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本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱，首先简单介绍一下HMDS 预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。   增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。气氛炉如何选择？合肥真萍科技告诉您。福州气氛炉专卖

连续炉即是连续作业炉，是指连续地或间歇地装料，工件在炉内不断移动，完成加热、保温，有时包括冷却在内全过程的热处理炉。连续作业炉可借助某些机械机构连续地或间歇地进行装料和出料，连续顺序地通过按零件处理工艺要求的不同温度区完成加热过程。使用连续作业炉可提高产品质量，提高劳动生产率和改善劳动条件。下面为大家介绍一下连续炉的产品特性。 1.采用智能型温度控制模块，PID自动演算，LED显示，配合SSR大功率可控硅输出，能控制温度之精细度； 2.分段控制（当到达设定温度时可任意关掉其中几段发热管，降低加热功率，其达到省电效果） 3.内箱采用1.5mm厚SUS304#不锈钢(清洁无尘，防生锈、耐腐蚀)，外箱采用1.5mm厚Q235冷轧钢板(强度、塑性和焊接综合性能相当好)； 4.整机控制系统采用触摸屏加PLC程序控制，设备加热、运风、传动、自动门开关均采用智能控制，防止失误动作； 5.当实际检测温度超过超温保护温控器设定值时，自动切断加热电源，起到双重保护功能。嘉兴热风排胶气氛炉合肥真萍科技为您提供专业的售后服务！

无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、***、船舶、电子、通讯等科研及生产单位，主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化，模压固烤、IC（晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别）、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干，电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。下面为大家简单介绍一下无氧干燥箱。 1.技术指标与基本配置： 1.1使用温度：RT～260℃，极限温度：300℃； 1.2炉膛腔数:2个,上下布置； 1.3炉膛材料：SUS304镜面不锈钢；加热元件：不锈钢加热器；热偶：K分度 1.4温度和氧含量记录:无纸记录仪； 2.氧含量（配氧分析仪）： 2.1高温状态氧含量：≤ 10ppm +气源氧含量;低温状态氧含量：≤ 20ppm +气源氧含量 2.2控温稳定度：±1℃； 2.3温度均匀度：±2%℃（260℃平台）；

下面为大家介绍一下高温钟罩炉的各项系统。 一、气氛系统。 1.炉膛气氛：2路空气，流量计量程为 7～70L/min，每路流量可调节； 2.排气系统：在炉膛顶部设置一个排气囱，用于废气排放。 二、传动系统 1.传动方式 ：升降式 2.传动类型 ：电动推杆传动 3.容积 ：20L 三、冷却系统 1.冷却结构 ：无 2.产品降温 ：随炉降温 四、安全保护 1.升、降、停按钮 ：载料台的升、降、停控制 2.报警指示：超温、断偶、过载、超程、偏差等声光报警 3.设备安全升温速率 ≤5℃/min 五、温度控制系统 1.温度测量:采用 B 分度热偶测量 2.控制方式：高性能移相调压+SCR 晶闸管模块控制 2.1当测量温度超过设定的安全值时，断加热，并报警 2.2当测量温度超过目标温度达到限制偏差值时，报警 3.控制仪表：采用进口智能调节仪控制。具有 PID 参数自整定、高 温上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能气氛炉的制作方法难吗？合肥真萍科技告诉您。

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏，解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线，解决液晶的受潮问题，解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜的氮气监控系统。 1.温湿度记录功能： 1.2内建内存，可储存温度/湿度，收集时间1~240 分钟可自行设定。 1.3可利用RS232连接阜下载至计算机中读取。 1.4品管记录格式设计，有助于内部记录追踪并可支持数据库档案格式。 2.湿度警报系统： 2.1可设定启动警报的湿度值及条件，内配蜂鸣器（90分贝）及闪烁警示功能。 2.2可另外选配积层式警示灯。 3.温湿度偏移校正功能：内建校正功能，确保显示准确度。合肥真萍科技气氛炉，****。福州大型气氛炉

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