纳米压印光刻（NIL）-SmartNIL®用于大批量生产的大面积软UV纳米压印光刻工艺介绍：EVG是纳米压印光刻（NIL）的市场领仙设备供应商。EVG开拓了这种非常规光刻技术多年，掌握了NIL并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。EVG的专有SmartNIL技术通过多年的研究，开发和现场经验进行了优化，以解决常规光刻无法满足的纳米图案要求。SmartNIL可以提供低至40nm或更小的出色的共形烙印结果。如果要获得详细信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司或者访问官网。 SmartNIL 非常适合对具有复杂纳米结构微流控芯片进行高精度图案化，用在下一代药 物研究和医学诊断设备生产。半导体设备纳米压印代理价格
NIL300mmEV集团企业技术开发和知识产权总监MarkusWimplinger表示：“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年，为光刻/纳米压印技术供应链中的各个合作伙伴和公司与EVG合作提供了一个开放式的创新孵化器，从而缩短创新光子器件和应用的开发周期和上市时间。我们很高兴与肖特公司合作，证明EVG光刻/纳米压印技术解决方案的价值，不仅有助于新技术和新工艺的开发，还能够加速新技术和新工艺在大众市场中的采用。我们正在携手肖特开展的工作，彰显了光刻/纳米压印技术设备和工艺的成熟性，为各种令人兴奋的基于光子学的新产品和新应用的300-mm制造奠定了基础。”SCHOTTRealView™高折射率玻璃晶圆是领仙AR/MR设备的关键组件，已经实现了批量生产。产品组合提供了高达，支持深度沉浸的AR/MR应用，视野更广，高达65度。在与增强现实硬件制造商进行多年研发之后，肖特在2018年推出了弟一代SCHOTTRealView™。这款膏端产品在上市一年后便荣获了享有盛誉的2019年SID显示行业奖（SIDDisplayIndustryAward2019）。关于肖特肖特是特种玻璃、微晶玻璃和相关高科技材料领域的领仙国际技术集团。公司积累了超过130年的经验，是众多行业的创新合作伙伴。中芯国际纳米压印学校会用吗EVG开拓了这种非常规光刻技术，拥有多年技术，掌握了NIL，并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。
首先准备一块柔性薄膜作为弹性基底层，然后将巯基-烯预聚物旋涂在具有表面结构的母板上，弹性薄膜压印在巯基-烯层上，与材料均匀接触。巯基-烯材料可以在自然环境中固化通过“点击反应”形成交联聚合物，不受氧气和水的阻聚作用。顺利分离开母板后，弹性薄膜与固化后的巯基-烯层紧密连接在一起，获得双层结构的复合柔性模板。由于良好的材料特性，刚性巯基-烯结构层可以实现较高的分辨率。因此，利用该方法可以制备高 分辨的复合柔性模板，经过表面防粘处理后可以作为软压印模板使用。该研究利用新方法制备了以PDMS和PET为弹性基底的亚100nm线宽的光栅结构复合软压印模板。相关研究成果发表于《纳米科技与纳米技术杂志》（JournalofNanoscienceandNanotechnology）。（来自网络。
SmartNIL是行业领仙的NIL技术，可对小于40nm*的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现无人能比的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景，即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本，大批量替代光刻技术。*分辨率取决于过程和模板如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台，可用于进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。
IQAlignerUV-NIL特征：用于光学元件的微成型应用用于全场纳米压印应用三个独力控制的Z轴，可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿三个独力控制的Z轴，用于压印抗蚀剂的总厚度变化（TTV）控制利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺EVG专有的全自动浮雕功能抵抗分配站集成粘合对准和紫外线粘合功能IQAlignerUV-NIL技术数据：晶圆直径（基板尺寸）：150至300毫米解析度：≤50nm（分辨率取决于模板和工艺）支持流程：柔软的UV-NIL，镜片成型曝光源：汞光源对准：≤±0.5微米自动分离：支持的前处理：涂层：水坑点胶（可选）迷你环境和气候控制：可选的工作印章制作：支持的步进重复纳米压印光刻可以从蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。研究所纳米压印实际价格
HERCULES ® NIL是完全集成SmartNIL ®的 UV-NIL紫外光纳米压印系统。半导体设备纳米压印代理价格
IQAlignerUV-NIL自动化紫外线纳米压印光刻系统应用：用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统IQAlignerUV-NIL系统允许使用直径从150mm至300mm的压模和晶片进行微成型和纳米压印工艺，非常适合高度平行地制造聚合物微透镜。该系统从从晶圆尺寸的主图章复制的软性图章开始，提供了混合和整体式微透镜成型工艺，可以轻松地将其与工作图章和微透镜材料的各种材料组合相适应。此外，EVGroup提供合格的微透镜成型工艺，包括所有相关的材料专业知识。EVGroup专有的卡盘设计可为高产量大面积印刷提供均匀的接触力。配置包括从压印基材上释放印章的释放机制。半导体设备纳米压印代理价格
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