EVG120光刻胶自动处理系统：智能过程控制和数据分析功能（框架软件平台）用于过程和机器控制的集成分析功能并行任务/排队任务处理功能设备和过程性能根踪功能智能处理功能：事/故和警报分析/智能维护管理和根踪晶圆直径（基板尺寸）：高达200毫米模块数：工艺模块：2烘烤/冷却模块：ZUI多10个工业自动化功能：Ergo装载盒式工作站/SMIF装载端口/SECS/GEM/FOUP装载端口分配选项：各种光刻胶分配泵，可覆盖高达52000cP的粘度液体底漆/预湿/洗盘去除边缘珠（EBR）/背面冲洗（BSR）恒压分配系统/注射器分配系统电阻分配泵具有流量监控功能可编程分配速率/可编程体积/可编程回吸超音波新型的EVG120带有通用和全自动光刻胶处理工具，能够处理各种形状和尺寸达200mm/8“的基片。甘肃光刻机供应商家
IQAligner特征：晶圆/基板尺寸从小到200mm/8''由于外部晶圆楔形测量，实现了非接触式接近模式增强的振动隔离，有效减少误差各种对准功能提高了过程灵活性跳动控制对准功能，提高了效率多种晶圆尺寸的易碎，薄或翘曲的晶圆处理高地表形貌晶圆加工经验手动基板装载能力远程技术支持和SECS/GEM兼容性IQAligner附加功能：红外对准–透射和/或反射IQAligner技术数据：楔形补偿：全自动软件控制非接触式先进的对准功能：自动对准；大间隙对准；跳动控制对准；动态对准河北光刻机化合物半导体应用EVG在要求严苛的应用中积累了多年的光刻胶旋涂和喷涂经验。
此外，EVG光刻机不断关注未来的市场趋势-例如光学3D传感和光子学-并为这些应用开发新的方案和调整现有的解决方案，以满足客户不断变化的需求。我们用持续的技术和市场地位证明了这一点，包括EVG在使用各种非标准抗蚀剂方面的无人能比的经验，这些抗蚀剂针对独特的要求和参数进行了优化。了解客户需求和有效的全球支持是我们提供优先解决方案的重要基础。只有接近客户才能得知客户蕞真实的需求，这是我们一直时刻与客户保持联系的原因之一。
EVG®610曝光源：汞光源/紫外线LED光源；楔形补偿全自动软件控制；晶圆直径（基板尺寸）高达100/150/200毫米；曝光设定：真空接触/硬接触/软接触/接近模式；曝光选项：间隔曝光/洪水曝光/扇区曝光；先进的对准功能：手动对准/原位对准验证手动交叉校正大间隙对准；EVG®610光刻机系统控制：操作系统：Windows文件共享和备份解决方案/无限制程序和参数多语言用户GUI和支持：CN，DE，FR，IT，JP，KR实时远程访问，诊断和故障排除使用的纳米压印光刻技术为“无紫外线”。EVG在1985年发明了世界上弟一个底部对准系统，可以在顶部和双面光刻。
HERCULES光刻轨道系统所述HERCULES®是一个高容量的平台整合整个光刻工艺流在一个系统中，缩小处理工序和操作者支持。HERCULES基于模块化平台，将EVG建立的光学掩模对准技术与集成的晶圆清洗，光刻胶涂层，烘烤和光刻胶显影模块相结合。HERCULES支持各种晶片尺寸的盒到盒处理。HERCULES安全地处理厚，弯曲度高，矩形，小直径的晶圆，甚至可以处理设备托盘。精密的顶侧和底侧对准以及亚微米至超厚（ZUI大300微米）光刻胶的涂层可用于夹层和钝化应用。出色的对准台设计可实现高产量的高精度对准和曝光结果。所有系统均支持原位对准验证的软件，可以提高手动操作系统的对准精度和可重复性。宁夏IQ Aligner NT光刻机
光刻机是一种用于制造集成电路和其他微纳米器件的关键设备。甘肃光刻机供应商家
我们的研发实力：EVG已经与研究机构合作超过35年，让我们深入了解他们的独特需求。我们专业的研发工具提供zhuo越的技术和*大的灵活性，使大学、研究机构和技术开发合作伙伴能够参与多个研究项目和应用项目。此外，研发设备与EVG的合心技术平台无缝集成，这些平台涵盖从研发到小规模和大批量生产的整个制造链。研发和权面生产系统之间的软件和程序兼容性使研究人员能够将其流程迁移到批量生产环境。以客户的需求为导向，研发才具有价值，也是我们不断前进的动力。甘肃光刻机供应商家
