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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

    据外媒报道,美国威斯康星大学麦迪逊分校(UWMadison)的研究人员们,已经同合作伙伴联手实现了一种突破性的方法。不仅**简化了低成本高性能、无线灵活的金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的制造工艺,还克服了许多使用标准技术制造设备时所遇到的操作上的问题。该技术可用于制造大卷的柔性塑料印刷线路板,并在可穿戴电子设备和弯曲传感器等领域派上大用场。研究人员称,这项突破性的纳米压印平板印刷制造工艺,可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶体管。由于出色的低电流需求和更好的高频性能,MOSFET已经迅速取代了电子电路中常见的双极晶体管。为了满足不断缩小的集成电路需求,MOSFET尺寸也在不断变小,然而这也引发了一些问题。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。光学镜头纳米压印实际价格

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    NIL系统肖特增强现实负责人RuedigerSprengard博士表示:“将高折射率玻璃晶圆的制造扩展到300-mm,对于实现我们客户满足当今和未来**AR/MR设备不断增长的市场需求所需的规模经济产量来说至关重要。通过携手合作,EVG和肖特彰显了当今300-mm高折射率玻璃制造的设备和供应链的就绪性。”在此之前,使用光刻/纳米压印技术对具有光子学应用结构的玻璃基板进行图案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圆加工的迁移是将AR/MR头戴显示设备推向大众消费和工业市场迈出的重要一步。不过,在这些较大的基板上保持高基板质量和工艺均匀性是很难控制的,需要先进的自动化和工艺控制能力。EVG的SmartNIL技术得益于多年的研究、开发和实验,旨在满足纳米图案成形的需求,经过了现场验证,能够轻松从晶圆级样品尺寸扩展到大面积基板。去年六月,EVG推出了HERCULES®NIL300mm,将SmartNIL引入300-mm制造,满足各种设备和应用的生产需求,其中包括AR、MR和虚拟现实(VR)头戴显示设备的光学器件以及3D传感器、生物医疗设备、纳米光子学和等离子电子学。集成到SmartNIL®UV-NIL系统的全模块化EVG®HERCULES®。MEMS纳米压印美元报价EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA是自动化的全场域纳米压印解决方案,适用于第3代基材。

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IQ Aligner UV-NIL 自动化紫外线纳米压印光刻系统

应用:用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统

IQ Aligner UV-NIL系统允许使用直径从150 mm至300 mm的压模和晶片进行微成型和纳米压印工艺,非常适合高度平行地制造聚合物微透镜。该系统从从晶圆尺寸的主图章复制的软性图章开始,提供了混合和整体式微透镜成型工艺,可以轻松地将其与工作图章和微透镜材料的各种材料组合相适应。此外,EV Group提供合格的微透镜成型工艺,包括所有相关的材料专业知识。EV Group专有的卡盘设计可为高产量大面积印刷提供均匀的接触力。配置包括从压印基材上释放印章的释放机制。


EVG ® 6200 NT特征:

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形补偿序列

电动和程序控制的曝光间隙

支持***的UV-LED技术

**小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)

敏捷处理和转换工具

台式或带防震花岗岩台的单机版


EVG ® 6200 NT附加功能:

键对准

红外对准

智能NIL ®

µ接触印刷技术数据

晶圆直径(基板尺寸)

标准光刻:75至200 mm

柔软的UV-NIL:75至200毫米

SmartNIL ®:**多至150mm

解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:软UV-NIL&SmartNIL

®


曝光源:汞光源或紫外线LED光源

对准:软NIL:≤±0.5 µm;SmartNIL ®:≤±3微米

自动分离:柔紫外线NIL:不支持;SmartNIL

®:支持


工作印章制作:柔软的UV-NIL:外部;SmartNIL ®:支持


EVG的纳米压印设备已使纳米图案能够在面板尺寸比较大为第三代(550 mm x 650 mm)的基板上实现。

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HERCULES ® NIL完全模块化和集成SmartNIL ® UV-NIL系统达300毫米

结合EVG的SmartNIL一个完全模块化平台®技术支持AR / VR,3D传感器,光子和生物技术生产应用


EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的跟 踪系统,将清洁,抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤与EVG专有的SmartNIL大面积纳米压印光刻(NIL)工艺结合在一个平台上,用于直径比较大为300 mm的晶圆。它是***个基于EVG的全模块化设备平台和可交换模块的NIL系统,可为客户提供比较大的自由度来配置他们的系统,以比较好地满足其生产需求,包括200 mm和300 mm晶圆的桥接功能。


EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT是具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统。UV纳米压印代理价格

EVG紫外光纳米压印系统有: EVG®610,EVG®620NT,EVG®6200NT,EVG®720,EVG®7200等。光学镜头纳米压印实际价格

EVGROUP®|产品/纳米压印光刻解决方案

纳米压印光刻的介绍:

EV Group是纳米压印光刻(NIL)的市场**设备供应商。EVG开拓了这种非常规光刻技术多年,掌握了NIL并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。EVG的专有SmartNIL技术通过多年的研究,开发和现场经验进行了优化,以解决常规光刻无法满足的纳米图案要求。SmartNIL可提供低至40 nm的出色保形压印结果。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。


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岱美仪器技术服务(上海)有限公司一直专注于磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 ,是一家仪器仪表的企业,拥有自己**的技术体系。目前我公司在职员工以90后为主,是一个有活力有能力有创新精神的团队。岱美仪器技术服务(上海)有限公司主营业务涵盖半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪,坚持“质量保证、良好服务、顾客满意”的质量方针,赢得广大客户的支持和信赖。公司凭着雄厚的技术力量、饱满的工作态度、扎实的工作作风、良好的职业道德,树立了良好的半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪形象,赢得了社会各界的信任和认可。

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