膜厚仪相关图片
  • Profilm3D膜厚仪科研应用,膜厚仪
  • Profilm3D膜厚仪科研应用,膜厚仪
  • Profilm3D膜厚仪科研应用,膜厚仪
膜厚仪基本参数
  • 产地
  • 美国
  • 品牌
  • Frontier Semiconductor (FSM)
  • 型号
  • FSM 413EC, FSM 413MOT,FSM 413SA DP FSM 413C2C, FSM
  • 是否定制
膜厚仪企业商机

备用光源:

LAMP-TH1-5PAK:F10、F20、F30、F40、F50、和 F60 系统的非紫外光源。 5个/盒。1200 小时平均无故障。

LAMP-TH:F42F42 系统的光源。 1000 小时平均无故障。

LAMP-THF60:F60 系统的光源。 1000 小时平均无故障。

LAMP-THF80:F80 系统的光源。 1000 小时平均无故障。

LAMP-D2-L10290:L10290 氘光源。 2007年到2014年F20-UV的使用者。

LAMP-TH-L10290:L10290 钨卤素光源。 2007年到2014年F20-UV的使用者。

LAMP-D2-***T2:***T2光源需更换氘灯, 而卤素灯光源需更换使用LAMP-TH1-5PAK. F3-s980 是波长为980奈米的版本,是为了针对成本敏锐的应用而设计。Profilm3D膜厚仪科研应用

Profilm3D膜厚仪科研应用,膜厚仪

F3-CS:

Filmetrics的F3-CS 专门为了微小视野及微小样品测量设计, 任何人从**操作到研&发人员都可以此簡易USB供电系统在數秒钟内测量如聚对二甲苯和真空镀膜层厚度.

我们具專利的自動校正功能大幅缩短测量设置並可自动调节仪器的灵敏度, 使用免手持测量模式時, 只需简单地將样品面朝下放置在平台上测量样品 , 此時该系统已具備可测量数百种膜层所必要的一切设置不管膜层是否在透明或不透明基底上.

快速厚度测量可选配FILMeasure厚度测量软件使厚度测量就像在平台上放置你的样品一樣容易, 软件內建所有常见的电介质和半导体层(包括C,N和HT型聚对二甲苯)的光学常数(n和k),厚度结果會及時的以直覺的测量结果显示对于進階使用者,可以進一步以F3-CS测量折射率, F3-CS可在任何运行Windows XP到 Windows8 64位作業系統的计算机上运行, USB电缆則提供电源和通信功能. Profilm3D膜厚仪科研应用F30样品层:分子束外延和金属有机化学气相沉积: 可以测量平滑和半透明的,或轻度吸收的薄膜。

Profilm3D膜厚仪科研应用,膜厚仪

Filmetrics 的技术Filmetrics 提供了范围***的测量生物医疗涂层的方案:支架: 支架上很小的涂层区域通常需要显微镜类的仪器。 我们的 F40 在几十个实验室内得到使用,测量钝化和/或药 物输送涂层。我们有独特的测量系统对整個支架表面的自動厚度测绘,只需在测量时旋轉支架。植入件: 在测量植入器件的涂层时,不规则的表面形状通常是***挑战。 Filmetrics 提供这一用途的全系列探头。导丝和导引针: 和支架一样,这些器械常常可以用象 F40 这样的显微镜仪器。导液管和血管成型球囊的厚度:大于 100 微米的厚度和可见光谱不透明性决定了 F20-NIR 是这一用途方面全世界众多实验室内很受欢迎的仪器。

滤光片整平光谱响应。

ND#0.5 衰减整平滤波器.單倍整平滤波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#0.5 衰减整平滤波器.

ND#1 衰减整平滤波器.單倍整平滤波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#1 衰减整平滤波器.

ND#2 衰减整平滤波器.單倍整平滤波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#2 衰减整平滤波器.

420nm 高通滤波器.420nm 高通滤波器於滤波器架.

515nm 高通滤波器.515nm 高通滤波器於滤波器架.

520nm 高通滤波器 +ND1.520nm 高通滤波器 + ND#1 十倍衰减整平滤波器.

520nm 高通滤波器 + ND#2520nm 高通滤波器 + ND#2 一百倍衰减整平滤波器.

550nm 高通滤波器550nm 高通滤波器於滤波器架. 利用可选的 UPG-F10-AR-HC 软件升级能测量 0.25-15um 的硬涂层厚度。

Profilm3D膜厚仪科研应用,膜厚仪

F10-RT同时测量反射和透射以真空镀膜为设计目标,F10-RT 只要单击鼠标即可获得反射和透射光谱。 只需传统价格的一小部分,用户就能进行比较低/比较高 分析、确定 FWHM 并进行颜色分析。

可选的厚度和折射率模块让您能够充分利用 Filmetrics F10 的分析能力。测量结果能被快速地导出和打印。

包含的内容:集成光谱仪/光源装置FILMeasure 8 软件BK7 参考材料Al2O3 参考材料Si 参考材料防反光板镜头纸

额外的好处:每台系统內建超过130种材料库, 随着不同应用更超过数百种应用工程师可立刻提供帮助(周一 - 周五)网上的 “手把手” 支持 (需要连接互联网)硬件升级计划 可测量的层数: 通常能够测量薄膜堆内的三层**薄膜。 在某些情况下,能够测量到十几层。Filmetrics Profilm3D膜厚仪样品测试

产品名称:红外干涉厚度测量设备。Profilm3D膜厚仪科研应用

F30 系列监控薄膜沉积,**强有力的工具F30 光谱反射率系统能实时测量沉积率、沉积层厚度、光学常数 (n 和 k 值) 和半导体以及电介质层的均匀性。

样品层分子束外延和金属有机化学气相沉积: 可以测量平滑和半透明的,或轻度吸收的薄膜。 这实际上包括从氮化镓铝到镓铟磷砷的任何半导体材料。

各项优点:极大地提高生产力低成本 —几个月就能收回成本A精确 — 测量精度高于 ±1%快速 — 几秒钟完成测量非侵入式 — 完全在沉积室以外进行测试易于使用 — 直观的 Windows™ 软件几分钟就能准备好的系统

型号厚度范围*波长范围

F30:15nm-70µm 380-1050nm

F30-EXR:15nm - 250µm 380-1700nm

F30-NIR:100nm - 250µm 950-1700nm

F30-UV:3nm-40µm 190-1100nm

F30-UVX:3nm - 250µm 190-1700nm

F30-XT:0.2µm - 450µm1440-1690nm Profilm3D膜厚仪科研应用

岱美仪器技术服务(上海)有限公司是一家磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 的公司,创建于2002-02-07。岱美中国作为磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 的品牌企业,为客户提供质量的[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]。公司坚持以技术创新为发展引擎,以客户满意为动力,目前拥有11~50人专业人员,年营业额达到100-200万元。岱美中国始终关注仪器仪表市场,以敏锐的市场洞察力以准确定位,实现与客户的成长共赢。

与膜厚仪相关的**
信息来源于互联网 本站不为信息真实性负责