经过10年的市场销售，Nanoscribe已帮助了许多科学和工业领域的开拓者和创新的带领者，例如，为ICT生产DOE，微光学以及光子引线键合。他们的新IP-Visio在30个国家/地区拥有1,000多个用户，受到业界的强烈关注。2019年6月该公司推出了一款新型的机器QuantumX，使用双光子光刻技术制造纳米尺寸的折射和衍射微光学元件，尺寸可小至200微米。根据Nanoscribe的联合创始人兼CSOMichaelThiel博士的说法，“Beer's定律对当今的无掩模光刻设备施加了强大的限制，QuantumX采用双光子灰度光刻技术，克服了这些限制，提供了前所未有的设计自由度和易用性，我们的客户正在微加工的前沿工作。“。 Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司邀您一起探讨灰度光刻技术的发展现状。黑龙江灰度光刻系统
Nanoscribe是卡尔斯鲁厄理工学院（KIT）的子公司，开发并提供用于纳米、微米和中尺度的3D打印机以及光敏材料和工艺解决方案。其口号是：“我们让小物件变得重要”，公司创始人开发出一种技术，对智能手机、手持设备和医疗技术领域至关重要的3D打印产品。通过基于双光子聚合（2PP）的3D打印机投入市场，他们已经为全球的大学和新兴行业提供了新的解决方案，致力于3D微打印生命科学研究以及纳米级3D打印光学，甚至利用他们的技术来开发创新的设备，例如用于类固醇洗脱的3D微支架人工耳蜗。根据Nanoscribe的联合创始人兼CSOMichaelThiel博士的说法，“Beer's定律对当今的无掩模光刻设备施加了强大的限制，QuantumX采用双光子灰度光刻技术，克服了这些限制，提供了前所未有的设计自由度和易用性，我们的客户正在微加工的前沿工作。“纳米标记系统基于双光子吸收，这是一种分子被激发到更高能态的过程。湖北超高速灰度光刻系统想要了解更多双光子灰度光刻技术，请致电Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司。
作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统，QuantumX可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版，可适用于批量生产的流水线工业程序，例如注塑，热压花和纳米压印等加工流程，从而拓展微纳加工工业领域的应用。2GL与这些批量生产流水线工业程序的结合得益于新技术的亚微米分辨率和灵活性的特点，同时缩短创新微纳光学器件（如衍射和折射光学器件）的整体制造时间。Nanoscribe的QuantumX打印系统非常适合DOE的制作。该系统的无掩模光刻解决方案可以满足衍射光学元件所需的横向和纵向高分辨率要求。基于双光子灰度光刻技术(2GL®)的QuantumX打印系统可以实现一气呵成的制作，即一步打印多级衍射光学元件，并以经济高效的方法将多达4,096层的设计加工成离散的或准连续的拓扑。
全新的Quantum X无掩模光刻系统能够数字化制造高精度2维和2.5维光学元件。 作为世界上头一个双光子灰度光刻系统，在充分满足设计自由的同时，一步制造具有光学质量表面以及高形状精度要求的微光学元件，达到所见即所得。全新的Nanoscribe Quantum X系统适用于工业生产中所需手板和模具的定制化精细加工。该无掩模光刻系统颠覆了自由形状的微透镜、微透镜阵列和多级衍射光学元件的传统制作工艺。而且Quantum X提供了完全的设计自由度、高速的打印效率、以及增材制造复杂结构超光滑表面所需的高精度。快速、准确的增材制造工艺极大地缩短了设计迭代周期，实现了低成本的微纳加工。Nanoscribe双光子灰度光刻系统Quantum X适用于制造微光学衍射以及折射元件。
在双光子灰度光刻工艺中，激光功率调制和动态聚焦定位在高扫描速度下可实现同步进行，以便对每个扫描平面进行全体素大小控制。Nanoscribe称，QuantumX在每个扫描区域内可产生简单和复杂的光学形状，具有可变的特征高度。离散和精确的步骤，以及本质上为准连续的形貌，可以在一个步骤中完成打印，而不需要多步光刻或多块掩模制造。Quantum X支持多种类型衬底，包括透明和不透明的衬底，可用于比较大尺寸为6英寸的晶圆。Nanoscribe展示了其公司易于操作的光刻机，允许高纵横比，支持高结构，无需掩模、旋涂和预烘烤或后烘烤。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司为您讲解双光子灰度光刻技术的运用。德国2GL灰度光刻激光直写
Nanoscribe中国分公司-纳糯三维带您了解Nanoscribe高速灰度光刻微纳加工打印系统。黑龙江灰度光刻系统
QuantumX新型超高速无掩模光刻技术的中心是Nanoscribe独有的双光子灰度光刻技术（2GL®）。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺很大程度缩短了企业的设计迭代，打印样品结构既可以用作技术验证原型，也可以用作工业生产上的加工模具。这项技术的关键是在高速扫描下使激光功率调制和动态聚焦定位达到精细同步，这种智能方法能够轻松控制每个扫描平面的体素大小，并在不影响速度的情况下，使得样品精密部件能具有出色的形状精度和超光滑表面。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性*结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。 黑龙江灰度光刻系统
纳糯三维科技（上海）有限公司是我国PPGT2，Quantum X系列，双光子微纳激光直写系统，双光子微纳光刻系统专业化较早的外商独资企业之一，公司位于上海市徐汇区桂平路391号3号楼11层1106A室，成立于2017-11-08，迄今已经成长为仪器仪表行业内同类型企业的佼佼者。公司主要提供作为Nanoscribe在中国全资子公司，纳糯三维科技（上海）有限公司可进行三维打印科技领域内的技术开发，技术转让，技术咨询，技术服务，三维打印设备，光电机一体化设备和相关零配件的批发，进出口，佣金代理，并提供相关配套服务，贸易信息咨询，企业管理咨询。等领域内的业务，产品满意，服务可高，能够满足多方位人群或公司的需要。将凭借高精尖的系列产品与解决方案，加速推进全国仪器仪表产品竞争力的发展。
