谱分析中效率刻度是定量分析的重要前提。效率刻度后可对所测样品进行定性分析。用户可以填写效率刻度相关信息，点击“加入刻度”，点击“拟合函数”，进行拟合。点击使用刻度应用于当前谱图。点击“打开刻度”可调用已保存的刻度，进行应用。
谱分析中的感兴趣区域，用户可以根据谱图信息，添加新的区域并保存当前区域信息。若后续有需求可点击“打开区域”，调用已保存的区域。如果已添加的区域不再需要，将光标放置在需要删除的区域，点击“删除区域”即可。
半导体探测器是60年代以来迅速发展起来的一种新型的射线探测器。它经常被应用于各个领域，不同类型的半导体探测器在不同的方面都有其自身的特点。按形成半导体探测器PN结的方法，可将其分为两种：离子注入型和表面位垒型。离子注入半导体探测器在我国尚未被普遍使用，其辐射剂量特性正在开发当中，因而有很大的研究空间。钝化离子注入平面硅 (Pas-sivated Implanted Planar Silian，简称PIPS) 探测器，是半导体钝化离子注入的新工艺产品。
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