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膜厚仪基本参数
  • 产地
  • 美国
  • 品牌
  • Frontier Semiconductor (FSM)
  • 型号
  • FSM 413EC, FSM 413MOT,FSM 413SA DP FSM 413C2C, FSM
  • 是否定制
膜厚仪企业商机

F50 和 F60 的晶圆平台提供不同尺寸晶圆平台。

F50晶圆平台- 100mm用于 2"、3" 和 4" 晶圆的 F50 平台组件。

F50晶圆平台- 200mm用于 4"、5"、 6" 和 200mm 晶圆的 F50 平台组件。

F50晶圆平台- 300mm用于 4"、5"、6"、200mm 和 300mm 晶圆的 F50 平台组件。

F50晶圆平台- 450mmF50 夹盘组件实用于 4", 5", 6", 200mm, 300mm, 以及450mm毫米晶片。

F50晶圆平台- 订制预订 F50 的晶圆平台,通常在四星期内交货。

F60晶圆平台- 200mm用于 4"、5"、6" 和 200mm 晶圆的 F60 平台组件。

F60晶圆平台- 300mm用于 4"、5"、6"、200mm 和 300mm 晶圆的 F60 平台组件。 当测量斑点只有1微米(µm)时,需要用您自己的显微镜或者用我们提供的整个系统。半导体膜厚仪高性价比选择

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FSM 413SP

AND FSM 413C2C 红外干涉测量设备

适用于所有可让红外线通过的材料:硅、蓝宝石、砷化镓、磷化铟、碳化硅、玻璃、石  英、聚合物…………


应用:

   衬底厚度(不受图案硅片、有胶带、凹凸或者粘合硅片影响)

   平整度

   厚度变化 (TTV)

   沟槽深度

   过孔尺寸、深度、侧壁角度

   粗糙度

薄膜厚度

不同半导体材料的厚度

   环氧树脂厚度

   衬底翘曲度

   晶圆凸点高度(bump height)

MEMS 薄膜测量

TSV 深度、侧壁角度...

FSM413SP半自动机台人工取放芯片

Wafer 厚度3D图形

FSM413C2C Fully

automatic 全自动机台人工取放芯片

可适配Cassette、SMIF POD、FOUP.

盒厚膜厚仪可以免税吗F3-sX 系列测厚范围:10µm - 3mm;波长:960-1580nm。

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接触探头测量弯曲和难测的表面

CP-1-1.3测量平面或球形样品,结实耐用的不锈钢单线圈。

CP-1-AR-1.3可以抑 制背面反射,对 1.5mm 厚的基板可抑 制 96%。 钢制单线圈外加PVC涂层,比较大可测厚度 15um。

CP-2-1.3用于探入更小的凹表面,直径 17.5mm。

CP-C6-1.3探测直径小至 6mm 的圆柱形和球形样品外侧。

CP-C12-1.3用于直径小至 12mm 圆柱形和球形样品外侧。

CP-C26-1.3用于直径小至 26mm 圆柱形和球形样品外侧。

CP-BendingRod-L350-2弯曲长度 300mm,总长度 350mm 的接触探头。 用于难以到达的区域,但不会自动对准表面。

CP-ID-0to90Deg-2用于食品和饮料罐头内壁的接触探头。

CP-RA-3mmDia-200mmL-2直径**小的接触探头,配备微型直角反射镜,用来测量小至直径 3mm 管子的内壁,不能自动对准表面。

CP-RA-10mmHigh-2配备微型直角反射镜,可以在相隔 10mm 的两个平坦表面之间进行测量。

    光刻胶)polyerlayers(高分子聚合物层)polymide(聚酰亚胺)polysilicon(多晶硅)amorphoussilicon(非晶硅)基底实例:对于厚度测量,大多数情况下所要求的只是一块光滑、反射的基底。对于光学常数测量,需要一块平整的镜面反射基底;如果基底是透明的,基底背面需要进行处理使之不能反射。包括:silicon(硅)glass(玻璃)aluminum(铝)gaas(砷化镓)steel(钢)polycarbonate(聚碳酸脂)polymerfilms(高分子聚合物膜)应用半导体制造液晶显示器光学镀膜photoresist光刻胶oxides氧化物nitrides氮化物cellgaps液晶间隙polyimide聚酰亚胺ito纳米铟锡金属氧化物hardnesscoatings硬镀膜anti-reflectioncoatings增透镀膜filters滤光f20使用**仿真活动来分析光谱反射率数据。标准配置和规格F20-UVF20F20-NIRF20-EXR只测试厚度1nm~40μm15nm~100μm100nm~250μm15nm~250μm测试厚度和n&k值50nmandup100nmandup300nmandup100nmandup波长范围200-1100nm380-1100nm950-1700nm380-1700nm准确度大于%或2nm精度1A2A1A稳定性光斑大小20μm至可选样品大小1mm至300mm及更大探测器类型1250-元素硅阵列512-元素砷化铟镓1000-元素硅&512-砷化铟镓阵列光源钨卤素灯。F40-EXR范围:20nm-120µm;波长:400-1700nm。

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F60 系列生产环境的自动测绘Filmetrics F60-t 系列就像我们的 F50产品一样测绘薄膜厚度和折射率,但它增加了许多用于生产环境的功能。 这些功能包括凹槽自动检测、自动基准确定、全封闭测量平台、预装软件的工业计算机,以及升级到全自動化晶圆传输的机型。

不同的 F60-t 仪器根据波长范围加以区分。 较短的波长 (例如, F60-t-UV) 一般用于测量较薄的薄膜,而较长的波长则可以用来测量更厚、更不平整以及更不透明的薄膜。 

包含的内容:集成平台/光谱仪/光源装置(不含平台)4", 6" and 200mm 参考晶圆TS-SiO2-4-7200 厚度标准真空泵备用灯 应用:衬底厚度(不受图案硅片、有胶带、凹凸或者粘合硅片影响),平整度。Filmetrics F3-SX膜厚仪服务为先

可选的厚度和折射率模块让您能够充分利用 Filmetrics F10 的分析能力。半导体膜厚仪高性价比选择

自动厚度测量系统几乎任何形状的样品厚度和折射率的自动测绘。人工加载或机器人加载均可。

在线厚度测量系统监测控制生产过程中移动薄膜厚度。高达100 Hz的采样率可以在多个测量位置得到。

附件Filmetrics 提供各种附件以满足您的应用需要。

F20 系列世界上****的台式薄膜厚度测量系统只需按下一个按钮,您在不到一秒钟的同时测量厚度和折射率。设置同样简单, 只需插上设备到您运行Windows™系统计算机的USB端口, 并连接样品平台 , F20已在世界各地有成千上万的应用被使用. 事实上,我们每天从我们的客户学习更多的应用.

选择您的F20主要取决於您需要测量的薄膜的厚度(确定所需的波长范围)

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岱美仪器技术服务(上海)有限公司致力于仪器仪表,以科技创新实现***管理的追求。公司自2002-02-07成立以来,投身于[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ],是仪器仪表的主力军。公司坚持以技术创新为发展引擎,以客户满意为动力,目前拥有11~50人专业人员,年营业额达到100-200万元。岱美中国始终关注自身,在风云变化的时代,我们对自身的建设毫不懈怠,高度的专注与执着使我们在行业的从容而自信。

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