灰度光刻基本参数
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型号
  • 齐全
  • 类型
  • 双光子微纳光刻系统
  • 规格
  • QuantumX
  • 厂家
  • Nanoscribe
  • 产地
  • 德国
灰度光刻企业商机

Nanoscribe双光子灰度光刻系统QuantumX,Nanoscribe的全球头一次创建的工业级双光子灰度光刻无掩模光刻系统QuantumX,适用于制造微光学衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球头一次创造工业级双光子灰度光刻无掩模光刻系统QuantumX,适用于制造微光学衍射以及折射元件。由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于特别高分辨率微纳3D打印的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有特别高的形状精度,属于目前市场上易于操作的“负胶”。IP树脂作为高效的打印材料,是Nanoscribe微纳加工解决方案的基本组成部分之一。更多灰度光刻技术详情,欢迎咨询Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司。山东德国灰度光刻三维光刻

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德国Nanoscribe高速灰度光刻微纳加工打印系统,该系统是first基于双光子灰度光刻技术(2GL®)的精密加工微纳米打印系统,可应用于折射和衍射微光学。Nanoscribe高速灰度光刻微纳加工打印的面世**着Nanoscribe已进军现代微加工工业领域。具有全自动化系统的QuantumX无论从外形或者使用体验上都更符合现代工业需求。下面讲讲在衍射微光学中的应用:多级衍射光学元件双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。广东灰度光刻技术3D打印如果了解双光子灰度光刻技术,敬请咨询Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用双光子聚合(2PP)来产生几乎任何3D形状:晶格、木堆型结构、自由设计的图案、顺滑的轮廓、锐利的边缘、表面的和内置倒扣以及桥接结构。Photonic Professional GT2 结合了设计的灵活性和操控的简洁性,以及非常广的材料-基板选择。因此,它是一个理想的科学仪器和工业快速成型设备,适用于多用户共享平台和研究实验室。Nanoscribe的3D无掩模光刻机目前已经分布在30多个国家的前沿研究中,超过1,000个开创性科学研究项目是这项技术强大的设计和制造能力的特别好证明。欢迎咨询

   Nanoscribe成立于2007年,总部位于德国卡尔斯鲁厄,拥有卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)的技术背景和卡尔蔡司公司的支持。经过十几年的不断研究和成长,Nanoscribe已成为微纳米生产的先驱和3D打印市场的带领者,推动着诸如力学超材料,微纳机器人,再生医学工程,微光学等创新领域的研究和发展,并提供优化制程方案。全新的QuantumX无掩模光刻系统能够数字化制造高精度2维和。作为世界上头一个双光子灰度光刻系统,在充分满足设计自由的同时,一步制造具有光学质量表面以及高形状精度要求的微光学元件,达到所见即所得。PhotonicProfessionalGT2是全球精度排名头一位的3D微纳打印机。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司为您讲解灰度光刻的特点和应用。

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Quantum X shape在3D微纳加工领域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面结构应用上突破性的双光子灰度光刻(2GL ®)。全新的Quantum X shape的高精度有赖于其高能力的体素调制比和超精细处理网格,从而实现亚体素的尺寸控制。此外,受益于双光子灰度光刻对体素的微调,该系统在表面微结构的制作上可达到超光滑,同时保持高精度的形状控制。它不只是应用于生物医学、微光学、MEMS、微流道、表面工程学及其他很多领域中器件的快速原型制作的理想工具,同时也成为基于晶圆的小结构单元的批量生产的简易工具。通过系统集成触控屏控制打印文件来很大程度提高实用性。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维带您了解Nanoscribe高速灰度光刻微纳加工打印系统。高分辨率灰度光刻

Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司邀您一起探讨灰度光刻技术的发展现状。山东德国灰度光刻三维光刻

2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合,可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。该系统配备三个用于实时过程控制的摄像头和一个树脂分配器。为了简化硬件配置之间的转换,物镜和样品夹持器识别会自动运行。多层衍射光学元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通过在扫描平面内调制激光功率来完成,从而减少多层微制造所需的打印时间。Nanoscribe表示,折射微光学也受益于2GL工艺的加工能力,可制作单个光学元件、填充因子高达100%的阵列,以及可以在直接和无掩模工艺中实现各种形状,如球面和非球面透镜。山东德国灰度光刻三维光刻

纳糯三维科技(上海)有限公司是一家集研发、生产、咨询、规划、销售、服务于一体的生产型企业。公司成立于2017-11-08,多年来在PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统行业形成了成熟、可靠的研发、生产体系。主要经营PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统等产品服务,现在公司拥有一支经验丰富的研发设计团队,对于产品研发和生产要求极为严格,完全按照行业标准研发和生产。我们以客户的需求为基础,在产品设计和研发上面苦下功夫,一份份的不懈努力和付出,打造了Nanoscribe产品。我们从用户角度,对每一款产品进行多方面分析,对每一款产品都精心设计、精心制作和严格检验。纳糯三维科技(上海)有限公司以市场为导向,以创新为动力。不断提升管理水平及PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统产品质量。本公司以良好的商品品质、诚信的经营理念期待您的到来!

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