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轮廓仪基本参数
  • 产地
  • 中国
  • 品牌
  • 超纳/SUBNANO
  • 型号
  • NanoX-2000/3000,NanoX-8000
  • 是否定制
轮廓仪企业商机

轮廓仪的性能测量模式:移相干涉(PSI),白光垂直扫描干涉(VSI),单色光垂直扫描干涉(CSI)样品台:150mm/200mm/300mm样品台(可选配)XY平移:±25mm/150mm/200mm/300mm,倾斜:±5°可选手动/电动样品台CCD相机像素:标配:1280×960视场范围:560×750um(10×物镜)具体视场范围取决于所配物镜及CCD相机光学系统:同轴照明无限远干涉成像系统光源:高效LEDZ方向聚焦80mm手动聚焦(可选电动聚焦)Z方向扫描范围精密PZT扫描(可选择高精密机械扫描,拓展达10mm)纵向分辨率<0.1nmRMS重复性*0.005nm,1σ台阶测量**准确度≤0.75%;重复性≤0.1%,1σ横向分辨率≥0.35um(100倍物镜)检测速度≤35um/sec,与所选的CCD隔振系统:集成气浮隔振 + 大理石基石。浙江轮廓仪供应商

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轮廓仪的功能:廓测量仪能够对各种工件轮廓进行长度、高度、间距、水平距离、垂直距离、角度、圆弧半径等几何参数测量。测量效率高、操作简单、适用于车间检测站或计量室使用。白光轮廓仪的典型应用:对各种产品,不见和材料表面的平面度,粗糙度,波温度,面型轮廓,表面缺陷,磨损情况,腐蚀情况,孔隙间隙,台阶高度,完全变形情况,加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。如果您想要了解更多的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。研究所轮廓仪可以试用吗菜单式系统设置,一键式操作,自动数据存储。

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轮廓仪在集成电路的应用封砖Bump测量视场:72*96(um)物镜:干涉50X检测位置:样品局部面减薄表面粗糙度分析封装:300mm硅片背面减薄表面粗糙度分析面粗糙度分析:2D,3D显示;线粗糙度分析:Ra,Ry,Rz,…器件多层结构台阶高MEMS器件多层结构分析、工艺控制参数分析激光隐形切割工艺控制世界为一的能够实现激光槽宽度、深度自动识别和数据自动生成,大达地缩短了激光槽工艺在线检测的时间,避免人工操作带来的一致性,可靠性问题欢迎咨询。

NanoX-系列轮廓仪代表性客户•集成电路相关产业–集成电路先进封装和材料:华天科技,通富微电子,江苏纳佩斯半导体,华润安盛等•MEMS相关产业–中科院苏州纳米所,中科电子46所,华东光电集成器件等•高效太阳能电池相关产业–常州亿晶光电,中国台湾速位科技、山东衡力新能源等•微电子、FPD、PCB等产业–三星电机、京东方、深圳夏瑞科技等具备Globalalignment&Unitalignment自动聚焦范围:±0.3mmXY运动速度**快如果有什么问题,请联系我们。轮廓仪可用于蓝宝石抛光工艺表面粗糙度分析(粗抛与精抛比较)。

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   轮廓仪是用容易理解的机械技术测量薄膜厚度。它的工作原理是测量测量划过薄膜的检测笔的高度(见右图)。轮廓仪的主要优点是可以测量所有固体膜,包括不透明的厚金属膜。更昂贵的系统能测绘整个表面轮廓。(有关我们的低成本光学轮廓仪的資訊,请点击这里).获取反射光谱指南然而轮廓仪也有不足之处。首先,样本上必须有个小坎才能测量薄膜厚度,而小坎通常无法很标准(见图)。这样,标定误差加上机械漂移造成5%-10%的测量误差。与此相比,光谱反射仪使用非接触技术,不需要任何样本准备就可以测量厚度。只需一秒钟分析从薄膜反射的光就可确定薄膜厚度和折射率。光谱反射仪还可以测量多层薄膜。轮廓仪和光谱反射仪的主要优点列表于下。如需更多光谱反射仪信息请访问我们官网。轮廓仪可用于:微结构均匀性 缺 陷,表面粗糙度。山东轮廓仪技术服务

三维表面轮廓仪是精密加工领域必不可少的检测设备,它既保障了生产加工的准确性,又提高了成品的出产效率。浙江轮廓仪供应商

强大的轮廓仪光电一体软件美国硅谷研发、中英文自由切换光机电一体化软硬件集成三维分析处理迅速,结果实时更新缩放、定位、平移、旋转等三维图像处理自主设定测量阈值,三维处理自动标注测量模式可根据需求自由切换三维图像支持高清打印菜单式参数设置,一键式操作,人机界面个性直观个性化软件应用支持可进行软件在线升级和远程支持服务10年硅谷世界500强研发经验(BDMedicalInstrument)光学测量、软件系统岱美仪器将为您提供全程的服务。浙江轮廓仪供应商

岱美仪器技术服务(上海)有限公司是一家集生产科研、加工、销售为一体的****,公司成立于2002-02-07,位于金高路2216弄35号6幢306-308室。公司诚实守信,真诚为客户提供服务。公司业务不断丰富,主要经营的业务包括:{主营产品或行业}等多系列产品和服务。可以根据客户需求开发出多种不同功能的产品,深受客户的好评。公司与行业上下游之间建立了长久亲密的合作关系,确保半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪在技术上与行业内保持同步。产品质量按照行业标准进行研发生产,绝不因价格而放弃质量和声誉。在市场竞争日趋激烈的现在,我们承诺保证半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪质量和服务,再创佳绩是我们一直的追求,我们真诚的为客户提供真诚的服务,欢迎各位新老客户来我公司参观指导。

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