增材制造基本参数
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型号
  • 齐全
  • 类型
  • 双光子微纳激光直写
  • 规格
  • 双光子聚合
  • 产地
  • 德国
增材制造企业商机

增材制造(Additive Manufacturing,AM)俗称3D打印,融合了计算机辅助设计、材料加工与成型技术、以数字模型文件为基础,通过软件与数控系统将金属材料、非金属材料以及医用生物材料,按照挤压、烧结、熔融、光固化、喷射等方式逐层堆积,制造出实体物品的制造技术。相对于传统的、对原材料去除-切削、组装的加工模式不同,是一种“自下而上”通过材料累加的制造方法,从无到有。这使得过去受到传统制造方式的约束,而无法实现的复杂结构件制造变为可能。增材制造技术已经应用于多个领域,譬如航天、新材料、先进制造。上海双光子聚合增材制造

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   3D打印高性能增材制造技术摆脱了模具制造这一明显延长研发时间的关键技术环节,兼顾高精度、高性能、高柔性,可以快速制造结构十分复杂的零件,为先进科研事业速研发提供了有力的技术手段。在微光学领域,Nanoscribe表示,其3D打印解决方案“破坏和打破以前复杂的工作流程,克服了长期的设计限制,并实现了先进的微光驱动的前所未有的应用。 换句话说,Photonic Professional GT系列与您的平均3D打印机不同,因此可用于创建在其他机器上无法生产的功能性光学产品。该系列与正确的材料和工艺相结合,据称允许用户“直接制造具有比标准制造方法,高形状精度和光学平滑表面几何约束的聚合物微光学部件”。3D打印机还缩短了设计迭代阶段,允许用户在“短短几天”内将想法转化为功能原型上海微纳光刻增材制造3D微纳加工3D打印(3D Printing),又称作增材制造,是一种用digital file (数字文件) 生成一个三维物体的过程。

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3D打印公司Nanoscribe早期是德国卡尔斯鲁厄理工学院的分支机构,自此成为全球市场的高精度,微型3D打印技术和微光解决方案的提供商。德国3D打印公司Nanoscribe正在使用其Photonic Professional GT 3D打印机来制造包括标准折射微光学,自由光学元件,衍射光学元件和多透镜系统在内的微光学形状。德国增材制造公司表示,“将 3D打印技术 与用户友好的软件和创新材料相结合,导致可重复的精益流程”,使客户能够“克服当前的技术障碍”。 Nanoscribe使用其Photonic Professional GT 3D打印机,近期展示了如何使用双光子聚合工艺生产各种微光学形状。

增材制造技术能够简化光学器件的制造流程,缩短交货期并降低材料消耗。更重要的是,增材制造技术能够实现功能集成的优化设计方案,尤其在卫星光学系统制造领域,增材制造技术能够满足用户对轻型光学系统不断增长的需求,并实现下一代高附加值光学器件的制造。通过增材制造技术开发的下一代光学仪器中,将越来越多采用紧凑的功能集成设计,如集成隔热,冷却通道,局限的机械和热接口,以及将光学功能作为设备自身结构的一部分。紧凑集成化设计减少了组件装配过程中出现问题的风险,同时开辟了制造冷却光学系统,有源光学系统或自由曲面的新方式。陶瓷增材制造技术的净成形能力,还能够提高准确性,改善集成/结合过程的质量。在成就高附加值零件方面,3D打印的应用还包括很多,除了打印极度复杂的结构、打印混合材料,3D打印因为技术种类繁多也带来了高附加值零件的创新空间,例如3D打印感应器、3D打印多层电路、3D打印电池等等如需了解增材制造技术的应用场景请咨询Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻,刻蚀和对准工艺,衍射光学元件(DOE)的传统制造耗时长且成本高.Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司邀您一起探讨增材制造技术与产业的发展及前景分析。广东高精度增材制造无掩膜激光直写

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随着各行各业的发展及科技的进步,人们可以用3D打印创建在人体内传导药物的载体,可以用3D打印来建造房子。人们还可以用3D打印创作出精美的珠宝首饰和设计,甚至可以用这项技术做出巨大的艺术雕塑。Nanoscribe 公司专注于微观3D打印技术,通过该用户可以得到尺寸微小的高质量产品。全新推出的Quantum X平台新型超高速无掩模光刻技术主要是基于Nanoscribe双光子灰度光刻技术(2GL®)。该技术将灰度光刻的***性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了**复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。上海双光子聚合增材制造

纳糯三维科技(上海)有限公司是一家集研发、生产、咨询、规划、销售、服务于一体的生产型企业。公司成立于2017-11-08,多年来在PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统行业形成了成熟、可靠的研发、生产体系。主要经营PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统等产品服务,现在公司拥有一支经验丰富的研发设计团队,对于产品研发和生产要求极为严格,完全按照行业标准研发和生产。纳糯三维科技(上海)有限公司每年将部分收入投入到PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统产品开发工作中,也为公司的技术创新和人材培养起到了很好的推动作用。公司在长期的生产运营中形成了一套完善的科技激励政策,以激励在技术研发、产品改进等。纳糯三维科技(上海)有限公司以市场为导向,以创新为动力。不断提升管理水平及PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统产品质量。本公司以良好的商品品质、诚信的经营理念期待您的到来!

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