。下面为大家介绍一下连续炉的产品特性。1.采用智能型温度控制模块，PID自动演算，LED显示，配合SSR大功率可控硅输出，能控制温度之精细度；2.分段控制（当到达设定温度时可任意关掉其中几段发热管，降低加热功率，其达到省电效果）3.内箱采用1.5mm厚SUS304#不锈钢(清洁无尘，防生锈、耐腐蚀)，外箱采用1.5mm厚Q235冷轧钢板(强度、塑性和焊接综合性能相当好)；4.整机控制系统采用触摸屏加PLC程序控制，设备加热、运风、传动、自动门开关均采用智能控制，防止失误动作；5.当实际检测温度超过超温保护温控器设定值时，自动切断加热电源，起到双重保护功能。合肥真萍与您分享试验箱发挥的重要作用。高低温交变试验箱厂家直供

试验箱怎样挑选比较好?高低温交变试验箱厂家直供

本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱，首先简单介绍一下HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。高低温交变试验箱厂家直供