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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

EV集团和肖特携手合作,证明300-MM光刻/纳米压印技术在大体积增强现实/混合现实玻璃制造中已就绪联合工作将在EVG的NILPhotonics®能力中心开展,这是一个开放式的光刻/纳米压印(NIL)技术创新孵化器,同时也是全球为一可及的300-mm光刻/纳米压印技术线2019年8月28日,奥地利,圣弗洛里安――微机电系统(MEMS)、纳米技术和半导体市场晶圆键合与光刻设备领仙供应商EV集团(EVG)金日宣布,与特种玻璃和微晶玻璃领域的世界领仙技术集团肖特携手合作,证明300-mm(12英寸)光刻/纳米压印(NIL)技术在下一代增强现实/混合现实(AR/MR)头戴显示设备的波导/光导制造中使用的高折射率(HRI)玻璃晶圆的大体积图案成形已就绪。此次合作涉及EVG的专有SmartNIL®工艺和SCHOTTRealView™高折射率玻璃晶圆,将在EVG位于奥地利总部的NILPhotonics®能力中心进行。肖特将于9月4日至7日在深圳会展中心举行的中国国际光电博览会上展示一款采用EVGSmartNIL技术进行图案成形的300-mmSCHOTTRealView™玻璃晶圆。300-mm和200-mmSCHOTTRealView™玻璃基板,装配在应用SmartNIL®UV-NIL技术的EVG®HERCULES®。EVG的热压印是一种经济高效且灵活的制造技术,具有非常高的复制精度,可用于蕞小50nm的特征尺寸。HERCULES NIL纳米压印出厂价

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关于WaveOpticsWaveOptics是衍射波导的全球lingxian设计商和制造商,衍射波导是可穿戴AR设备中的关键光学组件。诸如智能眼镜之类的AR可穿戴设备使用户能够观看覆盖在现实世界之上的数字图像。有两个关键元素可让您看到这些图像-微型投影仪之类的光源,以及将图像从投影仪传递到用户眼睛中的一种方式。WaveOptics的波导技术可传输来自光源的光波并将其投射到用户的眼睛中。该技术可产生大的眼框,双目观察和高视野。眼图框(查看窗口)是从中可以看到完整图像的AR显示器的尺寸-请参见下图。WaveOptics的波导提供清晰,无失真的文本以及稳定的图像。WaveOptics技术旨在用于工业,企业和消费者市场的沉浸式AR体验。该公司的目标是,凭借其独特的技术和专业知识,其波导将成为所有AR可穿戴设备中使用的he心光学组件,以实现wuyulunbi的制造可扩展性和视觉性能,并为众多应用提供多功能性。HERCULES NIL纳米压印高性价比选择EVG®610和EVG®620NT /EVG®6200NT是具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统。

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UV-NIL/SmartNIL纳米压印系统EVGroup为基于紫外线的纳米压印光刻(UV-NIL)提供完整的产品线,包括不同的单步压印系统,大面积压印机以及用于高效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL,EVG还提供其专有的SmartNIL技术以及多种用途的聚合物印模技术。高效,强大的SmartNIL工艺可提供高图案保真度,高度均匀的图案层和蕞少的残留层,并具有易于调整的晶圆尺寸和产量。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期承诺,即纳米压印是一种用于大规模生产微米和纳米级结构的高性能,低成本和具有批量生产能力的技术。这个系列的型号包括:EVG®610;EVG®620NT;EVG®6200NT;EVG®720;EVG®7200;EVG®7200LA;HERCULES®NIL;EVG®770;IQAligner®。

纳米压印光刻(NIL)技术EVG是纳米压印光刻(NIL)设备和集成工艺的市场lingxian供应商。EVG从19年前的研究方法中率先掌握了NIL,并实现了从2英寸化合物半导体晶圆到300mm晶圆甚至大面积面板的各种尺寸基板的批量生产。NIL是产生纳米尺度分辨率图案的ZUI有前途且ZUI具成本效益的工艺,可用于生物MEMS,微流体,电子学以及ZUI近各种衍射光学元件的各种商业应用。其中EVG紫外光纳米压印系统型号包含:EVG®610EVG®620NTEVG®6200NTEVG®720EVG®7200EVG®7200LAHERCULES®NILEVG®770IQAligner®热压纳米压抑系统型号包含:EVG®510HEEVG®520HE详细的参数,请联系我们岱美有限公司。EVG的SmartNIL技术是基于紫外线曝光的全场压印技术,可提供功能强大的下一代光刻技术。

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EVG®510HE特征:用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用自动化压印工艺EVG专有的独力对准工艺,用于光学对准的压印和压印完全由软件控制的流程执行闭环冷却水供应选项外部浮雕和冷却站EVG®510HE技术数据:加热器尺寸:150毫米,200毫米蕞大基板尺寸:150毫米,200毫米蕞小基板尺寸:单芯片,100毫米蕞大接触力:10、20、60kN最高温度:标准:350°C;可选:550°C夹盘系统/对准系统150毫米加热器:EVG®610,EVG®620,EVG®6200200毫米加热器:EVG®6200,MBA300,的SmartView®NT真空:标准:0.1毫巴可选:0.00001mbarEVG系统是客户进行大批量晶圆级镜头复制(制造)的弟一选择。贵州纳米压印应用

EVG的EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV纳米压印光刻系统。HERCULES NIL纳米压印出厂价

EVG®520HE热压印系统特色:经通用生产验证的热压印系统,可满足ZUI高要求EVG520HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。EVG的这种经过生产验证的系统可以接受直径ZUI大为200mm的基板,并且与标准的半导体制造技术兼容。热压印系统配置有通用压花腔室以及高真空和高接触力功能,并管理适用于热压印的整个聚合物范围。结合高纵横比压印和多种脱压选项,提供了许多用于高质量图案转印和纳米分辨率的工艺。如果需要详细的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。HERCULES NIL纳米压印出厂价

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