中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理。一、热工系统1.额定温度800℃2.较高温度850℃3.加热元件陶瓷外丝加热管4.加热功率18kw5.空炉保温功率约9kw6.温区个数1个7.控温点数2点8.热偶K分度9.控温稳定度1℃(恒温平台)10.炉膛温度均匀度6℃(恒温80...
真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜。
洁净节能氮气柜的过滤系统:
2.1 EBM 电子式EC 马达控制无尘室**FFU。
2.2 镜面不锈钢结构体。
2.3 特殊导流风道设计,风压平均,可有效提供风量,降低噪音。
2.4 电路板控制模块,提供安 全保护装置,运转异常指示灯及控制干接点输出。
2.5 无段式风量调速器可任意调整风量大小。
2.6 滤网ULPA,0.12μm,99.9995%以上的过滤效果。
2.7 电力格:单相220V 50Hz 0.95A,输出功率150W。
洁净节能氮气柜的柜体规格、配备:
1.左右双开门,3mm钢化玻璃,1mm厚不锈钢板,气密式隐藏锁把手。
2.柜体密封高吸附力磁性胶条与柜体密闭,脚垫采高承载车轮及调整高低脚垫。
3. 附高载重不锈钢隔板,柜体加装高载重煞车轮。
4.上掀式气密盖,方便 FFU保养及维修。
5.回风循环设计,单向氮气循环不产生紊流。
6.背面气密开门式设计,方便洁净清理与保养。 合肥真萍科技为您提供专业质量服务。嘉兴哪里有工业烤箱
产品名称:洁净烘箱
产品介绍:本产品是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,广泛应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。
技术指标:
1 无尘等级:Class100:(符合FED-STD 209E标准:0.3um≤300个0.5≤100个)
2温度范围:+60℃~ +250℃(极限温度350℃)
3温度均匀性:±2℃(空箱测试)
4温度精确度:±1℃(空箱测试)
5设备型号规格:450*450*450;450*600*450;600*800*600;600*700*600;700*900*700;
700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;
1000*1300*1000;1000*1400*1000;
箱体结构:
1烘箱总体由箱体部分,电气控制柜部分,电加热部分,风道部分,尘埃物过滤部分,
N2 进气排气及风冷部分等组装而成,结构合理,功能实用。
2外箱材料:外箱采用SS41#中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆可防
止微尘,内胆材料:采进口SUS304#2mm不锈钢板全周氩焊,并经碱性苏打水清洁有效的防止了机台本身灰尘的产生。
3保温材料:采用正厂**玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充,有效的防止了热能浪费。
4电热部分:采用进口覆套式电热器(SHEATHED HEATER)无尘无氧化电热发生器
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下面为大家介绍一下真空干燥箱。它是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿,使工作室内形成真空状态,降低水的沸点,加快干燥的速度。
特点:
1、长方体工作室,增加有效容积,微电脑温度控制器,精确控温。
2、双层玻璃视窗观察工作室内物体,一目了然。
3、箱体闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。
4、工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成,确保产品经久耐用。
5、储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行,所以不会氧化。
真空程序分段控制
该型号机型,抽真空过程可提供程序化编程,根据客户要求编辑设定真空值,保压时间值。可实现多段抽真空和保压编程。
操作步骤
1,接通电源
2,产品送入腔体,关门
3,打开电源
4,工作温度设定好,启动加热,设备进入自动恒温状态
5,真空值和时间设定好后,启动真空泵,开始进入自动抽真空阶段
6,到达时间值后,真空泵自动关闭
下面为大家介绍一下石墨盘烤盘炉
一.产品介绍
真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提高制品质量的目的。
二、设计特点
1、后门设计热风电机
2、降温时风机开启,同时两端降温封头开启,炉膛内产生如图所示的气体流向
3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换,达到快速降温的目的
三、技术指标
1、使用温度:1450℃;比较高温度:1500℃;
2、绝热材料:石墨纤维毯、石墨纸;
4、加热元件:石墨加热棒;
5、冷却方式:气冷 + 循环风冷降温;
6、控温稳定度:±2℃,具有PID参数自整定功能;
7、炉膛温度均匀度:±5℃(恒温1500℃);
8、气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%;
9、极限真空: 10-3torr级;
10、抽气速率:空载下,30min达到10-2torr
11、升温功率:170kW;
12、升温速率:15℃/min(空载);
13、降温速率:1450℃至80℃,240分钟
14、腔体尺寸:1000*1000*1000mm(宽*深*高) 真萍科技是从事热处理设备、烘烤制程设备、环境与可靠性试验设备、半导体黄光区**设备等产品专业供应商。
箱体结构:
1烘箱总体由箱体部分,电气控制柜部分,电加热部分,风道部分,尘埃物过滤部分,N2 进气排气及风冷部分等组装而成,结构合理,功能实用。
2外箱材料:外箱采用SS41#中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆可防止微尘,内胆材料:采用进口SUS304#2mm不锈钢板全周氩焊,并经碱性苏打水清洁有效的防止了机台本身灰尘的产生。
3保温材料:采用正厂**玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充,防止了热能浪费。
4电热部分:采用覆套式电热器(SHEATHED HEATER)无尘无氧化电热发生器
5风道部分:整体结构采用了水平送风的方式由左向右送风后经美国进口H.E.P.A,(特殊风道设计)过滤效果可达99.99%,Class100; 工业烤箱的定制价格。杭州定制工业烤箱
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HMDS 预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。
增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。 嘉兴哪里有工业烤箱
中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理。一、热工系统1.额定温度800℃2.较高温度850℃3.加热元件陶瓷外丝加热管4.加热功率18kw5.空炉保温功率约9kw6.温区个数1个7.控温点数2点8.热偶K分度9.控温稳定度1℃(恒温平台)10.炉膛温度均匀度6℃(恒温80...
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