文章中介绍了高精度3D打印，并重点讲解了先进的打印材料是如何让双光子聚合技术应用锦上添花的。Nanoscribe公司的Photonic Professional GT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程，实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造，可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。 Nanoscribe的双光子灰度光刻激光直写技术(2GL ®)可用于工业领域2.5D微纳米结构原型母版制作。2GL通过创新的设计重新定义了典型复杂结构微纳光学元件的微纳加工制造。该技术结合了灰度光刻的出色性能，以及双光子聚合的亚微米级分辨率和灵活性。Nanoscribe公司双光子聚合（2PP）技术结合增材制造可以实现超越二维微流体平面的三维结构几何形状的制作。双光子聚合Nanoscribe设备
对于光纤上打印的SERS探针，研究人员必须克服几个制造上的挑战。首先，他们设计了一个定制的光纤支架，可以在光纤的切面上打印。然后，打印的物体必须与光纤的重点部分完全对齐，以激发制造的拉曼热点。剩下的一个挑战，特别是对于像单体阵列这样的丝状结构，是对可能倾斜的基材表面的补偿。光纤倾斜的基材表面导致SERS活性微结构的产量很低。为了推动光学领域的创新以及在医疗设备的应用和光学传感的发展，例如光纤SERS探头，Nanoscribe近期推出了新的3D打印系统QuantumXalign。凭借其专有的在光纤上的打印设置和在所有空间方向上的倾斜校正，新的3D打印系统可能已经为在光纤上打印SERS探针的挑战提供了答案，并为进一步改进和新的创新奠定了基础。 浙江高分辨率Nanoscribe生物工程Nanoscribe公司的3D微纳加工技术推动着光子电路的研究和创新。
**是全世界一个主要死亡原因，2020年有近1000万人死于**[1]。而其中胶质母细胞瘤是一种极具破坏性的脑**，其*细胞增殖非常快且具有**性。为了研究、***和破坏脑肿瘤细胞，研究人员正在研究使用质子放射***，该***手段已被证明在不同**类型中比x射线放射***更有效和微创的技术。然而，质子放射***的成本很高，这使得在动物和人类身上进行的试验也变得非常昂贵，几乎无法进行。质子放射***的高成本也导致缺乏从细胞水平了解质子对胶质母细胞瘤影响的临床研究。体外模型为评估*细胞对药物和辐射的反应提供了一个平台。然而，由于无法模拟体内自然发生的3D环境，传统2D单层细胞培养存在很大局限性。为了寻找更真实的模拟环境，代尔夫特理工大学（DelftUniversityofTechnology）的科学家们利用Nanoscribe的3D微纳加工系统制作了3D工程细胞微环境，并且***次在质子束放射实验中研究了所培养的胶质母细胞瘤细胞3D打印支架，以探究其对辐射的反应。令人印象深刻的是，该实验结果显示，与2D单层细胞相比，3D工程细胞培养中的DNA损伤得到了***降低。
Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系统，用于快速原型制作和晶圆级批量生产，以充分挖掘3D微纳加工在科研和工业生产领域的潜力。该系统是基于双光子聚合技术（2PP）的专业激光直写系统，可为亚微米精度的2.5D和3D物体的微纳加工提供极高的设计自由度。Quantum X shape可实现在6英寸的晶圆片上进行高精度3D微纳加工。这种效率的提升对于晶圆级批量生产尤其重要，这对于科研和工业生产领域应用有着重大意义。总而言之，该系统拓宽了3D微纳加工在多个科研领域和工业行业应用的更多可能性（如生命科学、材料工程、微流体、微纳光学、微机械和微电子机械系统（MEMS）等）。全新Quantum X shape作为Nanoscribe工业级无掩膜光刻系统Quantum X产品系列的第二台设备，可实现在25 cm²面积内打印任何结构，很大程度推动了生命科学，微流体，材料工程学中复杂应用的快速原型制作。Nanoscribe 在2017年底在上海成立了中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司。
Nanoscribe双光子灰度光刻系统Quantum X ,Nanoscribe的全球头一次创建的工业级双光子灰度光刻无掩模光刻系统Quantum X，适用于制造微光学衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球头一次创建工业级双光子灰度光刻无掩模光刻系统Quantum X，适用于制造微光学衍射以及折射元件。 利用Nanoscribe的双光子聚合微纳3D打印技术，斯图加特大学和阿德莱德大学的研究人员联手澳大利亚医学研究中心的科学家们新研发的微型内窥镜。将12050微米直径的微光学器件直接打印在光纤上，构建了一款功能齐全的超薄像差校正光学相干断层扫描探头。这是迄今有报道的尺寸低值排名优先的自由曲面3D成像探头，包括导管鞘在内的直径只为0.457 mm。Nanoscribe Photonic Professional GT2使用双光子聚合(2PP)来产生几乎任何3D形状。德国Nanoscribe微光学
Nanoscribe是德国高精度增材制造系统的先驱。双光子聚合Nanoscribe设备
Nanoscribe 公司推出针对微光学元件（如微透镜、棱镜或复杂自由曲面光学器件）具有特殊性能的新型打印材料，IP-n162光刻胶。全新光敏树脂材料具有高折射率，高色散和低阿贝数的特性，这些特性对于3D微纳加工创新微光学元件设计尤为重要，尤其是在没有旋转对称性和复合三维光学系统的情况下。由于在红外区域吸收率不高，因此光敏树脂成为了红外微光学的优先，同时也是光通讯、量子技术和光子封装等需要低吸收损耗应用的相当好的选择。全新IP-n162光刻胶是为基于双光子聚合技术的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可实现具有高精度形状精度的创新微光学设计，并将高精度微透镜和自由曲面3D微光学提升到一个新的高度。由于其光学特性，高折射率聚合物可促进许多运用突破性技术的各种应用，例如光电应用中，他们可以增加显示设备、相机或投影仪镜头的视觉特性。此外，这些材料在3D微纳加工技术应用下可制作更高阶更复杂更小尺寸的3D微光学元件。例如图示中可应用于微型成像系统，内窥镜和AR/VR3D感测的微透镜。双光子聚合Nanoscribe设备
纳糯三维科技（上海）有限公司成立于2017-11-08，位于上海市徐汇区桂平路391号3号楼11层1106A室，公司自成立以来通过规范化运营和高质量服务，赢得了客户及社会的一致认可和好评。本公司主要从事PPGT2，Quantum X系列，双光子微纳激光直写系统，双光子微纳光刻系统领域内的PPGT2，Quantum X系列，双光子微纳激光直写系统，双光子微纳光刻系统等产品的研究开发。拥有一支研发能力强、成果丰硕的技术队伍。公司先后与行业上游与下游企业建立了长期合作的关系。Nanoscribe以符合行业标准的产品质量为目标，并始终如一地坚守这一原则，正是这种高标准的自我要求，产品获得市场及消费者的高度认可。我们本着客户满意的原则为客户提供PPGT2，Quantum X系列，双光子微纳激光直写系统，双光子微纳光刻系统产品售前服务，为客户提供周到的售后服务。价格低廉优惠，服务周到，欢迎您的来电！
