膜厚仪基本参数
  • 品牌
  • 创视智能-TronSight
  • 型号
  • TS-IT50
  • 用途类型
  • 薄膜测厚
  • 工作原理
  • 白光干涉型
  • 输出信号
  • 模拟型
  • 材质
  • 金属膜
  • 位移特征
  • 点位移
  • 测量范围
  • 小位移
膜厚仪企业商机

光具有相互叠加的特性,发生干涉的两束光在一些地方振动加强,而在另一些地方振动减弱,并产生规则的明暗交替变化。干涉测量需要满足三个相干条件:频率一致、振动方向一致、相位差稳定一致。与激光光源相比,白光光源的相干长度较短,通常在几微米到几十微米内。白光干涉的条纹有一个固定的位置,对应于光程差为零的平衡位置,并在该位置白光输出光强度具有最大值。通过探测光强最大值,可以实现样品表面位移的精密测量。白光垂直扫描干涉、白光反射光谱等技术,具有抗干扰能力强、稳定性好、动态范围大、结构简单、成本低廉等优点,并广泛应用于薄膜三维形貌测量和薄膜厚度精密测量等领域。Michelson干涉仪的光路长度是影响仪器精度的重要因素。薄膜干涉膜厚仪常用解决方案

薄膜干涉膜厚仪常用解决方案,膜厚仪

干涉法和分光光度法都是基于相干光形成等厚干涉条纹的原理来确定薄膜厚度和折射率。不同于薄膜自发产生的等倾干涉,干涉法是通过设置参考光路来形成参考平面和测量平面间干涉条纹,因此其相位信息包含两个部分,分别是由扫描高度引起的附加相位和由薄膜内部多次反射引起的膜厚相位。干涉法的测量光路使用面阵CCD接收参考平面和测量平面间相干波面的干涉光强分布。与以上三种点测量方式不同,干涉法能够一次性生成薄膜待测区域的表面形貌信息,但因存在大量轴向扫描和数据解算,完成单次测量的时间相对较长。品牌膜厚仪制造公司随着技术的不断进步和应用领域的扩展,白光干涉膜厚仪的性能和功能将不断提高和拓展。

薄膜干涉膜厚仪常用解决方案,膜厚仪

自上世纪60年代起,利用X及β射线、近红外光源开发的在线薄膜测厚系统广泛应用于西方先进国家的工业生产线中。到20世纪70年代后,为满足日益增长的质检需求,电涡流、电磁电容、超声波、晶体振荡等多种膜厚测量技术相继问世。90年代中期,随着离子辅助、离子束溅射、磁控溅射、凝胶溶胶等新型薄膜制备技术取得巨大突破,以椭圆偏振法和光度法为展示的光学检测技术以高精度、低成本、轻便环保、高速稳固为研发方向不断迭代更新,迅速占领日用电器及工业生产市场,并发展出依据用户需求个性化定制产品的能力。其中,对于市场份额占比较大的微米级薄膜,除要求测量系统不仅具有百纳米级的测量准确度及分辨力以外,还要求测量系统在存在不规则环境干扰的工业现场下,具备较高的稳定性和抗干扰能力。

在纳米级薄膜的各项相关参数中,薄膜材料的厚度是薄膜设计和制备过程中重要的参量之一,具有决定薄膜性质和性能的基本作用。然而,由于其极小尺寸及突出的表面效应,使得对纳米级薄膜的厚度准确测量变得困难。经过众多科研技术人员的探索和研究,新的薄膜厚度测量理论和测量技术不断涌现,测量方法从手动到自动、有损到无损不断得到实现。对于不同性质薄膜,其适用的厚度测量方案也不相同。针对纳米级薄膜,应用光学原理的测量技术。相比其他方法,光学测量方法具有精度高、速度快、无损测量等优势,成为主要检测手段。其中代表性的测量方法有椭圆偏振法、干涉法、光谱法、棱镜耦合法等。广泛应用于半导体、光学、电子、化学等领域,为研究和开发提供了有力的手段。

薄膜干涉膜厚仪常用解决方案,膜厚仪

膜厚仪是一种用于测量薄膜厚度的仪器,它的测量原理是通过光学干涉原理来实现的。在测量过程中,薄膜表面发生的光学干涉现象被用来计算出薄膜的厚度。具体来说,膜厚仪通过发射一束光线照射到薄膜表面,并测量反射光的干涉现象来确定薄膜的厚度。膜厚仪的测量原理非常精确和可靠,因此在许多领域都可以得到广泛的应用。首先,薄膜工业是膜厚仪的主要应用领域之一。在薄膜工业中,膜厚仪可以用来测量各种类型的薄膜,例如光学薄膜、涂层薄膜、导电薄膜等。通过膜厚仪的测量,可以确保生产出的薄膜具有精确的厚度和质量,从而满足不同行业的需求。其次,在电子行业中,膜厚仪也扮演着重要的角色。例如,在半导体制造过程中,膜厚仪可以用来测量各种薄膜层的厚度,以确保芯片的制造质量和性能。此外,膜厚仪还可以应用于显示器件、光伏电池、电子元件等领域,为电子产品的研发和生产提供关键的技术支持。除此之外,膜厚仪还可以在材料科学、化工、生物医药等领域中发挥作用。例如,在材料科学研究中,膜厚仪可以用来测量不同材料的薄膜厚度,从而帮助科研人员了解材料的性能和特性。在化工生产中,膜厚仪可以用来监测涂层薄膜的厚度,以确保产品的质量和稳定性。高精度的白光干涉膜厚仪通常采用Michelson干涉仪的结构。本地膜厚仪厂家现货

增加光路长度可以提高仪器分辨率,但同时也会更容易受到振动等干扰,需要采取降噪措施。薄膜干涉膜厚仪常用解决方案

基于白光干涉法的晶圆膜厚测量装置,其特征在于:该装置包括白光光源、显微镜、分束镜、干涉物镜、光纤传输单元、准直器、光谱仪、USB传输线、计算机;光谱仪主要包括六部分,分别是:光纤入口、准直镜、光栅、聚焦镜、区域检测器、带OFLV滤波器的探测器;

光源发出的白光经准直镜扩束准直后成平行光,经分束镜射入Michelson干涉物镜,准直透镜将白光缩束准直后垂直照射到待测晶圆上,反射光之间相互发生干涉,经准直镜后干涉光强进入光纤耦合单元,完成干涉部分;

光纤传输的干涉信号进入光谱仪,计算机定时从光谱仪中采集光谱信号,获取诸如光强、反射率等信息,计算机对这些信息进行信号处理,滤除高频噪声信息,然后对光谱信息进行归一化处理,利用峰值对应的波长值,计算晶圆膜厚。 薄膜干涉膜厚仪常用解决方案

与膜厚仪相关的**
信息来源于互联网 本站不为信息真实性负责