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实验室分析仪基本参数
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  • 驰光
  • 型号
  • 齐全
  • 加工定制
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一般离心式分析仪的动态范围为40,但是CPS系统的动态范围可以超过1000。过去很多需要消耗整夜时间而且低精度的测量,现在可以使用示差沉降法快速测量,而得到高精度的结果。低噪声光源/检测头:CPS纳米粒度分析仪的光学系统和电路经过精心设计以降低信号中的噪声,信噪比通常为50000左右,低噪声使得系统具有很高的灵敏度,可检测窄峰的重量通常小于0.01微克,这使得对于微克样品的常规高精度分析变得可行。CPS系统以合理的价格提供高精度、高动态范围和高灵敏度的粒度分析解决方案。驰光机电科技以质量求生存,以信誉求发展!陕西激光粒度粒形分析仪厂家

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驰光机电小编温馨提示:为了准确地测量颗粒直径,EyeTech必须区分在焦点中心的和离开焦点中心的交互作用,因为只有在焦点中心的交互信号才能提供真实的颗粒直径。这个可以采用脉冲形状过滤器可以实现。只有衍生信号窄的脉冲才被认为是在中心的交互信号,然后被加到粒径分布数据中。颗粒互相作用产生光阻:可记录每个颗粒数据,直接测量真实粒径,与光学及其他性质无关,粒径浓度均可检测,无需校正;仪器的光学测量系统(主机)与样品分散系统完全单独的。浙江高精度纳米粒度分析仪报价山东驰光机电科技有限公司生产的设备产品质量上乘。

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应用实例:测量高纯氧化铝粉。一般来说,含量大于99%的氧化铝称为高纯氧化铝,其特性有耐化学腐蚀、耐高温(正常使用在1600℃,短期1800℃)、耐骤冷骤热、密度高等。99.995%高纯氧化铝粉主要用于LED人造蓝宝石晶体、高级陶瓷、PDP荧光粉及其他高性能材料;99.99%高纯氧化铝粉用于高压钠灯、新型发光材料、特殊陶瓷、高级涂层、三基色、催化剂及其他高性能材料。粒度是高纯氧化铝粉产品的重要指标,CPS纳米粒度分析仪能给您带来确切稳定的测量结果。使用CPS分析仪平行测定3次高纯氧化铝粉得到的叠加图。

被测物料不溶于水,就用自来水作为试剂,以节约成本;被测物料在水中悬浮,可用乙醇将粉末湿润后放入样品槽;超声分散的时间为15-60秒,测试结果一直稳定,不可再变化,说明样粉已被充分分散。有些试样由于强度低,超声分散太长,有可能产生粉碎,使测试结果越来越细。有些试样不易分散,也可加长分散时间。激光粒度仪的相关知识点就先说到这里了,这款产品还有很多的常识等着各位来发现与了解,如果您还想要了解更多内容,还请先关注好我们,华致林小编会不定期在此跟大家分享更多的信息。驰光机电品牌价值不断提升。

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UHR型可达1%,良好性能:CPS高精度纳米粒度分析仪能够提供高分辨率准确的分析结果,即使对于使用其它分析方法非常难分析的样品,CPS依然能够提供满意的分析结果。高分辨率:CPS具有强大的分辨率,粒径差别在2%以内的窄峰可以被完全分辨出来。所示样品包含五种不同的聚苯乙烯标定颗粒,在图中可以清楚地看到它们完全被分辨出来呈现为五个单独的粒度峰。高准确度:可追溯&校准到NIST标准颗粒的可靠、重复性结果。高精度:与SEM/显微镜分析结果的对比。驰光机电科技有限公司以质量求生存,以信誉求发展!福建高灵敏度纳米粒度分析仪

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CPS纳米粒度分析仪样本分散系统:自动液体循环、干粉分散器、粉料送样器、温度控制器、气溶胶控制器。粒度仪的较佳选择:EyeTech可以提供颗粒系统粒径、形状和浓度等方面的总体信息。具有多样化的功能,可以:监测动力学过程;提供标准的体积和数量分布的结果。激光和图像通道的结合:对球形、非球形及细长颗粒的精确定性分析;可同时测量粒径、粒形和浓度;多种模块配置可满足不同类型的干法及湿法检测需求;测量过程中可实时观察样品颗粒。陕西激光粒度粒形分析仪厂家

山东驰光机电科技有限公司是以分析仪,在线监测,在线分析,流量计研发、生产、销售、服务为一体的机电科技领域内的技术开发、技术咨询、技术服务;机电设备、仪器仪表设计、生产、销售;阀门、换热器设备销售。公司生产销售分析仪表,引进德国技术和零配件完全原装进口,高标准生产。产品为浊度分析仪, 色度分析仪,浓度分析仪,水中油分析仪,油中水分析仪,微量水分析仪,适用于压力比较高 325bar,温度比较高 240℃的场合。企业,公司成立于2019-08-22,地址在南定镇亿达路38号工业园区1-301室。至创始至今,公司已经颇有规模。公司主要产品有分析仪,在线监测,在线分析,流量计等,公司工程技术人员、行政管理人员、产品制造及售后服务人员均有多年行业经验。并与上下游企业保持密切的合作关系。依托成熟的产品资源和渠道资源,向全国生产、销售分析仪,在线监测,在线分析,流量计产品,经过多年的沉淀和发展已经形成了科学的管理制度、丰富的产品类型。山东驰光机电科技有限公司以先进工艺为基础、以产品质量为根本、以技术创新为动力,开发并推出多项具有竞争力的分析仪,在线监测,在线分析,流量计产品,确保了在分析仪,在线监测,在线分析,流量计市场的优势。

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CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展,电子器件尺寸缩小,要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分,其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm,其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸,因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用!欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题!驰光产品适用范围广,产品规格齐全,欢迎咨询。江苏粒度分析仪哪家好UHR型可达1%,良好性能:CPS高精度纳米粒度分析仪能够提供高分辨率准确的分析结果...

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