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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

关于WaveOptics       

      WaveOptics是衍射波导的全球**设计商和制造商,衍射波导是可穿戴AR设备中的关键光学组件。

      诸如智能眼镜之类的AR可穿戴设备使用户能够观看覆盖在现实世界之上的数字图像。有两个关键元素可让您看到这些图像-微型投影仪之类的光源,以及将图像从投影仪传递到用户眼睛中的一种方式。

WaveOptics的波导技术可传输来自光源的光波并将其投射到用户的眼睛中。该技术可产生大的眼框,双目观察和高视野。眼图框(查看窗口)是从中可以看到完整图像的AR显示器的尺寸-请参见下图。WaveOptics的波导提供清晰,无失真的文本以及稳定的图像。

      WaveOptics技术旨在用于工业,企业和消费者市场的沉浸式AR体验。该公司的目标是,凭借其独特的技术和专业知识,其波导将成为所有AR可穿戴设备中使用的he心光学组件,以实现****的制造可扩展性和视觉性能,并为众多应用提供多功能性。 高 效,强大的SmartNIL工艺提供高图案保真度,拥有高度均匀图案层和**少残留层,易于扩展的晶圆尺寸和产量。光学镜头纳米压印技术支持

光学镜头纳米压印技术支持,纳米压印

SmartNIL是一项关键的启用技术,可用于显示器,生物技术和光子应用中的许多新创新。例如,SmartNIL提供了****的全区域共形压印,以便满足面板基板上线栅偏振器的**重要标准。SmartNIL还非常适合对具有复杂纳米结构的微流控芯片进行高精度图案化,以支持下一代药 物研究和医学诊断设备的生产。此外,SmartNIL的***发展为制造具有比较高功能,**小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度,这对于实现衍射光学元件(DOE)至关重要。


特征:

体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度

专有SmartNIL ®技术,多使用聚合物印模技术

经过生产验证的分辨率低至40 nm或更小

大面积全场压印

总拥有成本比较低

在地形上留下印记

对准能力

室温过程

开放式材料平台 光学镜头纳米压印技术支持EVG ® 610也可以设计成紫外线纳米压印光刻系统。

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       通过中心提供的试验生产线基础设施,WaveOptics将超越其客户对下个季度的预期需求,并有一条可靠的途径将大批量生产工艺和设备转移至能够大规模生产波导的指定设施适用于全球前列OEM品牌。

      WaveOptics与EVG的合作突显了其致力于以可实现的价格提供高性能,商用波导来帮助客户将AR显示器推向市场的承诺。利用EVG在批量生产设备和工艺技术方面的专业知识,到2019年,AR终端用户产品将以不到600美元的价格进入市场,这是当今行业中的*低价位。

EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV纳米压印光刻系统。

用UV纳米压印能力为特色的EVG's专有SmartNIL通用掩模对准系统®技术,在100毫米范围内。

EVG620 NT以其灵活性和可靠性而闻名,它以**小的占位面积提供了***的掩模对准技术。操作员友好型软件,**短的掩模和模具更换时间以及有效的全球服务支持使它们成为任何研发环境(半自动批量生产)的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,以及背面对准选项。此外,该系统还为多功能配置提供了附加功能,包括键对准和纳米压印光刻。此外,半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。


EVG的纳米压印设备已使纳米图案能够在面板尺寸比较大为第三代(550 mm x 650 mm)的基板上实现。

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SmartNIL是行业**的NIL技术,可对小于40 nm *的极小特征进行图案化,并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合,可实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景,即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本,大批量替代光刻技术。

*分辨率取决于过程和模板


如果需要详细的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 EVG®770可用于连续重复的纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作。山东纳米压印研发生产

NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法。光学镜头纳米压印技术支持

EVG ® 510 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用

自动化压花工艺

EVG专有的**对准工艺,用于光学对准的压印和压印

完全由软件控制的流程执行

闭环冷却水供应选项

外部浮雕和冷却站


EVG ® 510 HE技术数据:

加热器尺寸:150毫米 ,200毫米

比较大基板尺寸:150毫米,200毫米

**小基板尺寸:单芯片,100毫米

比较大接触力:10、20、60 kN

比较高温度:标准:350°C;可选:550°C

夹盘系统/对准系统

150毫米加热器:EVG ® 610,EVG ® 620,EVG ® 6200

200毫米加热器:EVG ® 6200,MBA300,的Smart View ® NT

真空:

标准:0.1毫巴


可选:0.00001 mbar


光学镜头纳米压印技术支持

岱美仪器技术服务(上海)有限公司是一家磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 的公司,是一家拥有11~50人***员工的企业。岱美中国致力于为客户提供质量的半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪,一切以用户需求为中心,深受广大客户的欢迎。公司将不断增强企业重点竞争力,努力学习行业先进知识,遵守行业规范,植根于仪器仪表行业的发展。岱美中国立足于全国市场,依托强大的研发实力,融合世界前沿的技术理念,飞快响应客户的变化需求。

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