工业烤箱基本参数
  • 产地
  • 安徽合肥
  • 品牌
  • 合肥真萍电子科技有限公司
  • 型号
  • 齐全
  • 是否定制
工业烤箱企业商机

HMDS真空烤箱主要技术指标:1.机外壳采用冷扎钢板喷塑处理,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2.箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3.微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。4.智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5.HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。整个系统采用优良材料制造,无发尘材料,适用100级光刻间净化环境。6HMDS管路加热功能,使HMDS液体进入箱体的前端管路加热,使转为HMDS气态时更易。7.低液报警装置,采用红外液体感测器,能及时灵敏给出指令(当HMDS液过低时发出报警及及时切断工作起动功能)8.温度与PLC联动保护功能(当PLC没有启动程序时,加温功能启动不了,相反加温功能启动时,PLC程序不按正常走时也及时切断工作功能,发出警报)9.整个箱体及HMDS气体管路采用SUS316不锈钢材料,整体使用无缝焊接(避免拼接导致HMDS液体腐蚀外泄对人体的伤害)工业烤箱哪家便宜?合肥真萍告诉您。无锡小型工业烤箱

无锡小型工业烤箱,工业烤箱

HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。大型工业烤箱电烘箱接线.工业烤箱的基本结构级应用。

无锡小型工业烤箱,工业烤箱

1、耐用性较强:由于电热器被密封在箱体内,与外界空气接触面小,因此不易被氧化腐蚀。2、内热循环:烘烤物件受热均匀。3、电气控制安全精确可靠:结构合理,有效工作面积大,功能全,操作简单,维修调整方便,噪音小,可靠性高,成本低,能耗少,生产效率高。工作原理:空气循环系统采用双电机水平循环送风方式,风循环均匀高效。风源由循环送风电机(采用无触点开关)带动风轮经由电热器,而将热风送出,再经由风道至烘箱内室,再将使用后的空气吸入风道成为风源再度循环,加热使用。确保室内温度均匀性。当因开关门动作引起温度值发生摆动,可介此送风循环系统迅速恢复操作状态温度值。

冷热冲击试验箱具有模拟大气环境中温度变化规律。主要针对于电工,电子产品,以及其元器件及其它材料在高温,低温综合环境下运输,使用时的适应性试验。用于产品设计,改进,鉴定及检验等环节。真萍科技作为冷热冲击试验箱设备制造厂商,在冷热冲击试验箱设备制造领域的专业性是不用多说的。下面让真萍科技从温度方面,带您了解冷热冲击试验箱。一、温度波动度这个指标也有叫温度稳定度,控制温度稳定后,在给定任意时间间隔内,工作空间内任一点的较高和较低温度之差。这里有个小小的区别“工作空间”并不是“工作室”,是大约工作室去掉离箱壁各自边长的1/10的一个空间。这个指标考核产品的控制技术。二、温度范围指产品工作室能耐受和(或)能达到的极限温度。通常含有能控制恒定的概念,应该是可以相对长时间稳定运行的极值。一般温度范围包括极限高温和极限低温。一般标准要求指标为≤1℃或0.5℃。三、温度均匀度旧标准称均匀度,新标准称梯度。温度稳定后,在任意时间间隔内,工作空间内任意两点的温度平均值之差的较大值。这个指标比下面的温度偏差指标更可以考核产品的**技术,因此好多公司的样本及方案刻意隐藏此项。一般标准要求指标为≤2℃。工业烤箱的优点体现在哪?

无锡小型工业烤箱,工业烤箱

一、本产品广泛应用于航空、航天、电子、通讯等科研及生产单位。确定仪器仪表、电工产品、材料、零部件、设备等在低气压、高温单项或同时作用下的环境适应性与可靠性试验.二、主要技术指标:1、工作室温度范围:常温~+300℃用户使用温度260℃2、温度波动度:1.0℃(空载);3、温度偏差:常压温度试验:常温~200℃时2℃200~300℃时5.0℃低气压高温综合试验:≤100℃时2.0℃,100℃~200℃时5.0℃200℃~300℃时7.0℃4、升降温速率:升温时间:①常压时:90min(常温~+260℃)②低气压0.0001pa时:180min(常温~+260℃)降温时间:3℃~10℃/min(260℃~120℃),1℃~5℃/min(120℃~常温℃)降温方式:水冷降温5、试验箱承压方式:采用内承压方式6、压力范围:常压~0.0001Pa工业烤箱的结构如何组成?浙江大型工业烤箱

上海哪家工业烤箱厂家值得信赖?无锡小型工业烤箱

可定制高温烘箱温度控制系统:1、采用数显微电脑温度控制器,控制精确可靠,精度:0.1℃(显示范围)。2、具有定时功能、控温保护功能,设有风机停转开关。电气控制系统:1、采用品牌电气控制元件。2、电气线路设计实用,合理布线,可靠放心。3、箱体顶部为电器控制柜,方便于集中检查维修。保护系统1、超温保护系统2、过电流保护3、快速熔断器4、接地保护可选择配件(需另外收费,订购时请注意)1、可编程控制器,可实现升温速率可调和保温时间可调,多段可编程。2、单独限温控制器,可实现在主控制器失灵后设备升温过高的情况下立即切断加热。3、无纸记录仪,通过USB接口将其记录的数据导入计算机可供分析、打印等,是有纸记录仪的更新换代产品,多通道温度记录。4、配RS-485接口,可连接计算机和记录仪,实现时时监控工作状态。5、温度测试孔,可实现不同测试线或仪器插入设备工作室内进行多种实验,测试孔孔径有φ25、φ50、φ80可选。6、载物托架,烘箱设备标配是2个载物托架,客户可根据自身需求增配托架数量。*技术细节变动之处,恕不另行通知,具体设备参数以咨询结果为准。无锡小型工业烤箱

与工业烤箱相关的文章
芜湖做工业烤箱
芜湖做工业烤箱

HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连...

与工业烤箱相关的新闻
  • 大工业烤箱图片 2024-04-27 20:00:20
    工业烤箱为内外双层结构,壳体为角钢薄钢板,内外双层壳体之间填充有纤维物质。工业烤箱使用的纤维物质多为硅酸铝,它能起到保温的作用,形成可靠的保温层。工业烤箱配置有热风循环系统及温度测量与控制系统。工业烤箱在工作时,操作人员通过仪表和感温器来获得工业烤箱内部的温度值,在通过控制系统进行操作。工业烤箱的热...
  • 精密工业烤箱价格 2024-04-27 06:00:20
    用途介绍:无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、、船舶、电子、通讯等科研及生产单位,主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化,模压固烤、IC(晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别)、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干,电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和...
  • 大型工业烤箱批发 2024-04-27 10:00:25
    冷热冲击试验箱具有模拟大气环境中温度变化规律。主要针对于电工,电子产品,以及其元器件及其它材料在高温,低温综合环境下运输,使用时的适应性试验。用于产品设计,改进,鉴定及检验等环节。真萍科技作为冷热冲击试验箱设备制造厂商,在冷热冲击试验箱设备制造领域的专业性是不用多说的。下面让真萍科技从温度方面,带您...
  • 小型工业烤箱的厂家 2024-04-27 18:00:23
    下面为大家介绍一下真空干燥箱。它是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿,使工作室内形成真空状态,降低水的沸点,加快干燥的速度。特点:1、长方体工作室,增加有效容积,微电脑温度控制器,精确控温。2、双层玻璃视窗观察工作室内物体,一目了然。3、箱体闭合松紧能调...
与工业烤箱相关的问题
信息来源于互联网 本站不为信息真实性负责