企业商机
真空计基本参数
  • 品牌
  • CHUNY
  • 型号
  • MEMS皮拉尼、MEMS电容等
真空计企业商机

2. 热传导真空计热传导真空计通过气体热传导的变化来测量压力,适用于低真空和中真空范围。(1)皮拉尼真空计原理:利用加热丝的热量损失与气体压力之间的关系测量压力。测量范围:10⁻³ Torr 到 10 Torr。优点:响应快、成本低。缺点:受气体种类影响较大。应用:普通真空系统监测。(2)热电偶真空计原理:通过热电偶测量加热丝温度变化来间接测量压力。测量范围:10⁻³ Torr 到 10 Torr。优点:结构简单、稳定性好。缺点:精度较低。应用:低真空和中真空测量。 皮拉尼真空计是一种用于测量真空压力的仪器。重庆陶瓷真空计设备厂家

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真空测量是指用特定的仪器和装置,对某一特定空间内真空高低的测定,这种仪器或装置称为真空计(仪器、规管)。真空计的种类很多,通常按测量原理可分为***真空计和相对真空计两大类:***真空计:通过测定物理参数直接获得气体压强的真空计。例如U型压力计、压缩式真空计等,这类真空计所测量的物理参数与气体成分无关,测量比较准确。但是在气体压强很低的情况下,直接进行测量是极其困难的。相对真空计:通过测量与压强有关的物理量,并与***真空计比较后得到压强值的真空计。如放电真空计、热传导真空计、电离真空计等,它的特点是测量的准确度略差,而且和气体的种类有关。在实际生产中,除真空校准外,大都使用相对真空计。重庆mems真空计设备供应商真空计如何选型与使用?

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真空测量就是真空度的测量,而真空度(详细注释见前文:知识分享②|真空如何获得?)是指低于大气压力注释的气体稀薄程度的物理量。通常,将用以探测低压空间稀薄气体压力所用的仪器称为真空计。注释:大气压力:通常指一个标准大气压,压强的单位之一。当温度为0℃(273.15K)时,在重力加速度为980.655cm/s2处(即在地球纬度为45°的海平面上),使用**的密度为13.5951g/cm3,则760mm高的**柱所产生的压强为1标准大气压。1毫米汞柱(mmHg)和1托(Torr)相近,两者相差约千万分之一。1mmHg=1Torr=133.3Pa一个标准大气压1atm=101325Pa=760mmHg=1.01325bar=760Torr

其他角度对真空计进行分类,如根据测量范围、精度、使用条件等。不同类型的真空计在这些方面也有区别。例如,MEMS电容薄膜真空计作为MEMS电容式传感器的一种,具有小型化、低成本、高性能、易与CMOS集成电路兼容等特点。它能够满足深空探测、空气动力学研究、临近空间探索等领域对真空测量仪器测量准确度高、体积小、质量轻、功耗低的应用需求。不同类型的真空计在测量原理、测量范围、精度、使用条件以及适用场景等方面各有千秋。在选择真空计时,需要根据具体的测量需求、工作环境以及预算等因素进行综合考虑。同时,随着科技的不断发展,新型真空计的出现也将为真空测量领域带来更多的选择和可能性。真空计选型需要注意什么?

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(1)利用气体热学特征类真空计通过测量气体分子在真空中的运动状态或动力学效应来推算真空度,典型**有皮拉尼(Pirani)电阻规和热电偶规。a)皮拉尼电阻规利用热丝在真空中的热传导效应来测量真空度。当真空度发生变化时,热丝的热传导性能会受到影响,进而导致电阻发生变化。通过测量电阻的变化,可以推算出真空度的数值。皮拉尼电阻规具有灵敏度高、测量范围宽等特点。b)热电偶规利用热电效应进行真空度测量的仪器,其**原理在于热电偶的温差电势与周围气体压力的关系。随着真空度的变化,热电偶的温差电势也会相应改变,从而提供关于真空度的信息。热电偶规具有结构简单、操作便捷等特点。真空计应如何进行日常的维修与保养?安徽高精度真空计生产厂家

电容真空计通常适用于中低真空范围的测量,如从大气压到几千帕甚至更低。重庆陶瓷真空计设备厂家

真空计的特点7.多种信号输出模拟信号:如4-20mA、0-10V,便于与控制系统连接。数字信号:如RS485、Modbus,支持数字化管理和远程监控。8.可靠性与稳定性长期稳定:高质量真空计具有长期稳定性,减少校准频率。抗干扰:在复杂环境中,真空计能抵抗电磁干扰和其他干扰因素。9.成本效益经济实惠:部分真空计成本较低,适合预算有限的应用。长期成本低:低维护和校准需求,降低长期使用成本。10.广泛应用工业应用:如半导体制造、真空镀膜、真空炉等。科研实验:如高能物理、材料科学、空间模拟等。日常生活:如真空包装、医疗设备等。总结真空计具有宽量程、高精度、快速响应、环境适应性强、多种测量原理、易于安装与维护、多种信号输出、高可靠性、成本效益高和广泛应用等特点。这些特点使其在工业、科研和日常生活中发挥重要作用。重庆陶瓷真空计设备厂家

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真空泵的工作原理真空泵通过机械或物理方式移除气体分子。旋片泵通过旋转叶片压缩气体排出;涡轮分子泵利用高速叶片撞击气体分子;低温泵则通过冷却表面吸附气体。干泵无油污染,适合洁净环境;扩散泵通过油蒸气喷射带走气体,需配合冷阱使用。选择泵需考虑极限真空、抽速和气体类型。4. 真空在半导体制造中的应用芯片制造需10⁻⁷ Pa超高真空环境。光刻机通过真空避免空气散射紫外线;离子注入在真空中加速掺杂原子;分子束外延(MBE)逐层生长晶体。真空减少杂质污染,确保纳米级精度。一台EUV光刻机包含数十个真空腔室,真空稳定性直接影响5nm以下制程良率。如何减少电磁干扰对皮拉尼真空计的影响?山东陶瓷真空计生产企业真...

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