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光刻机基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620NT,EVG®6200NT,IQ Aligner,HERCULES
  • 是否定制
光刻机企业商机

EVG120光刻胶自动处理系统:

智能过程控制和数据分析功能(框架软件平台)

用于过程和机器控制的集成分析功能

并行任务/排队任务处理功能

设备和过程性能跟/踪功能

智能处理功能:

事/故和警报分析/智能维护管理和跟/踪

晶圆直径(基板尺寸):高达200毫米


模块数:

工艺模块:2

烘烤/冷却模块:**多10个

工业自动化功能:Ergo装载盒式工作站/

SMIF装载端口/ SECS / GEM / FOUP装载端口


分配选项:

各种光刻胶分配泵,可覆盖高达52000 cP的粘度

液体底漆/预湿/洗盘

去除边缘珠(EBR)/背面冲洗(BSR)

恒压分配系统/注射器分配系统

电阻分配泵具有流量监控功能

可编程分配速率/可编程体积/可编程回吸

超音波


HERCULES以**小的占地面积结合了EVG精密对准和光刻胶处理系统的所有优势。广西光刻机LED应用

广西光刻机LED应用,光刻机

IQ Aligner特征:

晶圆/基板尺寸从小到200 mm /

8''

由于外部晶圆楔形测量,实现了非接触式接近模式

增强的振动隔离,有效减少误差

各种对准功能提高了过程灵活性

跳动控制对准功能,提高了效率

多种晶圆尺寸的易碎,薄或翘曲的晶圆处理

高地表形貌晶圆加工经验

手动基板装载能力

远程技术支持和SECS / GEM兼容性


IQ Aligner附加功能:

红外对准–透射和/或反射


IQ Aligner技术数据:

楔形补偿:全自动软件控制

非接触式

先进的对准功能:自动对准;大间隙对准;跳动控制对准;动态对准 广西光刻机LED应用EVG光刻机**/新的曝光光学增强功能是对LED灯的设置。

广西光刻机LED应用,光刻机

HERCULES 光刻轨道系统技术数据:

对准方式:

上侧对准:≤±0.5 µm;

底侧对准:≤±1,0 µm;

红外校准:≤±2,0 µm /具体取决于基材


先进的对准功能:

手动对准;

自动对准;

动态对准。


对准偏移校正:

自动交叉校正/手动交叉校正;

大间隙对准。


工业自动化功能:盒式磁带/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,弯曲,翘曲,边缘晶圆处理

曝光源:汞光源/紫外线LED光源

曝光设定:真空接触/硬接触/软接触/接近模式/弯曲模式


楔形补偿:全自动软件控制;非接触式

曝光选项:

间隔曝光/洪水曝光/扇区曝光


系统控制

操作系统:Windows

文件共享和备份解决方案/无限制 程序和参数

多语言用户GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR

实时远程访问,诊断和故障排除

EVG101光刻胶处理系统的技术数据:

可用模块:旋涂/ OmniSpray ® /开发

分配选项:

各种光刻胶分配泵,可覆盖高达52000 cP的粘度;

液体底漆/预湿/洗盘;

去除边缘珠(EBR)/背面冲洗(BSR);

恒压分配系统/注射器分配系统。


智能过程控制和数据分析功能(框架软件平台)

用于过程和机器控制的集成分析功能

并行任务/排队任务处理功能,提高效率

设备和过程性能跟/踪功能:智能处理功能;事/故和警报分析/智能维护管理和跟/踪


晶圆直径(基板尺寸):高达300毫米


新型的EVG120带有通用和全自动光刻胶处理工具,能够处理各种形状和尺寸达200 mm / 8“的基片。

广西光刻机LED应用,光刻机

光刻机软件支持

基于Windows的图形用户界面的设计,注重用户友好性,并可轻松引导操作员完成每个流程步骤。多语言支持,单个用户帐户设置和集成错误记录/报告和恢复,可以简化用户的日常操作。所有EVG系统都可以远程通信。因此,我们的服务包括通过安全连接,电话或电子邮件,对包括经过现场验证的,实时远程诊断和排除故障。EVG经验丰富的工艺工程师随时准备为您提供支持,这得益于我们分散的全球支持机构,包括三大洲的洁净室空间:欧洲 (HQ), 亚洲 (日本) 和

北美 (美国). 岱美是EVG光刻机在中国的代理商,提供本地化的质量服务。广西光刻机LED应用

EVG光刻机关注未来市场趋势 - 例如光子学 、光学3D传感- 并为这些应用开发新的方案和调整现有的解决方案。广西光刻机LED应用

IQ Aligner®

■   晶圆规格高达200 mm / 300 mm

■   某一时间内

(第/一次印刷/对准)> 90 wph / 80 wph

■   顶/底部对准精度达到 ± 0.5 µm / ± 1.0 µm

■   接近过程100/%无触点

■   可选Ergoload 磁盘,SMIF或者FOUP

■   精/准的跳动补偿,实现**/佳的重叠对准

■   手动装载晶圆的功能

■   IR对准能力–透射或者反射

IQ Aligner® NT

■   零辅助桥接工具-双基片,支持200mm和300mm规格

■   无以伦比的吞吐量(第/一次印刷/对准) > 200 wph / 160 wph

■   顶/底部对准精度达到 ± 250 nm / ± 500 nm

■   接近过程100/%无触点

■   暗场对准能力/ 全场清/除掩模(FCMM)

■   精/准的跳动补偿,实现**/佳的重叠对准

■   智能过程控制和性能分析框架软件平台 广西光刻机LED应用

岱美仪器技术服务(上海)有限公司是一家磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 的公司,是一家集研发、设计、生产和销售为一体的专业化公司。公司自创立以来,投身于半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪,是仪器仪表的主力军。岱美中国不断开拓创新,追求出色,以技术为先导,以产品为平台,以应用为重点,以服务为保证,不断为客户创造更高价值,提供更优服务。岱美中国始终关注仪器仪表市场,以敏锐的市场洞察力,实现与客户的成长共赢。

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