河南高精度纳米粒度分析仪哪家好

氧化锌可以应用于病毒载体制剂，并且病毒颗粒大小和病毒聚集对基于病毒的生物制品的下游加工、配方和混合有着巨大的影响此款设备在有关工艺优化和产品质量等重要问题上有重要的参考价值。CPS纳米粒度分析仪可以直观准确的表征病毒颗粒的团聚情况。CPS纳米粒度分析仪测定不同处理方式下病毒颗粒的团聚情况的结果，仪器使用转速为24,000转/分。可以明显看到病毒颗粒是否发生团聚现象，仪器分辨率很好。CPS利用差速离心沉降法的原理表征不同处理方式下病毒颗粒的沉降时间，以及病毒颗粒的团聚情况。驰光以诚信为根本，以质量服务求生存。河南高精度纳米粒度分析仪哪家好

对于粒径分布范围很宽的样品，通过可选的速度调节功能圆盘，只需常规圆盘分析时间的1/20。经过CPS纳米粒度仪对裂解后炭黑进行粒径测试后的结果所示：与扫描电镜所显示的结果基本一致，裂解后的炭黑较小粒径为3um，较大可至50多微米，并且出现很多峰值，证明样液中具有不同粒径且含量不同的的炭黑。峰值粒径处于30um左右。真实反映了不同炭黑粒径的分布状态。随着半导体工业飞速发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级。作为芯片制造不可或缺的一环，CMP工艺在设备和材料领域历来是受欢迎的。重庆激光粒度粒形分析仪哪家好驰光机电科技坚持“顾客至上，合作共赢”。

低维护配置允许安装分析仪在常压下将样品返回的合适位置，进一步减少维护需求。C-Quand在线EDXRF分析仪的优势：1.带有十五个测量通道，可以同时分析15种元素的含量。2.没有运动部件，不需要更换动力窗模块。3.运行维护成本低，无后期耗材成本。4.维护操作简单，带有全自动样品池清洗模块，每次维护时间多数十分钟，宕机时间短。5.内置标准样品，不需要停机校准，实现真正的完全在线测量。6.测量结果不受样品密度和原料种类影响，直接测量元素含量。

仪器的主要参数为：测量范围：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋转速度可选：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，标准分析圆盘：CR-39聚合物（耐有机溶剂和水溶液），可选配：低密度样品分析扩展、变速圆盘；自动密度梯度液生成器（型号AG300）；自动进样器（型号AS200）；标定用标准颗粒。激光粒度仪根据光学衍射和散射的原理，从激光器发出的激光束经显微物镜聚集，滤波和准直后，变成直径约10mm的平行光束，该光束照射到待测的颗粒上，就发生了散射，散射光经傅立叶透镜后，照射到光电探测器上的任一点都对应于某一确定的散射角。驰光机电科技有限公司用先进的生产工艺和规范的质量管理，打造优良的产品！

UHR型可达1%，良好性能：CPS高精度纳米粒度分析仪能够提供高分辨率准确的分析结果，即使对于使用其它分析方法非常难分析的样品，CPS依然能够提供满意的分析结果。高分辨率：CPS具有强大的分辨率，粒径差别在2%以内的窄峰可以被完全分辨出来。所示样品包含五种不同的聚苯乙烯标定颗粒，在图中可以清楚地看到它们完全被分辨出来呈现为五个单独的粒度峰。高准确度：可追溯&校准到NIST标准颗粒的可靠、重复性结果。高精度：与SEM/显微镜分析结果的对比。驰光机电一切从实际出发、注重实质内容。河北二氧化钛粒度分析仪厂家

驰光机电不断从事技术革新，改进生产工艺，提高技术水平。河南高精度纳米粒度分析仪哪家好

而CMP工艺离不开研磨料的发展，那么对于磨料的颗粒粒度表征就显得尤为重要了。CMP就是用化学腐蚀和机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平滑处理。将硅片固定在抛光头的较下面，将抛光垫放置在研磨盘上，抛光时，旋转的抛光头以一定的压力压在旋转的抛光垫上，由亚微米或纳米磨粒和化学溶液组成的研磨液在硅片表面和抛光垫之间流动，然后研磨液在抛光垫的传输和离心力的作用下，均匀分布其上，在硅片和抛光垫之间形成一层研磨液液体薄膜。河南高精度纳米粒度分析仪哪家好