键合机相关图片
  • 中国香港BONDSCALE键合机,键合机
  • 中国香港BONDSCALE键合机,键合机
  • 中国香港BONDSCALE键合机,键合机
键合机基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG501
  • 是否定制
键合机企业商机

      晶圆级封装的实现可以带来许多经济利益。它允许晶圆制造,封装和测试的集成,从而简化制造过程。缩短的制造周期时间可提高生产量并降低每单位制造成本。

      晶圆级封装还可以减小封装尺寸,从而节省材料并进一步降低生产成本。然而,更重要的是,减小的封装尺寸允许组件用于更***的高级产品中。晶圆级封装的主要市场驱动因素之一是需要更小的组件尺寸,尤其是减小封装高度。

      岱美仪器提供的EVG的晶圆键合机,可以实现晶圆级封装的功能。 EVG的键合机设备占据了半自动和全自动晶圆键合机的主要市场份额,并且安装的机台已经超过1500套。中国香港BONDSCALE键合机

中国香港BONDSCALE键合机,键合机

1) 由既定拉力测试高低温循环测试结果可以看出,该键合工艺在满足实际应用所需键合强度的同时,解决了键合对硅晶圆表面平整度和洁净度要求极高、对环境要求苛刻的问题。

2) 由高低温循环测试结果可以看出,该键合工艺可以适应复杂的实际应用环境,且具有工艺温度低,容易实现图 形化,应力匹配度高等优点。

3) 由破坏性试验结果可以看出,该键合工艺在图形边沿的键合率并不高,键合效果不太理想,还需对工艺流程进 一步优化,对工艺参数进行改进,以期达到更高的键合强度与键合率。 黑龙江MEMS键合机同时,EVG研发生产的的GEMINI系统是使用晶圆键合的量产应用的行业标准。

中国香港BONDSCALE键合机,键合机

二、EVG501晶圆键合机特征:

   带有150 mm或200 mm加热器的键合室

   独特的压力和温度均匀性

   与EVG的机械和光学对准器兼容

   灵活的设计和研究配置

     

从单芯片到晶圆   

各种工艺(共晶,焊料,TLP,直接键合)  

可选涡轮泵(<1E-5 mbar)  

可升级阳极键合   

开放式腔室设计,便于转换和维护

兼容试生产需求:

同类产品中的蕞低拥有成本

开放式腔室设计,便于转换和维护

蕞小占地面积的200 mm键合系统:0.8㎡

程序与EVG HVM键合系统完全兼容


以上产品由岱美仪器供应并提供技术支持。

      一旦认为模具有缺陷,墨水标记就会渗出模具,以便于视觉隔离。典型的目标是在100万个管芯中,少于6个管芯将是有缺陷的。还需要考虑其他因素,因此可以优化芯片恢复率。

      质量体系确保模具的回收率很高。晶圆边缘上的裸片经常会部分丢失。芯片上电路的实际生产需要时间和资源。为了稍微简化这种高度复杂的生产方法,不对边缘上的大多数模具进行进一步处理以节省时间和资源的总成本。

      半导体晶圆的光刻和键合技术以及应用设备,可以关注这里:EVG光刻机和键合机。 以上应用工艺也让MEMS器件,RF滤波器和BSI(背面照明)CIS(CMOS图像传感器)的生产迅速增长。

中国香港BONDSCALE键合机,键合机

BONDSCALE与EVG的行业基准GEMINI FB XT自动熔融系统一起出售,每个平台针对不同的应用。虽然BONDSCALE将主要专注于工程化的基板键合和层转移处理,但GEMINI FB XT将支持要求更高对准精度的应用,例如存储器堆叠,3D片上系统(SoC),背面照明的CMOS图像传感器堆叠以及管芯分区。


特征

在单个平台上的200 mm和300

mm基板上的全自动熔融/分子晶圆键合应用

通过等离子活化的直接晶圆键合,可实现不同材料,高质量工程衬底以及薄硅层转移应用的异质集成

支持逻辑缩放,3D集成(例如M3),3D VLSI(包括背面电源分配),N&P堆栈,内存逻辑,集群功能堆栈以及超越CMOS的采用的层转移工艺和工程衬底


BONDSCALE™自动化生产熔融系统的技术数据

晶圆直径(基板尺寸)

200、300毫米

**/高 数量或过程模块

8

通量

每小时**多40个晶圆


处理系统

4个装载口

特征

多达八个预处理模块,例如清洁模块,LowTemp™等离子活化模块,对准验证模块和解键合模块

XT框架概念通过EFEM(设备前端模块)实现**/高吞吐量

光学边缘对准模块:Xmax / Ymax = 18 µm 3σ GEMINI FB XT适用于诸如存储器堆叠,3D片上系统(SoC),背面照明的CMOS图像传感器堆叠和芯片分割等应用。EVG510键合机服务为先

EVG键合机通过控制温度,压力,时间和气体,允许进行大多数键合过程。中国香港BONDSCALE键合机

EVG®850LT的LowTemp™等离子激/活模块 2种标准工艺气体:N2和O2以及2种其他工艺气体:高纯度气体(99.999%),稀有气体(Ar,He,Ne等)和形成气体(N2,Ar含量蕞/高为4%的气体)2) 通用质量流量控制器:蕞多可对4种工艺气体进行自校准,可对配方进行编程,流速蕞/高可达到20.000sccm 真空系统:9x10-2mbar(标准)和9x10-3mbar(涡轮泵选件),高频RF发生器和匹配单元 清洁站 清洁方式:冲洗(标准),超音速喷嘴,超音速面积传感器,喷嘴,刷子(可选) 腔室:由PP或PFA制成 清洁介质:去离子水(标准),NH4OH和H2O2(蕞/大)。2%浓度(可选) 旋转卡盘:真空卡盘(标准)和边缘处理卡盘(选件),由不含金属离子的清洁材料制成 旋转:蕞/高3000rpm(5s) 清洁臂:蕞多5条介质线(1个超音速系统使用2条线) 可选功能 ISO3mini-environment(根据ISO14644) LowTemp™等离子活化室 红外检查站中国香港BONDSCALE键合机

岱美仪器技术服务(上海)有限公司主要经营范围是仪器仪表,拥有一支专业技术团队和良好的市场口碑。公司业务分为半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪等,目前不断进行创新和服务改进,为客户提供良好的产品和服务。公司注重以质量为中心,以服务为理念,秉持诚信为本的理念,打造仪器仪表良好品牌。在社会各界的鼎力支持下,持续创新,不断铸造***服务体验,为客户成功提供坚实有力的支持。

与键合机相关的**
信息来源于互联网 本站不为信息真实性负责