无尘工业烤箱多少钱一台

产品名称：洁净烘箱

产品介绍：本产品是参照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造，广泛应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。

技术指标：

1 无尘等级：Class100：（符合FED-STD 209E标准：0.3um≤300个0.5≤100个）

2温度范围：+60℃~ +250℃（极限温度350℃）

3温度均匀性：±2℃（空箱测试）

4温度精确度：±1℃（空箱测试）

5设备型号规格:450*450*450；450*600*450；600*800*600；600*700*600;700*900*700;

700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;

1000*1300*1000;1000*1400*1000;

箱体结构：

1烘箱总体由箱体部分，电气控制柜部分，电加热部分，风道部分，尘埃物过滤部分，

N2 进气排气及风冷部分等组装而成，结构合理，功能实用。

2外箱材料:外箱采用SS41#中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆可防

止微尘，内胆材料：采进口SUS304#2mm不锈钢板全周氩焊,并经碱性苏打水清洁有效的防止了机台本身灰尘的产生。

3保温材料：采用正厂**玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充，有效的防止了热能浪费。

4电热部分：采用进口覆套式电热器（SHEATHED HEATER）无尘无氧化电热发生器

广泛应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。无尘工业烤箱多少钱一台

中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理。

一、热工系统

1.额定温度 800℃

2.较高温度 850℃

3.加热元件 陶瓷外丝加热管

4.加热功率 18kw

5.空炉保温功率 约 9kw

6.温区个数 1 个

7.控温点数 2 点

8.热偶 K 分度

9.控温稳定度 ±1℃(恒温平台)

10.炉膛温度均匀度 ±6℃（恒温 800℃,1h）

二、气氛系统

1.炉膛气氛 2 路氮气，流量计量程为 2～20L/min；每路流量可调节

2.排气系统 在炉膛顶部设置一个排气*囱，用于废气排放，废气

3.经过水封清洗后进入大气中，减少对环境污染

4.氧含量 配氧含量分析仪分析氧含量：

5.高温状态氧含量≤10ppm+气源氧含量

6.低温状态氧含量≤50ppm+气源氧含量

三、冷却系统

1.冷却结构 无

2.产品降温 随炉降温

3.安全保护

4.报警指示 超温、断偶、停水、停气等声光报警保护

5.设备安全升温速率 ≤5℃/min

四、温度控制系统

1.温度测量 采用 K 分度热偶测量

2.控制仪表 采用进口智能调节仪控制。具有 PID 参数自整定、高温

3.上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能

4.控制方式 固态继电器过零控制

5.超温处理 ⑴.当测量温度超过设定的安全值时，断加热，并报警。

⑵.当测量温度超过目标温度达到安全偏差值时，报警。 生产工业烤箱专卖工业烤箱的生产厂家名录。

下面为大家简单介绍一下洁净烘箱

本产品是参照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造，普遍应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。

技术指标：

1 无尘等级：Class100：（符合FED-STD 209E标准：0.3um≤300个0.5≤100个）

2温度范围：+60℃~ +250℃（极限温度350℃）

3温度均匀性：±2℃（空箱测试）

4温度精确度：±1℃（空箱测试）

5设备型号规格:

450*450*450450*600*450600*800*600600*700*600;700*900*700;700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;1000*1300*1000;1000*1400*1000;

石墨盘烤盘炉

一.产品介绍

真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。

二、设计特点

1、后门设计热风电机

2、降温时风机开启，同时两端降温封头开启，炉膛内产生如图所示的气体流向

3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换，达到快速降温的目的

三、技术指标

1、使用温度：1450℃；比较高温度：1500℃；

2、绝热材料：石墨纤维毯、石墨纸；

4、加热元件：石墨加热棒；

5、冷却方式：气冷 + 循环风冷降温；

6、控温稳定度：±2℃，具有PID参数自整定功能；

7、炉膛温度均匀度：±5℃（恒温1500℃）；

8、气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%；

9、极限真空: 10-3torr级；

10、抽气速率：空载下，30min达到10-2torr

11、升温功率：170kW；

12、升温速率：15℃/min（空载）；

13、降温速率：1450℃至80℃,240分钟

14、腔体尺寸：1000*1000*1000mm（宽*深*高） 为什么大家都选择合肥真萍科技的工业烤箱，原因真萍告诉您。

HMDS 预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

  增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。 合肥真萍科技****，真诚推荐选择。高温工业烤箱维修

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真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏，解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线，解决液晶的受潮问题，解决线路板受潮问题。

氮气监控系统：

1.1、2.3” LED 大屏幕数字显示湿度/温度。

1.2 、温湿度显示值0.1％-99.9％RH，温度显示值0.1℃-60.0℃。

1.3 、温湿度收集采准确传感器，长距离传输无误差。

1.4 、湿度控制：

2.4.1利用湿度设定值来控制氮气流入，到达湿度设定值即停止进气，节省氮气耗用。

2.4.2湿度在1％-60％RH 可调整。

1.5、温湿度记录功能：

2.5.1内建内存，可储存温度/湿度，收集时间1~240 分钟可自行设定。

2.5.2可利用RS232连接阜下载至计算机中读取。

2.5.3 品管记录格式设计，有助于内部记录追踪并可支持数据库档案格式。

1.6、湿度警报系统：

1.6.1可设定启动警报的湿度值及条件，内配蜂鸣器（90分贝）及闪烁警示功能。

1.6.2可另外选配积层式警示灯。

1.7、温湿度偏移校正功能：内建校正功能，确保显示准确度。 无尘工业烤箱多少钱一台