增材制造基本参数
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型号
  • 齐全
  • 类型
  • 双光子微纳激光直写
  • 规格
  • 双光子聚合
  • 产地
  • 德国
增材制造企业商机

Nanoscribe的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。增材制造轮可以通过增加材料的密度和强度来提高承载能力。海南微流道增材制造系统

海南微流道增材制造系统,增材制造

3D打印(3D Printing),又称作Additive Manufacturing (增材制造),是一种用digital file (数字文件) 生成一个三维物体的过程。在3D打印的过程中,一层层的材料被逐次叠加起来,直到形成后期的物体形态。每一层可以看作这个物体的一个很薄的横截面,而每层的厚度则决定了打印的精度,层的厚度越小,打印的精度越高,打印出来的实体与digitalmodel(数字模型)本身越接近。3D打印在创建物体形态上有极大的自由度,几乎不受形态复杂度限制,这也是3D打印相比于传统制造方法(主要是SubtractiveManufacturing即减材制造)的一个重要优势。使用传统减材制造方法时,部件的复杂度直接影响流程的复杂度,复杂的形态会使开模难度加大、使用工具更加复杂、成本大幅上涨。然而对于3D打印技术来说,由于其独特的分层成形原理,简单的形态和复杂的形态几乎可以一视同仁。譬如,外表闭合一体而内部镂空的形态,或者无接缝的链接结构(interlockingstructures),无法通过传统制造工艺获得,只能通过AdditiveManufacturing建造。海南微流道增材制造系统增材制造轮的生产过程可以在短时间内完成。

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Nanoscribe的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻,刻蚀和对准工艺,衍射光学元件(DOE)的传统制造耗时长且成本高.

   Nanoscribe成立于2007年,作为卡尔斯鲁厄理工学院研究小组的分拆,目前,Nanoscribe已经成为纳米和微米3D打印的出名企业,并且在许多项目上都有所作为。Nanoscribe的激光光刻系统用于3D打印世界上特别小的强度高的3D晶格结构,它使用高精度激光来固化光刻胶中具有小至千分之一毫米特征的结构。换句话说,激光使基于液体的材料的小液滴内部的特定层硬化。为了进一步适应日益增长的业务,Nanoscribe还宣布将把设施搬迁到KIT投资3000万欧元的蔡司创新中心。增材制造技术通过3D打印将数字设计转化为现实物体。

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3D打印公司Nanoscribe早期是德国卡尔斯鲁厄理工学院的分支机构,自此成为全球市场的高精度,微型3D打印技术和微光解决方案的提供商。德国3D打印公司Nanoscribe正在使用其Photonic Professional GT 3D打印机来制造包括标准折射微光学,自由光学元件,衍射光学元件和多透镜系统在内的微光学形状。德国增材制造公司表示,“将 3D打印技术 与用户友好的软件和创新材料相结合,导致可重复的精益流程”,使客户能够“克服当前的技术障碍”。 Nanoscribe使用其Photonic Professional GT 3D打印机,近期展示了如何使用双光子聚合工艺生产各种微光学形状。想要了解增材制造和传统减材制造的区别,请咨询Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司。江苏进口增材制造工艺

增材制造技术,行业创新。海南微流道增材制造系统

Nanoscribe的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻,刻蚀和对准工艺,衍射光学元件(DOE)的传统制造耗时长且成本高。海南微流道增材制造系统

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