杭州气氛炉

本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱，首先简单介绍一下HMDS 预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。   增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。气氛炉制作原理是什么呢？合肥真萍科技为您专业解答。杭州气氛炉

隧道炉适用于五金模具、航天航空、纳米材料、精密陶瓷、粉末治金、铁氟龙喷涂、五金、锂电池、化工、运动器材、汽车零配件、电机、化工、工业之烘烤、干燥、预热回火、退火、老化等用途。下面为大家介绍一下真萍科技隧道炉的技术参数。 1.送风方式：强制送风循环系统。 2.温度范围：RT+10℃~300℃。 3.温度精度：±1℃ 4.温度均匀性：±1℃ 5.温控装置：富士智能PID温控仪，LED数字显示，PID自动演算及定时。 6.材质：内胆不锈钢，外箱体钢板静电喷塑。 7.传送方式：链杆、链网、自动锟轮，相当强承重。 8.特制复合式电加热器。 9.保护装置：漏电保护、断路保护、电机过载保护、接地保护、非正常运行情况下蜂鸣报警。大型气氛炉标准选用定制气氛炉有哪些好处呢？合肥真萍科技为您介绍。

无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、***、船舶、电子、通讯等科研及生产单位，主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化，模压固烤、IC（晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别）、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干，电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。下面为大家简单介绍一下无氧干燥箱。 1.技术指标与基本配置： 1.1使用温度：RT～260℃，极限温度：300℃； 1.2炉膛腔数:2个,上下布置； 1.3炉膛材料：SUS304镜面不锈钢；加热元件：不锈钢加热器；热偶：K分度 1.4温度和氧含量记录:无纸记录仪； 2.氧含量（配氧分析仪）： 2.1高温状态氧含量：≤ 10ppm +气源氧含量;低温状态氧含量：≤ 20ppm +气源氧含量 2.2控温稳定度：±1℃； 2.3温度均匀度：±2%℃（260℃平台）；

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏，解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线，解决液晶的受潮问题，解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜的氮气监控系统。 1.2.3寸 LED 大屏幕数字显示湿度/温度。 2.温湿度显示值0.1％-99.9％RH，温度显示值0.1℃-60.0℃。 3.温湿度收集采准确传感器，长距离传输无误差。 4.湿度控制： 4.1利用湿度设定值来控制氮气流入，到达湿度设定值即停止进气，节省氮气耗用。 4.2湿度在1％-60％RH 可调整。合肥真萍科技为您提供气氛炉的详细介绍。

中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理，下面为大家介绍一下中温气氛箱式炉的系统配置。 一、冷却系统 1.冷却结构 无 2.产品降温 随炉降温 3.安全保护 4.报警指示 超温、断偶、停水、停气等声光报警保护 5.设备安全升温速率 ≤5℃/min 二、温度控制系统 1.温度测量 采用 K 分度热偶测量 2.控制仪表 采用进口智能调节仪控制。具有 PID 参数自整定、高温 3.上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能 4.控制方式 固态继电器过零控制 5.超温处理 ⑴.当测量温度超过设定的安全值时，断加热，并报警。 ⑵.当测量温度超过目标温度达到安全偏差值时，报警。合肥真萍科技为您提供质量的定制气氛炉价格。淮北气氛炉质量商家

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