灰度光刻基本参数
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型号
  • 齐全
  • 类型
  • 双光子微纳光刻系统
  • 规格
  • QuantumX
  • 厂家
  • Nanoscribe
  • 产地
  • 德国
灰度光刻企业商机

Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系统,用于快速原型制作和晶圆级批量生产,以充分挖掘3D微纳加工在科研和工业生产领域的潜力。该系统是基于双光子聚合技术(2PP)的专业激光直写系统,可为亚微米精度的2.5D和3D物体的微纳加工提供极高的设计自由度。Quantum X shape可实现在6英寸的晶圆片上进行高精度3D微纳加工。这种效率的提升对于晶圆级批量生产尤其重要,这对于科研和工业生产领域应用有着重大意义。全新Quantum X shape作为Nanoscribe工业级无掩膜光刻系统Quantum X产品系列的第二台设备,可实现在25 cm²面积内打印任何结构,很大程度推动了生命科学,微流体,材料工程学中复杂应用的快速原型制作。Quantum X shape作为具备光敏树脂自动分配功能的直立式打印系统,非常适合标准6英寸晶圆片工业批量加工制造。Quantum X是全球头一台灰度光刻激光直写系统。湖南Nanoscribe灰度光刻技术3D打印

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光子集成电路 (Photonic Integrated Circuit,PIC) 与电子集成电路类似,但不同的是电子集成电路集成的是晶体管、电容器、电阻器等电子器件,而光子集成电路集成的是各种不同的光学器件或光电器件,比如激光器、电光调制器、光电探测器、光衰减器、光复用/解复用器以及光放大器等。集成光子学可较广地应用于各种领域,例如数据通讯,激光雷达系统的自动驾驶技术和YL领域中的移动感应设备等。而光子集成电路这项关键技术,尤其是微型光子组件应用,可以很大程度缩小复杂光学系统的尺寸并降低成本。光子集成电路的关键技术还在于连接接口,例如光纤到芯片的连接,可以有效提高集成度和功能性。类似于这种接口的制造非常具有挑战性,需要权衡对准、效率和宽带方面的种种要求。针对这些困难,科学家们提出了宽带光纤耦合概念,并通过Nanoscribe的双光子微纳3D打印设备而制造的3D耦合器得以实现。广东Nanoscribe灰度光刻微纳加工系统Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司为您了解成熟的灰度光刻技术。

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我们往往需要通过灰度光刻的方式来实现微透镜阵列结构,灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版(掩膜接触式光刻)或者计算机控制激光束或者电子束剂量从而达到在某些区域完全曝透,而某些区域光刻胶部分曝光,从而在衬底上留下3D轮廓形态的光刻胶结构(如下图4所示,八边金字塔结构)。微透镜阵列也是类似,可以通过剂量分布的控制来控制其轮廓形态。需要注意,灰度光刻方法获得的微透镜阵列的表面粗糙度相比于热回流和喷墨法获得的透镜要大的多,约为Ra=100nm,前两者可以会的Ra=50nm的球面。微纳3D打印这种方法与灰度光刻有点类似,但是原理不同,我们常见的微纳3D打印技术是双光子聚合,利用该技术我们理论上可以获得任意想要的结构,不仅只是微透镜阵列结构(如下图5所示),该方法的优势是可以完全按照设计获得想要的结构,后续可以通过LIGA工艺获得金属模具,并通过纳米压印技术进行复制。

    Nanoscribe是一家德国双光子增材制造系统制造商,2019年6月25日,南极熊从外媒获悉,该公司近日推出了一款新型的机器QuantumX。该系统使用双光子光刻技术制造纳米尺寸的折射和衍射微光学元件,其尺寸可小至200微米。根据Nanoscribe的联合创始人兼CSOMichaelThiel博士的说法,“Beer's定律对当今的无掩模光刻设备施加了强大的限制,QuantumX采用双光子灰度光刻技术,克服了这些限制,提供了前所未有的设计自由度和易用性,我们的客户正在微加工的前沿工作。“Nanoscribe成立于卡尔斯鲁厄理工学院,现在在上海设有子公司,在美国设有办事处。该公司在财务和技术上获得了蔡司的大力支持,蔡司是德国历史特别悠久,规模比较大的光学系统制造商之一。纳米标记系统基于双光子吸收,这是一种分子被激发到更高能态的过程。为了使用双光子工艺制造3D物体,使用含有单体和双光子活性光引发剂的凝胶作为原料。将激光照射到光敏材料上以形成纳米尺寸的3D打印物体,其中吸收的光的强度特别高。 Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司为您揭秘双光子灰度光刻系统的应用。

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Nanoscribe双光子聚合技术所具有的高设计自由度,可以在各种预先构图的基板上实现波导和混合折射衍射光学器件等3D微纳加工制作。结合Nanoscribe公司的高精度定位系统,可以按设计需要精确地集成复杂的微纳结构。由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于特别高分辨率微纳3D打印的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有特别高的形状精度,属于目前市场上易于操作的“负胶”。IP树脂作为高效的打印材料,是Nanoscribe微纳加工解决方案的基本组成部分之一。我们提供针对优化不同光刻胶和应用领域的高级配套软件,从而简化3D打印工作流程并加快科研和工业领域的设计迭代周期,包括仿生表面,微光学元件,机械超材料和3D细胞支架等。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司邀您一起探讨双光子灰度光刻系统。湖北高分辨率灰度光刻无掩膜激光直写

想要了解灰度光刻技术的运用,欢迎咨询Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司。湖南Nanoscribe灰度光刻技术3D打印

公司技术团队由一群仪器仪表领域内具有丰富的经验的工程师组成。业务范围覆盖至PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统等。仪器仪表目前国内很多高阶产品仍主要依赖于进口,就进来的新品来看,国外产品多为高精尖产品,国内虽然也有新技术和新产品的出现,但是主要仍出现在温湿度等低端产品。所以替代进口空间大,前景广阔。其次,我国的新型工业化进程,带动了各个工业领域对自动化的需求,从而也带来了仪器仪表产业的繁荣。我国对于各大行业落实节能减排指标、关停落后产能等一系列强制性措施都在一定程度上扩大了仪器仪表行业的市场规模。政策助力对推动经济发展、促进相关行业技术升级、打破国外PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统垄断、提高PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统国产化率及国产替代等方面具有重要战略意义,近年来我国密集出台涉及仪器仪表行业及相关应用领域的产业政策,在政策支持下,我国本土企业有望突出重围。湖南Nanoscribe灰度光刻技术3D打印

纳糯三维科技(上海)有限公司目前已成为一家集产品研发、生产、销售相结合的生产型企业。公司成立于2017-11-08,自成立以来一直秉承自我研发与技术引进相结合的科技发展战略。公司具有PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统等多种产品,根据客户不同的需求,提供不同类型的产品。公司拥有一批热情敬业、经验丰富的服务团队,为客户提供服务。依托成熟的产品资源和渠道资源,向全国生产、销售PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统产品,经过多年的沉淀和发展已经形成了科学的管理制度、丰富的产品类型。纳糯三维科技(上海)有限公司通过多年的深耕细作,企业已通过仪器仪表质量体系认证,确保公司各类产品以高技术、高性能、高精密度服务于广大客户。欢迎各界朋友莅临参观、 指导和业务洽谈。

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