灰度光刻基本参数
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型号
  • 齐全
  • 类型
  • 双光子微纳光刻系统
  • 规格
  • QuantumX
  • 厂家
  • Nanoscribe
  • 产地
  • 德国
灰度光刻企业商机

来自不来梅大学微型传感器、致动器和系统(IMSAS)研究所的科学家们发明了一种全新的微流道混合方式,使用Nanoscribe公司的3D打印系统,利用双光子聚合原理(2PP)结合光刻技术,将自由形式3D微流控混合元件集成到预制的晶圆级二维微流道中。该微型混合器可以处理高达100微升/分钟的高流速样品,适用于药物和纳米颗粒制造,快速化学反应、生物学测量和分析药物等各种不同应用。事实上,双光子聚合加工是在2001年开始真正应用在微纳制造领域的,其先驱者是东京大阪大学的Kawata教授以及孙洪波教授。当时这个实验室在nature上发表的一篇工作,也就是传说中的纳米牛引起了极大的轰动:《Finer features for functional microdevices:Micromachines can be created with higher resolution using two-photon absorption.》但是,这篇文献中还进行了另外一个更厉害的工作(毕竟科学家不是艺术家,不是做的好看就行了)。


Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司为您讲解双光子灰度光刻技术的应用。黑龙江2GL灰度光刻3D光刻

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Nanoscribe公司Photonic Professional GT2高速3D打印系统制作的高精度器件图登上了刚发布的商业微纳制造杂志“Commercial Micro Manufacturing magazine”(CMM)。Photonic Professional GT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程,实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造,可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。另外,还可以实现精度上限的3D打印,突破了微纳米制造的限制。该打印系统的易用性和灵活性的特点配以非常普遍的打印材料选择使其成为理想的实验研究仪器和多用户设施。浙江德国灰度光刻技术3D打印Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司邀您一起探讨双光子灰度光刻系统。

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Quantum X采用双光子灰度光刻技术,克服了这些限制,提供了前所未有的设计自由度和易用性。高精度的增材制造可打印出顶端的折射微纳光学元件。得益于Nanoscribe双光子灰度光刻技术所具有的设计自由度和光学质量的特点,您可以进行几乎任何形状,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的创新设计。Nanoscribe双光子聚合技术所具有的高设计自由度,可以在各种预先构图的基板上实现波导和混合折射衍射光学器件等3D微纳加工制作。结合Nanoscribe公司的高精度定位系统,可以按设计需要精确地集成复杂的微纳结构。

纳米纹理在纳米技术中起着越来越重要的作用。近期的研究表明,可以通过空间调节其纳米级像素的高度来进一步增强其功能。但是,实现该概念非常具有挑战性,因为它需要对纳米像素进行“灰度”打印,其中,纳米像素高度的精度需要控制在几纳米之内。只有少数几种方法(例如,灰度光刻或扫描束光刻)可以满足这种严格的要求,但通常其成本较高,并且它们中的大多数需要化学开发过程。因此,具有高垂直和水平分辨率的可重构灰度纳米像素打印技术受到高度追捧。Nanoscribe的双光子灰度光刻激光直写技术(2GL ®)可用于工业领域2.5D微纳米结构原型母版制作。

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作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统,QuantumX可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版,可适用于批量生产的流水线工业程序,例如注塑,热压花和纳米压印等加工流程,从而拓展微纳加工工业领域的应用。2GL与这些批量生产流水线工业程序的结合得益于新技术的亚微米分辨率和灵活性的特点,同时缩短创新微纳光学器件(如衍射和折射光学器件)的整体制造时间。Nanoscribe的QuantumX打印系统非常适合DOE的制作。该系统的无掩模光刻解决方案可以满足衍射光学元件所需的横向和纵向高分辨率要求。基于双光子灰度光刻技术(2GL®)的QuantumX打印系统可以实现一气呵成的制作,即一步打印多级衍射光学元件,并以经济高效的方法将多达4,096层的设计加工成离散的或准连续的拓扑。更多灰度光刻技术详情,欢迎咨询Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司。北京2PP灰度光刻无掩光刻

Nanoscribe中国分公司-纳糯三维带您了解Nanoscribe高速灰度光刻微纳加工打印系统。黑龙江2GL灰度光刻3D光刻

    QuantumX新型超高速无掩模光刻技术的中心是Nanoscribe独有的双光子灰度光刻技术(2GL®)。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺很大程度缩短了企业的设计迭代,打印样品结构既可以用作技术验证原型,也可以用作工业生产上的加工模具。这项技术的关键是在高速扫描下使激光功率调制和动态聚焦定位达到精细同步,这种智能方法能够轻松控制每个扫描平面的体素大小,并在不影响速度的情况下,使得样品精密部件能具有出色的形状精度和超光滑表面。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性*结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。 黑龙江2GL灰度光刻3D光刻

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