Nanoscribe独有的体素调谐技术2GL®可以在确保优越的打印质量的同时兼顾打印速度，实现自由曲面微光学元件通过3D打印精确对准到光纤或光子芯片的光学轴线上。NanoscribeQX平台打印系统配备光纤照明单元用于光纤芯检测，确保打印精细对准到光纤的光学轴线上。共焦检测模块用于3D基板拓扑构图，实现在芯片的表面和面上的精细打印对准。Nanoscribe灰度光刻3D打印技术3Dprintingby2GL®是市场上基于2PP原理微纳加工技术中打印速度**快的。其动态体素调整需要相对较少的打印层次，即可实现具有光学级别、光滑以及纳米结构表面打印结果。这意味着在满足苛刻的打印质量要求的同时，其打印速度远远超过任何当前可用的2PP三维打印系统。2GL®作为市场上快的增材制造技术，非常适用于3D纳米和微纳加工，在满足优越打印质量的前提下，其吞吐量相比任何当前双光子光刻系统都高出10到60倍。双光子零件可以3D打印出小于100nm分辨率物体。灰度光刻微纳3D打印激光直写
双光子聚合（2PP）是一种可实现比较高精度和完全设计自由度的增材制造方法。而作为同类比较好的3D微加工系统QuantumXshape具有下列优异性能：首先，在所有空间方向上低至100纳米的特征尺寸控制，适用于纳米和微米级打印；其次制作高达50毫米的目标结构，适用于中尺度打印。高速3D微纳加工系统QuantumXshape可实现出色形状精度和高精度制作。这种高质量的打印效果是结合了特别先进的振镜系统和智能电子系统控制单元的结果，同时还离不开工业级飞秒脉冲激光器以及平稳坚固的花岗岩操作平台。QuantumXshape具有先进的激光焦点轨迹控制，可操控振镜加速和减速至比较好扫描速度，并以1MHz调制速率动态调整激光功率。QuantumXshape带有独特的自动界面查找功能，可以以低至30纳米的精度检测基板表面。这种在比较高扫描速度下的纳米级精度体现，再加上自校准程序，可在特别短的时间内实现可靠和准确的打印，为3D微纳加工树立了新榜样。这些优异的性能使QuantumXshape成为快速原型制作和应用于微纳光学、微流体、材料表面工程、MEMS等其他领域中晶圆级规模生产的理想工具。 崇明区工业微纳3D打印哪家强从纳米结构到高精度的毫米级的物体打印展示出了微纳3D打印的出色功能。
微纳3D打印技术的优势主要体现在以下几个方面：高精度和复杂性：微纳3D打印技术可以在微米和纳米尺度上实现高精度的打印，能够制造出具有复杂几何形状和微观结构的零件。这种能力使得微纳3D打印在生物医学、电子、光学和航空航天等领域具有广泛的应用前景。特别是在需要高精度和复杂结构的器件制造中，微纳3D打印技术展现出了独特的优势。定制化设计：微纳3D打印技术可以根据用户需求进行定制化设计，满足个性化需求。设计师可以根据实际应用场景，灵活调整打印参数和材料，实现创新设计。这种定制化设计的能力使得微纳3D打印在特殊材料和复杂结构的制造中具有很高的灵活性。材料利用率高：与传统的加工方法相比，微纳3D打印技术的材料利用率更高。在打印过程中，只有需要的材料才会被使用，从而避免了不必要的浪费。这不仅有助于降低生产成本，还能提高生产效率，减少对环境的影响。广泛的应用范围：微纳3D打印技术适用于多种材料和结构类型，可以制造金属、塑料、陶瓷等多种材料的微纳结构。这使得它在微机电系统、微纳光学器件、微流体器件、生物医疗和组织工程、新材料等领域具有巨大的应用潜力。此外。
售后支持和服务拥有超过14年的微加工技术经验，我们的技术支持团队努力在短的时间内为客户提供好的支持。在德国总部，中国分公司和美国分公司，以及通过Nanoscribe认证的经销商提供的销售服务和技术支持。我们的跨学科和多语言技术支持团队为客户提供各方面的支持:装机、维护和维修现场和线上的培训课程通过NanoGuide综合自助服务平台自助查询电话、电子邮件和设备自带远程支持功能基础操作技巧之外的高阶技术和应用支持延长维修保修合同、升级服务、移机服务随着3D打印技术的不断进步，微纳3D打印的出现，完美的解决了这个问题。
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。PhotonicProfessionalGT2系统可以实现精度上限的3D打印，突破了微纳米制造的限制。该打印系统的易用性和灵活性的特点配以特别广的打印材料选择使其成为理想的实验研究仪器和多用户设施。 基于微纳尺度的3D打印技术，可定制设计光学性能优异、超高精度、超薄尺度的透镜。松江区双光子微纳3D打印应用
现在全球明星大学中已经多所已经具有或许正在运用Nanoscribe3D打印机。灰度光刻微纳3D打印激光直写
由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于特别高分辨率微纳3D打印的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有特别高的形状精度，属于目前市场上易于操作的“负胶”。IP树脂作为高效的打印材料，是Nanoscribe微纳加工解决方案的基本组成部分之一。我们提供针对优化不同光刻胶和应用领域的高级配套软件，从而简化3D打印工作流程并加快科研和工业领域的设计迭代周期，包括仿生表面，微光学元件，机械超材料和3D细胞支架等。世界上头一台双光子灰度光刻（2GL®）系统QuantumX实现了2D和2.5D微纳结构的增材制造。该无掩模光刻系统将灰度光刻的出色性能与Nanoscribe的双光子聚合技术的精度和灵活性相结合，从而达到亚微米分辨率并实现对体素大小的超快控制，自动化打印以及特别高的形状精度和光学质量表面。
灰度光刻微纳3D打印激光直写
