上海金相抛光高分子磨抛耗材按钮操作

磨抛耗材，金相实验室比较常用的研磨消耗品就是金相砂纸了，其中碳化硅金相砂纸比较常用，一般都是水砂纸，研磨时只需用水即可。金相砂纸是常规金相制样粗磨和精磨的必要工序。但是，金相砂纸的标号从粗到细有20种之多，无论美标还是欧标，亦或只是国标均是如此。一般来讲，如何选择金相砂纸研磨方案，跟材料种类和性质有关系，但关系不大，因为无论材料软硬都要经过粗磨、细磨、抛光、腐蚀的过程。主要跟样品表面的粗糙度、平整度、是否有毛刺等表面状况有关。金相砂纸的粗磨和精磨一般从粗到细选P80-P2000经过4-6步的研磨；如果需要抛光，则在此基础上，需要再选P1500-P4000经过2-4步的精抛光，达到去除样品表面变形层的目的。磨抛耗材金相砂纸是用来做金相分析用的砂纸。上海金相抛光高分子磨抛耗材按钮操作

磨抛耗材，金刚石喷雾抛光剂如何选型：铝材，粗抛：金刚石喷雾抛光剂3-9µm，适合金相抛光布类型：无绒毛维纯棉材质，粗纺紧编，耐磨性极好。无绒毛耐磨性高于其他纤维，弹性恢复力高，耐磨性极好。真丝长绒密植布料，绒面松软厚实。中抛：金刚石喷雾抛光剂：0.5-3µm，无绒毛100%全真丝材质，精纺超薄面料。精抛：金刚石喷雾抛光剂0.05-0.5µm无绒毛多孔橡胶材质，空隙率高，连通孔隙可储存大量的抛光液，耐化学腐蚀，适合所有材料氧化精抛。上海金相抛光高分子磨抛耗材按钮操作磨抛材料，单晶金刚石悬浮液也可以将磨削过程中产生的大量热量迅速排走，从而避免工件表面被烧伤。

磨抛耗材，金相制样研磨步骤及重点技巧总结，使用固定磨料（如各种砂纸、研磨纸、金刚石研磨盘和砂轮等）磨削试样表面的过程称为研磨。目的：去除试样余量及损伤层，获得低损伤层的平面。研磨-原理通过由粗到细砂纸（磨盘），以便很快以去除干扰层影响。比较粗及比较细目数的的选择可根据样品的具体精况而且定。每一道研磨工序必须除去前一道工序造成的变形层，而不只是把前一道工序的磨痕除去。研磨设备：手动磨抛机，依赖于操作技巧；自动磨抛机特点：具有无级调速功能、可给定压力和磨制时间并动态显示和自动控制不需人员操作，一次可完成多个试样磨抛。重现性高。

磨抛耗材，金刚石喷雾抛光剂如何选型：焊接件3-9µm，适合抛光布类型：短绒密植布料，绒毛挺立性好。无绒毛维纯棉材质，粗纺紧编，耐磨性极好。短纤维绒，耐磨，回弹性高，耐磨性好。真丝长绒密植布料，绒面松软厚实。0.5-3µm，真丝长绒密植布料，绒面松软厚实。无绒毛100%全真丝材质，精纺超薄面料。无绒毛天然绸缎面料，面料丝滑柔软，适合精抛。0.05-0.5µm无绒毛多孔橡胶材质，空隙率高，连通孔隙可储存大量的抛光液，耐化学腐蚀，适合所有材料氧化精抛。

微电子3-6µm，短绒进口密植布料，绒毛挺立性好。无绒毛维纯棉材质，细纺紧编，耐磨性极好。粗抛（磨料：金刚石）0.05-0.5µm无绒毛多孔橡胶材质，空隙率高，连通孔隙可储存大量的抛光液，耐化学腐蚀，适合所有材料氧化精抛。精抛（磨料：氧化铝，硅胶） 磨抛材料，二氧化硅抛光液，高抛光速率、高纯度，有效减小对电子类产品玷污、高平坦度。

磨抛耗材，二氧化硅抛光液(VK-SP50W)使用范围：可用于微晶玻璃的表面抛光加工中；用于硅片的粗抛和精抛以及IC加工过程，适用于大规模集成电路多层化薄膜的平坦化加工；用于晶圆的后道CMP清洗等半导体器件的加工过程、平面显示器、多晶化模组、微电机系统、光导摄像管等的加工过程；普遍用于CMP化学机械抛光，如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、硬盘盘片、宝石、大理石等纳米级及亚纳米级抛光加工；本产品可以作为一种添加剂，也可应用于水性高耐候石材保护液、水性胶粘剂与高耐候外墙涂料的添加剂等。磨抛耗材，金相抛光润滑冷却液无毒、无味、无污染，为环保型安全产品。上海金相抛光高分子磨抛耗材按钮操作

磨抛材料，AC覆膜纸用其复膜得到的显微组织图片细节清晰、反差适度、衬度较高。上海金相抛光高分子磨抛耗材按钮操作

磨抛耗材，如何用同样的金相砂纸，研磨出更多更好的金相样品，无论手动研磨，还是自动研磨，切记要不断的向砂纸表面喷淋清水，以保持金相砂纸始终保持湿润。这样不仅可以减少因样品表面以及研磨介质摩擦产生的热量，也可以避免样品表面灼伤，而且还能有效防止研磨颗粒嵌入时，被制备样品表面造成干扰。有的抛光机带有自动喷淋装置会比较省事。否则需要手动喷水，可使用喷壶沿着磨盘旋转方向均匀喷洒；也可将清水均匀的洒在砂纸表面。上海金相抛光高分子磨抛耗材按钮操作