增材制造基本参数
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型号
  • 齐全
  • 类型
  • 双光子微纳激光直写
  • 规格
  • 双光子聚合
  • 产地
  • 德国
增材制造企业商机

随着各行各业的发展及科技的进步,人们可以用3D打印创建在人体内传导药物的载体,可以用3D打印来建造房子。人们还可以用3D打印创作出精美的珠宝首饰和设计,甚至可以用这项技术做出巨大的艺术雕塑。Nanoscribe 公司专注于微观3D打印技术,通过该用户可以得到尺寸微小的高质量产品。全新推出的Quantum X平台新型超高速无掩模光刻技术主要是基于Nanoscribe双光子灰度光刻技术(2GL®)。该技术将灰度光刻的***性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了**复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。  Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司为您深度解读增材制造技术。湖北科研增材制造Quantum X

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Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系统制作的高精度器件图登上了刚发布的商业微纳制造杂志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介绍了高精度3D打印,并重点讲解了先进的打印材料是如何让双光子聚合技术应用锦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程,实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造,可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。  山东微机械增材制造PPGTNanoscribe在中国的子公司纳糯三维邀您一起探讨增材制造的现状和未来。

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3D打印高性能增材制造技术摆脱了模具制造这一明显延长研发时间的关键技术环节,兼顾高精度、高性能、高柔性,可以快速制造结构十分复杂的零件,为先进科研事业速研发提供了有力的技术手段。在微光学领域,Nanoscribe表示,其3D打印解决方案“破坏和打破以前复杂的工作流程,克服了长期的设计限制,并实现了先进的微光驱动的前所未有的应用。 换句话说,Photonic Professional GT系列与您的平均3D打印机不同,因此可用于创建在其他机器上无法生产的功能性光学产品。该系列与正确的材料和工艺相结合,据称允许用户“直接制造具有比标准制造方法,高形状精度和光学平滑表面几何约束的聚合物微光学部件”。  

3D打印高性能增材制造技术摆脱了模具制造这一明显延长研发时间的关键技术环节,兼顾高精度、高性能、高柔性,可以快速制造结构十分复杂的零件,为先进科研事业速研发提供了有力的技术手段。在微光学领域,Nanoscribe表示,其3D打印解决方案“破坏和打破以前复杂的工作流程,克服了长期的设计限制,并实现了先进的微光驱动的前所未有的应用。 换句话说,Photonic Professional GT系列与您的平均3D打印机不同,因此可用于创建在其他机器上无法生产的功能性光学产品。该系列与正确的材料和工艺相结合,据称允许用户“直接制造具有比标准制造方法,高形状精度和光学平滑表面几何约束的聚合物微光学部件”。 增材制造与3D技术有什么区别?想要了解请咨询Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司。

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为了制作由3D工程细胞微环境制成的体外细胞培养物,科学家们利用双光子聚合技术(2PP)来制造模拟脑血管几何形状的仿生3D支架,该仿生几何结构影响胶质母细胞瘤细胞及其定植机制。在该实验中,细胞可以在定制3D支架几何结构的引导下以受控方式生长。只有在强聚焦的激光焦点处才能发生双光子吸收的光聚合反应可实现在亚微米范围内打印极其精细的3D特征结构。此外,这种增材制造技术可在微米级别实现高度三维设计自由度,并以比较高精度模拟三维细胞微环境。 Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司带您了解金属材料增材制造技术。山东科研增材制造无掩膜光刻

想要了解增材制造和传统减材制造的区别,请咨询Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司。湖北科研增材制造Quantum X

Nanoscribe的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻,刻蚀和对准工艺,衍射光学元件(DOE)的传统制造耗时长且成本高。


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