膜厚仪基本参数
  • 品牌
  • 创视智能-TronSight
  • 型号
  • TS-IT50
  • 用途类型
  • 薄膜测厚
  • 工作原理
  • 白光干涉型
  • 输出信号
  • 模拟型
  • 材质
  • 金属膜
  • 位移特征
  • 点位移
  • 测量范围
  • 小位移
膜厚仪企业商机

对同一靶丸相同位置进行白光垂直扫描干涉,建立靶丸的垂直扫描干涉装置,通过控制光学轮廓仪的运动机构带动干涉物镜在垂直方向上的移动,从而测量到光线穿过靶丸后反射到参考镜与到达基底直接反射回参考镜的光线之间的光程差,显然,当一束平行光穿过靶丸后,偏离靶丸中心越远的光线,测量到的有效壁厚越大,其光程差也越大,但这并不表示靶丸壳层的厚度,存在误差,穿过靶丸中心的光线测得的光程差才对应靶丸的上、下壳层的厚度。可测量大气压下薄膜厚度在1纳米到1毫米之间。薄膜膜厚仪详情

常用白光垂直扫描干涉系统的原理:入射的白光光束通过半反半透镜进入到显微干涉物镜后,被分光镜分成两部分,一个部分入射到固定的参考镜,一部分入射到样品表面,当参考镜表面和样品表面的反射光通过分光镜后,再次汇聚产生干涉条纹,干涉光通过透镜后,利用电荷耦合器(CCD)可探测整个视场内双白光光束的干涉图像。利用Z向精密位移台带动干涉镜头或样品台Z向扫描,可获得一系列的干涉图像。根据干涉图像序列中对应点的光强随光程差变化曲线,可得该点的Z向相对位移;然后,由CCD图像中每个像素点光强最大值对应的Z向位置获得被测样品表面的三维形貌。苏州膜厚仪能测什么总的来说,白光干涉膜厚仪是一种应用广、具有高精度和可靠性的薄膜厚度测量仪器。

傅里叶变换是白光频域解调方法中的一种低精度信号解调方法,初由G.F.Fernando和T.Liu等人提出,用于低精度光纤法布里-珀罗传感器的解调。该解调方案的原理是通过傅里叶变换得到频域的峰值频率从而获得光程差,并得到待测物理量的信息。傅里叶变换解调方案的优势是解调速度快,受干扰信号影响较小,但精度不高。根据数字信号处理FFT理论,若输入光源波长范围为[λ1,λ2],则所测光程差的理论小分辨率为λ1λ2/(λ2-λ1),因此该方法主要应用于解调精度要求不高的场合。傅里叶变换白光干涉法是对傅里叶变换法的改进。该方法总结起来是对采集到的光谱信号进行傅里叶变换,然后滤波、提取主频信号,接着进行逆傅里叶变换、对数运算,之后取其虚部进行相位反包裹运算,从而通过得到的相位来获得干涉仪的光程差。经实验证明,该方法测量精度比傅里叶变换方法更高。

针对现有技术的不足,提供一种基于白光干涉法的晶圆膜厚测量装置。该装置包括白光光源、显微镜、分束镜、干涉物镜、光纤传输单元、准直器、光谱仪、USB传输线、计算机。光谱仪主要包括六部分,分别是:光纤入口、准直镜、光栅、聚焦镜、区域检测器、带OFLV滤波器的探测器。测量具体步骤为:白光光源发出白光,经由光纤,通过光纤探头垂直入射至晶圆表面,样品薄膜上表面和下表面反射光相干涉形成的干涉谱,由反射光纤探头接收,再由光纤传送到光谱仪,光谱仪连续记录反射信号,通过USB线将测量数据传输到电脑。可以实现对晶圆膜厚的无损测量,时间快、设备小巧、操作简单、精度高,适合实验室检测。广泛应用于半导体、光学、电子、化学等领域,为研究和开发提供了有力的手段。

膜厚仪是一种可以用于精确测量光学薄膜厚度的仪器,是光学薄膜制备和表征中不可或缺的工具。在光学薄膜领域,薄膜的厚度直接影响到薄膜的光学性能和应用效果。因此,准确测量薄膜厚度对于研究和生产具有重要意义。膜厚仪测量光学薄膜的具体方法通常包括以下几个步骤:样品准备:首先需要准备待测薄膜样品,通常是将薄膜沉积在基片上,确保样品表面平整干净,无杂质和损伤。仪器校准:在进行测量之前,需要对膜厚仪进行校准,确保仪器的准确性和稳定性。校准过程通常包括使用标准样品进行比对,调整仪器参数。测量操作:将样品放置在膜厚仪的测量台上,调节仪器参数,如波长、入射角等,然后启动测量程序。膜厚仪会通过光学干涉原理测量样品表面反射的光线,从而得到薄膜的厚度信息。数据分析:膜厚仪通常会输出一系列的数据,包括薄膜的厚度、折射率等信息。对于这些数据,需要进行进一步的分析和处理,以确保测量结果的准确性和可靠性。膜厚仪测量光学薄膜的具体方法需要注意的一些关键点包括:样品表面的处理对测量结果有重要影响,因此在进行测量之前需要确保样品表面的平整和清洁在半导体、光学、电子、化学等领域广泛应用,有助于研究和开发新产品。纳米级膜厚仪厂家供应

光路长度越长,仪器分辨率越高,但也越容易受到干扰因素的影响,需要采取降噪措施。薄膜膜厚仪详情

针对微米级工业薄膜厚度测量,开发了一种基于宽光谱干涉的反射式法测量方法,并研制了适用于工业应用的小型薄膜厚度测量系统,考虑了成本、稳定性、体积等因素要求。该系统结合了薄膜干涉和光谱共聚焦原理,采用波长分辨下的薄膜反射干涉光谱模型,利用经典模态分解和非均匀傅里叶变换的思想,提出了一种基于相位功率谱分析的膜厚解算算法。该算法能够有效利用全光谱数据准确提取相位变化,抗干扰能力强,能够排除环境噪声等假频干扰。经过对PVC标准厚度片、PCB板芯片膜层及锗基SiO2膜层的测量实验验证,结果表明该测厚系统具有1~75微米厚度的测量量程和微米级的测量不确定度,而且无需对焦,可以在10ms内完成单次测量,满足工业级测量需要的高效便捷的应用要求。薄膜膜厚仪详情

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