吉林高灵敏度纳米粒度分析仪报价

CPS纳米粒度分析仪测量参数：粒径、粒形和浓度；粒径范围：0.1-3600μm；浓度范围：高达109颗粒/cm3(对1μm颗粒)；供样方式：液体、干粉、表面；系统规格/重量电源：665L×280W×183H(mm)；14Kg；100-130V，205-240V，50/60Hz，100VA；2mW He-Ne，632.8nm，硅PIN二极管检测器；全量程的0.3%，小可达0.2μm；同步频闪光源，亮度和持续时间可调；频闪率；可达30次/秒。分辨率B&W CCD摄像机。NTSC 840×640像素；PAL768×572像素。Windows XP操作系统，检测报告自动生成，符合FDA 21 CFRPART11标准。ISO标准；符合多项ISO方法标准；测量池模块：液体、乳液/不透明液体、干粉、纤维、磁性颗粒、加热液体及气溶胶。驰光机电科技有限公司从国内外引进了一大批先进的设备，实现了工程设备的现代化。吉林高灵敏度纳米粒度分析仪报价

测量低密度颗粒：示差沉降法过去一般用于测量密度大于分散介质液体密度的颗粒，CPS开发了一项新的技术技术(US Patent5,786,898)。很多用常规示差沉降法很难或者不可能分析的材料(例如油乳液、蜡乳液、粘性乳液或脂质体)，现在可以方便地使用CPS进行分析，而且精度很高。速度调节：CPS开发了一种特殊的圆盘设计使得在分析过程中可以调节圆盘的转速，而不会对沉降液体产生扰动，转速可以在20倍范围内升高或者降低，这样一来就使得分析的动态范围几乎增大了20倍。西藏激光粒度分析仪厂家山东驰光机电科技有限公司过硬的产品质量、优良的售后服务、认真严格的企业管理，赢得客户的信誉。

而CMP工艺离不开研磨料的发展，那么对于磨料的颗粒粒度表征就显得尤为重要了。CMP就是用化学腐蚀和机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平滑处理。将硅片固定在抛光头的较下面，将抛光垫放置在研磨盘上，抛光时，旋转的抛光头以一定的压力压在旋转的抛光垫上，由亚微米或纳米磨粒和化学溶液组成的研磨液在硅片表面和抛光垫之间流动，然后研磨液在抛光垫的传输和离心力的作用下，均匀分布其上，在硅片和抛光垫之间形成一层研磨液液体薄膜。

氧化锌可以应用于病毒载体制剂，并且病毒颗粒大小和病毒聚集对基于病毒的生物制品的下游加工、配方和混合有着巨大的影响此款设备在有关工艺优化和产品质量等重要问题上有重要的参考价值。CPS纳米粒度分析仪可以直观准确的表征病毒颗粒的团聚情况。CPS纳米粒度分析仪测定不同处理方式下病毒颗粒的团聚情况的结果，仪器使用转速为24,000转/分。可以明显看到病毒颗粒是否发生团聚现象，仪器分辨率很好。CPS利用差速离心沉降法的原理表征不同处理方式下病毒颗粒的沉降时间，以及病毒颗粒的团聚情况。驰光机电科技不断提高产品的质量。

使用CPS分析仪平行测定3次高纯氧化铝粉得到的叠加图，表明仪器的重复性较好，样品的粒径为0.586微米。分析氧化铝粉末时，为防止样品发生凝聚，需要添加入少量的乙酸。氧化锌ZnO粉末：氧化锌俗称锌白，是锌的一种氧化物。氧化锌是一种常用的化学添加剂，大量地应用于塑料、硅酸盐制品、合成橡胶、润滑油、油漆涂料、药膏、粘合剂、食品、电池、阻燃剂等产品的制作中。氧化锌的能带隙和激子束缚能较大，透明度高，有优良的常温发光性能，在半导体领域的液晶显示器、薄膜晶体管、发光二极管等产品中均有应用。驰光机电重信誉、守合同，严把产品质量关，热诚欢迎广大用户前来咨询考察，洽谈业务！西藏激光粒度分析仪厂家

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