江西高灵敏度纳米粒度分析仪价格

CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分，其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm，其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸，因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用！欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题！驰光机电科技敢于承担、克难攻坚。江西高灵敏度纳米粒度分析仪价格

仪器的主要参数为：测量范围：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋转速度可选：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，标准分析圆盘：CR-39聚合物（耐有机溶剂和水溶液），可选配：低密度样品分析扩展、变速圆盘；自动密度梯度液生成器（型号AG300）；自动进样器（型号AS200）；标定用标准颗粒。激光粒度仪根据光学衍射和散射的原理，从激光器发出的激光束经显微物镜聚集，滤波和准直后，变成直径约10mm的平行光束，该光束照射到待测的颗粒上，就发生了散射，散射光经傅立叶透镜后，照射到光电探测器上的任一点都对应于某一确定的散射角。安徽病毒颗粒分析仪哪家好驰光机电提供周到的解决方案，满足客户不同的服务需要。

而化学机械抛光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成电路芯片的一个关键制程，国内抛光所用关键材料CMP抛光垫，几乎全部依赖进口。CMP典型的抛光浆料都是纳米级发烟硅石(5Vol%，170-230nm)、高纯硅胶(9Vol%，6-80nm)、氧化铈(6Vol%，200-240nm)或氧化铝颗粒，它们的粒度或粒度分布必须小心地进行控制以免在抛光面上产生刮痕。CMP浆料的分散稳定性和保存期也是必须被认真考虑的重要环节。这种纳米浆料的使用浓度一般在(5-30W%)，容易聚集。随着贮存时间延长，它的粒度可能增大从而导致损害的产生。

CPS纳米粒度仪测量金刚石的粒径：金刚石微粉是指颗粒度细于36/54微米的金刚石颗粒，金刚石微粉硬度高、耐磨性好。大量用于机械、航天、光学仪器、玻璃、陶瓷、电子、石油、地质、工业部门，用于制作PCD(聚晶金刚石)、 PDC(金刚石复合片)、陶瓷结合剂、金属结合剂、电镀产品；制作拉丝模、电镀磨具，陶瓷、金属结合剂磨具等；制造金刚石树脂结合剂弹性磨块等；用于精密机械、光学玻璃、精细陶瓷、宝石及半导体等产品的研磨抛光。CPS纳米粒度分析仪测量金刚石微粉的粒径。驰光机电科技愿和各界朋友真诚合作一同开拓。

一般离心式分析仪的动态范围为40，但是CPS系统的动态范围可以超过1000。过去很多需要消耗整夜时间而且低精度的测量，现在可以使用示差沉降法快速测量，而得到高精度的结果。低噪声光源/检测头：CPS纳米粒度分析仪的光学系统和电路经过精心设计以降低信号中的噪声，信噪比通常为50000左右，低噪声使得系统具有很高的灵敏度，可检测窄峰的重量通常小于0.01微克，这使得对于微克样品的常规高精度分析变得可行。CPS系统以合理的价格提供高精度、高动态范围和高灵敏度的粒度分析解决方案。诚信是企业生存和发展的根本。安徽病毒颗粒分析仪哪家好

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CPS利用差速离心沉降法的原理表征不同处理方式下病毒颗粒的沉降时间，以及病毒颗粒的团聚情况，峰值清晰可见，为疫苗的研发生产提供全新的解决方案。应用范围：CPS纳米粒度分析仪可测量粒度分布在5nm-75微米之间的超细粉，大量应用于以下领域。化工：聚合物乳胶和乳液，助剂及添加剂(纳米碳酸钙CaCO，重晶石3CaSO)，白炭黑SiO2，金刚石、磨料、陶瓷、碳化硅、氮化硅等，抗冲击增强颗粒。制药/生物：纳米金和纳米银，病毒和类病毒颗粒，细胞和细胞碎片，蛋白质，脂质体。江西高灵敏度纳米粒度分析仪价格

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