售后支持和服务拥有超过14年的微加工技术经验，我们的技术支持团队努力在短的时间内为客户提供好的支持。在德国总部，中国分公司和美国分公司，以及通过Nanoscribe认证的经销商提供的销售服务和技术支持。我们的跨学科和多语言技术支持团队为客户提供各方面的支持:装机、维护和维修现场和线上的培训课程通过NanoGuide综合自助服务平台自助查询电话、电子邮件和设备自带远程支持功能基础操作技巧之外的高阶技术和应用支持延长维修保修合同、升级服务、移机服务Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司为您深度解读增材制造技术。科研增材制造PPGT
Nanoscribe将在未来进一步扩大产品组合实现多样化，以满足不用客户群的需求。Nanoscribe作为一家纳米，微米和中尺度高精度结构增材制造专业人才，一直致力于开发和生产3D微纳加工系统和无掩模光刻系统，以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。Nanoscribe成立于2007年，是卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)的衍生公司。在全球前列大学和创新科技企业的中，有超过2,500多名用户在使用我们突破性的3D微纳加工技术和定制应用解决方案。Nanoscribe凭借其过硬的技术背景和市场敏锐度奠定了其市场的主导地位，并以高标准来要求自己以满足客户的需求广东德国增材制造PPGT2金属3D打印复杂零件，纳糯三维以精湛工艺满足高精度需求。
Nanoscribe是一家德国双光子增材制造系统制造商，2019年6月25日，南极熊从外媒获悉，该公司近日推出了一款新型的机器QuantumX。该新的系统使用双光子光刻技术制造纳米尺寸的折射和衍射微光学元件，其尺寸可小至200微米。根据Nanoscribe的联合创始人兼CSOMichaelThiel博士的说法，“Beers定律对当今的无掩模光刻设备施加了强大的限制，QuantumX采用双光子灰度光刻技术，克服了这些限制，提供了前所未有的设计自由度和易用性，我们的客户正在微加工的前沿工作。“Nanoscribe成立于卡尔斯鲁厄理工学院，现在在上海设有子公司，在美国设有办事处。该公司在财务和技术上获得了蔡司的大力支持，蔡司是德国历史非常悠久，规模比较大的光学系统制造商之一。纳米标记系统基于双光子吸收，这是一种分子被激发到更高能态的过程。为了使用双光子工艺制造3D物体，使用含有单体和双光子活性光引发剂的凝胶作为原料。将激光照射到光敏材料上以形成纳米尺寸的3D打印物体，其中吸收的光的强度比较高。PhotonicProfessionalGT是Nanoscribe此前推出的一款产品，在科学研究中得到了广的应用，并在哈佛大学纳米系统中心，加州理工学院，伦敦帝国理工学院，苏黎世联邦理工大学和庆应义塾大学使用。
Nanoscribe基于双光子聚合技术的3D打印技术为构建具有自由形状和复杂特征的零件提供了极大的自由度，可直接根据CAD模型制造成品。若以传统方式来制造这些设计复杂的零件，则显得非常不切实际，甚至根本不可能完成。增材制造技术制造的零件往往更轻、更高效且能够更好地发挥工作性能。然而，这并不是说这种灵活性能够让我们随心所欲地设计任何想要的形状，至少在成本的约束下，我们也不可能做到这一点。Nanoscribe所具备的纳米标记系统基于双光子吸收，这是一种分子被激发到更高能态的过程。为了使用双光子工艺制造3D物体，使用含有单体和双光子活性光引发剂的凝胶作为原料。将激光照射到光敏材料上以形成纳米尺寸的3D打印物体，其中吸收的光的强度比较高Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维告诉您增材制造技术在工业制造领域中的意义是什么。
3D打印通常是采用数字技术材料打印机来实现的。常在模具制造、工业设计等领域被用于制造模型，后逐渐用于一些产品的直接制造，已经有使用这种技术打印而成的零部件。该技术在珠宝、鞋类、工业设计、建筑、工程和施工（AEC）、汽车，航空航天、牙科和YL产业、教育、地理信息系统、土木工程、**以及其他领域都有地理信息系统所应用。德国Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT系列仪器是目前世界公认的打印精度Z高的微纳米3D打印机。跟传统的以激光立体光刻为**的高精3D打印机相比，利用双光子微光刻原理的PhotonicProfessionalGT系列能够轻松打印出精细结构分辨率高出100倍的三维微纳器件。增材制造相比传统减材制造更加的节省原料，也更加的节约能源。浙江TPP增材制造哪家好
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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻，刻蚀和对准工艺，衍射光学元件（DOE）的传统制造耗时长且成本高.科研增材制造PPGT
