无锡偏光成像式应力仪研发

光学镜片与光学膜在生产加工过程中，内应力的产生不可避免，且其大小与分布情况对光学元件性能有着至关重要的影响。光学镜片内应力源于材料制备时的温度梯度、机械加工时的外力作用以及装配过程中的挤压变形等因素。当内应力存在时，镜片会产生局部双折射现象，导致光线传播路径发生改变，进而影响成像质量，出现像差、畸变等问题。对于精密光学系统而言，哪怕极其微小的内应力，也可能在长时间使用后引发镜片开裂，造成整个系统失效。双折射特性。其**原理基于偏振光干涉或旋转补偿技术，通过发射一束线性偏振光穿透待测样品，检测出射光的相位变化，从而精确计算材料的双折射率分布。该仪器广泛应用于液晶显示（LCD）、光学薄膜、聚合物材料以及晶体等领域的研发与质量控制。成像式应力仪，助您检测材料应力。无锡偏光成像式应力仪研发

光学膜的光轴分布测量是确保其性能达标的关键环节。在偏振片、增透膜等光学薄膜的生产过程中，分子取向的一致性直接影响产品的光学特性。通过精密的光轴测量系统，可以准确获取薄膜各区域的光轴取向角度，检测是否存在局部取向偏差。这种测量通常采用旋转检偏器法或穆勒矩阵椭偏仪，能够以优于0.1度的精度确定光轴方向。特别是在大尺寸光学膜的生产中，光轴分布的均匀性测试尤为重要，任何微小的取向偏差都可能导致产品在后续应用中产生偏振串扰或透射率不均匀等问题。无锡偏光成像式应力仪研发测量区域大，满足多样测试需求。

随着智能制造的深入发展，应力分布测试技术将迎来新的突破。在线式、实时化的应力监测系统将逐步替代传统的离线检测方式，实现制造过程的闭环控制。人工智能技术的引入将使应力数据的分析更加智能化，系统可以自动识别应力异常模式并给出工艺调整建议。在超精密光学元件的生产中，原子级应力分布测试技术正在研发中，这将把质量控制提升到全新高度。同时，应力测试数据的积累将为数字孪生技术提供重要支撑，实现从设计到制造的全流程仿真优化。可以预见，应力分布测试技术将继续推动光学制造行业向更高质量、更高效率的方向发展。

随着光学元件向微型化发展，成像式应力测量技术面临新的挑战和机遇。在直径不足1mm的微透镜阵列检测中，新一代系统通过显微光学系统将空间分辨率提升至5μm，成功实现了对单个微透镜的应力分析。这套系统采用多波长测量技术，有效避免了薄膜干涉对测量结果的干扰。在某MEMS光学器件的研发中，该技术帮助研发团队发现了传统方法无法检测到的微区应力集中现象，为产品可靠性提升提供了关键依据。这些突破使成像式测量成为微光学领域不可或缺的分析工具。在车载显示模组测试中，该设备能监测温差环境下的应力变化，确保长期可靠性。

成像式内应力测量技术是一种先进的光学检测方法，主要用于评估透明材料内部的应力分布状况。该技术基于光弹性原理，通过偏振光学系统和高分辨率成像设备的组合，能够快速、准确地获取样品全场的应力分布图像。系统工作时，偏振光穿过被测样品后，材料内部的应力会导致光的偏振状态发生改变，这种变化被CCD相机捕获并转化为可视化的应力分布图。相比传统点式测量方法，成像式测量具有非接触、全场测量、高空间分辨率等***优势，测量精度通常可达1nm/cm量级。成像式应力仪可国产替代应力双折射仪wpa-200！无锡偏光成像式应力仪研发

空间分辨率佳，细节呈现清晰。无锡偏光成像式应力仪研发

在TGV的电镀填充工艺开发中，成像应力仪提供了不可或缺的反馈与指导。电镀填充的质量直接决定了TGV的电性能与机械可靠性，而填充过程中产生的应力则是一个关键指标。通过使用成像应力仪对不同电镀方案（如脉冲电镀与直流电镀、不同添加剂体系）下形成的铜柱进行应力对比测试，研发人员可以快速识别出哪些工艺条件会导致过大的孔隙或拉伸应力。这种数据驱动的开发模式，明显加速了低应力、无空洞、高均匀性填充工艺的成熟与落地，为TGV技术的量产应用扫清了重要障碍。开启新对话无锡偏光成像式应力仪研发

千宇光学专注于偏振光学应用、光学解析、光电探测器和光学检测仪器的研发与制造。主要事业涵盖光电材料、光学显示、半导体、薄膜橡塑、印刷涂料等行业。 产品覆盖LCD、OLED、VR、AR等上中下游各段光学测试需求，并于国内率先研发相位差测试仪打破国外设备垄断，目前已广泛应用于全国光学头部品牌及其制造商

千宇光学研发中心由光学博士团队组成，掌握自主的光学检测技术, 测试结果可溯源至国家计量标准。与国家计量院、华中科技大学、东南大学、同济大学等高校建立产学研深度合作。千宇以提供高价值产品及服务为发展原动力， 通过持续输出高速度、高精度、高稳定的光学检测技术，优化产品品质，成为精密光学产业有价值的合作伙伴。