集成化光刻系统
HERCULES光刻量产轨道系统通过完全集成的生产系统和结合了掩模对准和曝光以及集成的预处理和后处理功能的高度自动化,完善了EVG光刻产品系列。HERCULES光刻轨道系统基于模块化平台,将EVG已建立的光学掩模对准技术与集成的清洁,光刻胶涂层,烘烤和光刻胶显影模块相结合。这使HERCULES平台变成了“一站式服务”,在这里将经过预处理的晶圆装载到工具中,然后返回完全结构化的经过处理的晶圆。目前可以预定的型号为:HERCULES。请访问官网获取更多的信息。
EVG的代理商岱美仪器能在全球范围内提供服务。浙江光刻机可以用于研发吗
EVG曝光光学:专门开发的分辨率增强型光学元件(REO)可提供高出50%的强度,并显着提高/分辨率,在接近模式下可达到小于3μm的分辨率。REO的特殊设计有助于控制干涉效应以获得分辨率。EVG最/新的曝光光学增强功能是LED灯设置。低能耗和长寿命是UV-LED光源的最/大优势,因为不需要预热或冷却。在用户软件界面中可以轻松、实际地完成曝光光谱设置。此外,LED需要*在曝光期间供电,并且该技术消除了对汞灯经常需要的额外设施(废气,冷却气体)和更换灯的需要。这种理想的组合不仅可以最/大限度地降低运行和维护成本,还可以增加操作员的安全性和环境友好性。辽宁光刻机化合物半导体应用HERCULES平台是“一站式服务”平台。
EVG101光刻胶处理系统的旋转涂层模块-旋转器参数
转速:最/高10 k rpm
加速速度:最/高10 k rpm
喷涂模块-喷涂产生
超声波雾化喷嘴/高粘度喷嘴
开发模块-分配选项
水坑显影/喷雾显影
EVG101光刻胶处理系统附加模块选项:
预对准:机械
系统控制参数:
操作系统:Windows
文件共享和备份解决方案/无限制程序和参数/离线程序编辑器
灵活的流程定义/易于拖放的程序编程
并行处理多个作业/实时远程访问,诊断和故障排除
多语言用户GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR
EVG ® 120--光刻胶自动化处理系统
EVG ® 120是用于当洁净室空间有限,需要生产一种紧凑的,节省成本光刻胶处理系统。
新型EVG120通用和全自动光刻胶处理工具能够处理各种形状和尺寸达200 mm / 8“的基板。新一代EVG120采用全新的超紧凑设计,并带有新开发的化学柜,可用于外部存储化学品,同时提供更高的通量能力,针对大批量客户需求进行了优化,并准备在大批量生产(HVM)中使用EVG120为用户提供了一套详尽的好处,这是其他任何工具所无法比拟的,并保证了最/高的质量各个应用领域的标准,拥有成本却非常低。
EVG同样为客户提供量产型掩模对准系统。
IQ Aligner®NT特征:
零辅助桥接工具-双基板概念,支持200
mm和300 mm的生产灵活性
吞吐量> 200 wph(首/次打印)
尖/端对准精度:
顶侧对准低至250 nm
背面对准低至500 nm
宽带强度> 120 mW /cm²(300毫米晶圆)
完整的明场掩模移动(FCMM)可实现灵活的图案定位并兼容暗场掩模对准
非接触式原位掩膜到晶圆接近间隙验证
超平坦和快速响应的温度控制晶片卡盘,出色的跳动补偿
手动基板装载能力
返工分拣晶圆管理和灵活的盒式系统
远程技术支持和GEM300兼容性
智能过程控制和数据分析功能[Framework Software Platform]
用于过程和机器控制的集成分析功能
设备和过程性能跟/踪功能
并行/排队任务处理功能
智能处理功能
发生和警报分析
智能维护管理和跟/踪 除了光刻机之外,岱美还代理了EVG的键合机等设备。广东光刻机试用
EVG所有掩模对准器都支持EVG专有的NIL技术。浙江光刻机可以用于研发吗
IQ Aligner®NT技术数据:
产能:
全自动:首/次生产量印刷:每小时200片
全自动:吞吐量对准:每小时160片晶圆
工业自动化功能:盒式磁带/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,弯曲,翘曲,晶圆边缘处理
智能过程控制和数据分析功能(框架SW平台)
用于过程和机器控制的集成分析功能
并行任务/排队任务处理功能
设备和过程性能跟/踪功能
智能处理功能
事/故和警报分析/智能维护管理和跟/踪
晶圆直径(基板尺寸):高达300毫米
对准方式:
顶部对准:≤±0,25 µm
底侧对准:≤±0.5 µm
红外对准:≤±2,0 µm /取决于基材 浙江光刻机可以用于研发吗
岱美仪器技术服务(上海)有限公司致力于仪器仪表,是一家贸易型公司。公司自成立以来,以质量为发展,让匠心弥散在每个细节,公司旗下半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪深受客户的喜爱。公司注重以质量为中心,以服务为理念,秉持诚信为本的理念,打造仪器仪表良好品牌。岱美中国秉承“客户为尊、服务为荣、创意为先、技术为实”的经营理念,全力打造公司的重点竞争力。