Nanoscribe称,Quantum X是世界上基于双光子灰度光刻技术(two-photon grayscale lithography,2GL)的工业系统,目前该技术正在申请专利。2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合,可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。多层衍射光学元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通过在扫描平面内调制激光功率来完成,从而减少多层微制造所需的打印时间。Nanoscribe表示,折射微光学也受益于2GL工艺的加工能力,可制作单个光学元件、填充因子高达100%的阵列,以及可以在直接和无掩模工艺中实现各种形状,如球面和非球面透镜。QuantumX的软件能实时控制和监控打印作业,并通过交互式触摸屏控制面板进行操作Nanoscribe的技术在微电子、生物医学、光学等领域有着广泛的应用,为各行各业带来了创新和突破。高精度Nanoscribe无掩膜光刻
作为微纳加工和3D打印领域的带领者,Nanoscribe一直致力于推动各个科研领域,诸如力学超材料,微纳机器人,再生医学工程,微光学等创新领域的研究和发展,并提供优化制程方案。2017年在上海成立的中国子公司纳糯三维科技(上海)有限公司更是加强了全球销售活动,并完善了亚太地区客户服务范围。此次推出的中文版官网在视觉效果上更清晰,结构分类上更明确。首页导航栏包括了产品信息,产品应用数据库,公司资讯和技术支持几大专栏。比较大化满足用户对信息的了解和需求。Nanoscribe中国子公司总经理崔博士表示:“中文网站的发布是件值得令人高兴的事情,我们希望新的中文网站能让我们的中国客户无需顾虑语言障碍,更全方面深入得了解我们的产品以及在科研和工业方面的应用。” 湖南双光子聚合NanoscribeQuantum X shape更多有关微纳3D打印产品和技术咨询,欢迎联系Nanoscribe中国分公司 - 纳糯三维科技(上海)有限公司。
3D微纳加工技术应用于材料工程领域。材料属性可以通过成分和几何设计来调整和定制。通过使用Nanoscribe的3D微纳加工解决方案,可以实现具有特定光子,机械,生物或化学特性的创新超材料和仿生微结构。Nanoscribe的无掩模光刻系统在三维微纳制造领域是一个不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、与材料的普适性和便于操作的软件工具,在科学和工业项目中备受青睐。这种可快速打印的微结构在科研、手板定制、模具制造和小批量生产中具有广阔的应用前景。也就是说,在纳米级、微米级以及中尺度结构上,可以直接生产用于工业批量生产的聚合物母版。
加入Nanoscribe的用户行列!作为高精密增材制造领域的先驱和市场领导我们是您在微加工系统、软件和解决方案方面的可靠合作伙伴。我们成立于2007年,是卡尔斯鲁厄理工分离出来的单独子公司,是一个充满活力、屡获殊荣的公司,并于2021年6月成为BICO集团的一部分。凭借成熟稳定的系统、直观的一步加工工作流程和一体化解决方案,我们的3000多名系统用户正在致力于研究改变未来的应用。Nanoscribe的用户群体中,有科学研究和工业的创新者,包括生命科学、微光学、光子学、材料工程、微流体、微力学和MEMS。他们优越的创新现已发表在1300多份同行评议期刊上。Nanoscribe的打印设备具有高度3D设计自由度的特点,而且具备人性化的操作系统。
Nanoscribe称,Quantum X是世界上基于双光子灰度光刻技术(two-photon grayscale lithography,2GL)的工业系统,目前该技术正在申请专利。2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合,可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。多层衍射光学元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通过在扫描平面内调制激光功率来完成,从而减少多层微制造所需的打印时间。Nanoscribe表示,折射微光学也受益于2GL工艺的加工能力,可制作单个光学元件、填充因子高达100%的阵列,以及可以在直接和无掩模工艺中实现各种形状,如球面和非球面透镜。QuantumX的软件能实时控制和监控打印作业,并通过交互式触摸屏控制面板进行操作。为了更好地管理和安排用户的项目,打印队列支持连续执行一系列打印作业。 Nanoscribe的3D打印设备具有高设计自由度和高精度的特点。湖南双光子聚合NanoscribeQuantum X shape
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Nanoscribe设备专注于纳米,微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印机设计用于使用双光子聚合生产纳米和微结构塑料组件和模具。在该过程中,激光固化部分流体光敏材料,逐层固化。使用双光子聚合,分辨率可低至200纳米或高达几毫米。另一方面,GT2现在可以在短时间内在高达100×100mm2的打印区域上生产具有亚微米细节的物体,通常为160纳米至毫米范围。此外,使用GT2,用户可以选择针对其应用定制的多组物镜,基板,材料和自动化流程。该系统还具有用户友好的3D打印工作流程,用于制作单个元素。这些元件可以创造出比较大的形状精度和表面光滑度,满足智能手机行业中微透镜或细胞生物学中的花丝支架结构的要求。
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