天津病毒颗粒分析仪价格

CPS纳米粒度分析仪操作权限和文件存取安全设置；屏显离心转速控制；高级数据分析功能，包括噪声过滤和分辨率加强。样品应用：地质学，土壤、粘土、沙、高岭土；环境；制药/生化；化学，杀虫剂、分散剂、催化剂、树脂、乳液、防腐剂、颜料、涂料、；陶瓷和金属，铝、硅、磁粉、钨、烧结制品、不锈钢、钴；能源，煤、燃料、浆液、页岩油乳剂；粉煤灰；食品；重工业，聚合物、油滴、磨损颗粒、白垩、填料、调色剂、纸浆/纸、PVC、水泥；生命科学。驰光机电始终以适应和促进发展为宗旨。天津病毒颗粒分析仪价格

各种金属粉体：如铝粉、锌粉、钼粉、钨粉、镁粉、铜粉以及稀土金属粉、合金粉等。其它粉体：如催化剂、水泥、磨料、医药、农药、食品、涂料、染料、荧光粉、河流泥沙、陶瓷原料、各种乳浊液等。在现代装备制造业中的各种润滑油、液压油、燃料油、超导体、绝缘材料、无线电技术等行业越来越离不开激光粒度检测技术，在这些领域，激光粒度仪发挥着越来越大的作用。粒度测量仪可用于建筑材料生产种，建筑业大量使用的水泥，产品的粒度分布是影响质量的非常重要的因素之一。吉林高灵敏度纳米粒度分析仪厂家驰光机电科技有限公司具备雄厚的实力和丰富的实践经验。

CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分，其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm，其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸，因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用！欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题！

而化学机械抛光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成电路芯片的一个关键制程，国内抛光所用关键材料CMP抛光垫，几乎全部依赖进口。CMP典型的抛光浆料都是纳米级发烟硅石(5Vol%，170-230nm)、高纯硅胶(9Vol%，6-80nm)、氧化铈(6Vol%，200-240nm)或氧化铝颗粒，它们的粒度或粒度分布必须小心地进行控制以免在抛光面上产生刮痕。CMP浆料的分散稳定性和保存期也是必须被认真考虑的重要环节。这种纳米浆料的使用浓度一般在(5-30W%)，容易聚集。随着贮存时间延长，它的粒度可能增大从而导致损害的产生。山东驰光机电科技有限公司产品适用范围广，产品规格齐全，欢迎咨询。

技术优势：CPS系统优良性能的基础是它先进的示差沉降技术。高转速：CPS可以支持的较高转速为24,000转/分。对于超细颗粒，其分析速度比其它产品快倍。使用速度调节技术，可以对粒度分布范围较广的样品进行分析。对于在其它分析仪上很多非常耗时(数小时或更长)的样品，CPS可以快速得到结果。高精度标定：CPS系统使用已知的标定颗粒进行标定，与美国国家标准和技术研究院(NIST)相兼容的标准保证了分析结果的一致性和精确度。使用内标法，也即把已知标定颗粒与待分析样品相混合，所得的峰值结果可以达到±0.25%的精度。驰光机电科技有限公司过硬的产品质量、完善的售后服务、认真严格的企业管理，赢得客户的信誉。天津粒度分析仪报价

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一般离心式分析仪的动态范围为40，但是CPS系统的动态范围可以超过1000。过去很多需要消耗整夜时间而且低精度的测量，现在可以使用示差沉降法快速测量，而得到高精度的结果。低噪声光源/检测头：CPS纳米粒度分析仪的光学系统和电路经过精心设计以降低信号中的噪声，信噪比通常为50000左右，低噪声使得系统具有很高的灵敏度，可检测窄峰的重量通常小于0.01微克，这使得对于微克样品的常规高精度分析变得可行。CPS系统以合理的价格提供高精度、高动态范围和高灵敏度的粒度分析解决方案。天津病毒颗粒分析仪价格

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