EVG101光刻胶处理系统的技术数据:
可用模块:旋涂/ OmniSpray ® /开发
分配选项:
各种光刻胶分配泵,可覆盖高达52000 cP的粘度;
液体底漆/预湿/洗盘;
去除边缘珠(EBR)/背面冲洗(BSR);
恒压分配系统/注射器分配系统。
智能过程控制和数据分析功能(框架软件平台)
用于过程和机器控制的集成分析功能
并行任务/排队任务处理功能,提高效率
设备和过程性能跟/踪功能:智能处理功能;事/故和警报分析/智能维护管理和跟/踪
晶圆直径(基板尺寸):高达300毫米
EVG的大批量制造系统目的是在以**/佳的成本效率与**/高的技术标准相结合,为全球服务基础设施提供支持。MEMS光刻机国内代理

此外,EVG光刻机不断关注未来的市场趋势 - 例如光学3D传感和光子学 - 并为这些应用开发新的方案和调整现有的解决方案,以满足客户不断变化的需求。我们用持续的技术和市场地位证明了这一点,包括EVG在使用各种非标准抗蚀剂方面的****的经验,这些抗蚀剂针对独特的要求和参数进行了优化。了解客户需求和有效的全球支持是我们提供优先解决方案的重要基础。只有接近客户,才能得知客户**真实的需求,这是我们一直时刻与客户保持联系的原因之一。湖南光刻机美元价格IQ Aligner光刻机支持的晶圆尺寸高达200 mm / 300 mm。

EVG101光刻胶处理系统的特征:
晶圆尺寸可达300毫米;
自动旋转或喷涂或通过手动晶圆加载/卸载进行显影;
利用成熟的模块化设计和标准化软件,快速轻松地将过程从研究转移到生产;
注射器分配系统,用于利用小体积的光刻胶,包括高粘度光刻胶;
占地面积小,同时保持较高的人身和流程安全性;
多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)。
选项功能:
使用OmniSpray®涂层技术对高形晶圆表面进行均匀涂层;
蜡和环氧涂层,用于后续粘合工艺;
玻璃旋涂(SOG)涂层。
EVG120特征2:
先进且经过现场验证的机器人具有双末端执行器功能,可确保连续的高产量;
工艺技术卓/越和开发服务:
多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
智能过程控制和数据分析功能[Framework SW Platform]
用于过程和机器控制的集成分析功能
设备和过程性能跟/踪功能;
并行/排队任务处理功能;
智能处理功能;
发生和警报分析;
智能维护管理和跟/踪;
技术数据:
可用模块;
旋涂/ OmniSpray ® /开发;
烤/冷;
晶圆处理选项:
单/双EE /边缘处理/晶圆翻转;
弯曲/翘曲/薄晶圆处理。
在全球范围内,我们为许多用户提供了量产型的光刻机系统,并得到了他们的无数好评。

IQ Aligner工业自动化功能:盒式磁带/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,弯曲,翘曲,边缘晶圆处理
晶圆直径(基板尺寸):高达200毫米
对准方式:
上侧对准:≤±0.5 µm
底侧对准:≤±1,0 µm
红外校准:≤±2,0 µm /具体取决于基板材料
曝光设定:真空接触/硬接触/软接触/接近模式/弯曲模式
曝光选项:间隔曝光/洪水曝光
系统控制
操作系统:Windows
文件共享和备份解决方案/无限制 程序和参数
多语言用户GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR
实时远程访问,诊断和故障排除
产能
全自动:第/一批生产量:每小时85片
全自动:吞吐量对准:每小时80片 HERCULES光刻机系统:全自动光刻跟/踪系统,模块化设计,用于掩模和曝光,集成了预处理和后处理能力。MEMS光刻机国内代理
研发设备与EVG的**技术平台无缝集成,这些平台涵盖从研发到小规模和大批量生产的整个制造链。MEMS光刻机国内代理
EVG ® 150特征:晶圆尺寸可达300毫米
多达6个过程模块
可自定义的数量-多达20个烘烤/冷却/汽化堆
多达四个FOUP装载端口或盒式磁带装载
可用的模块包括旋转涂层,喷涂,NanoCoat™,显影,烘烤/冷却/蒸气/上等
EV集团专有的OmniSpray ®超声波雾化技术提供了****的处理结果,当涉及到极端地形的保形涂层
可选的NanoSpray™模块实现了300微米深图案的保形涂层,长宽比**/高为1:10,垂直侧壁
广/泛的支持材料
烘烤模块温度高达250°C
Megasonic技术用于清洁,声波化学处理和显影,可提高处理效率并将处理时间从数小时缩短至数分钟
MEMS光刻机国内代理
岱美仪器技术服务(上海)有限公司创立于2002-02-07 00:00:00,总部位于上海市,是一家磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 的公司。岱美中国拥有一支经验丰富、技术创新的专业研发团队,以高度的专注和执着为客户提供[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]。公司拥有多年的行业经验,每年以销售收入达到100-200万元,如果您想了解更多产品信息,请通过页面上的电话联系我们。岱美中国始终关注仪器仪表市场,以敏锐的市场洞察力以准确定位,实现与客户的成长共赢。