工业烤箱基本参数
  • 产地
  • 安徽合肥
  • 品牌
  • 合肥真萍电子科技有限公司
  • 型号
  • 齐全
  • 是否定制
工业烤箱企业商机

下面为大家介绍一下石墨盘烤盘炉

一.产品介绍

真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提高制品质量的目的。

二、设计特点

1、后门设计热风电机

2、降温时风机开启,同时两端降温封头开启,炉膛内产生如图所示的气体流向

3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换,达到快速降温的目的

三、技术指标

1、使用温度:1450℃;比较高温度:1500℃;

2、绝热材料:石墨纤维毯、石墨纸;

4、加热元件:石墨加热棒;

5、冷却方式:气冷 + 循环风冷降温;

6、控温稳定度:±2℃,具有PID参数自整定功能;

7、炉膛温度均匀度:±5℃(恒温1500℃);

8、气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%;

9、极限真空: 10-3torr级;

10、抽气速率:空载下,30min达到10-2torr

11、升温功率:170kW;

12、升温速率:15℃/min(空载);

13、降温速率:1450℃至80℃,240分钟

14、腔体尺寸:1000*1000*1000mm(宽*深*高) 合肥真萍科技简述工业烤箱规范标准。上海做工业烤箱

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下面为大家简单介绍一下六腔体无尘烤箱。

本产品是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,广泛应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。

技术指标:

1 无尘等级:Class100:(符合FED-STD 209E标准:0.3um≤300个0.5≤100个)

2温度范围:+60℃~ +250℃(极限温度350℃)

3温度均匀性:±2℃(空箱测试)

4温度精确度:±1℃(空箱测试)

5设备型号规格:450*450*450;450*600*450;600*800*600;600*700*600;700*900*700;

700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;

1000*1300*1000;1000*1400*1000; 大型工业烤箱厂家工业烤箱选购应该注意哪些呢?合肥真萍科技告诉您。

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产品描述:真空干燥箱,是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿,使工作室内形成真空状态,降低水的沸点,加快干燥的速度。

特点:

1、长方体工作室,增加有效容积,微电脑温度控制器,精确控温。

2、双层玻璃视窗观察工作室内物体,一目了然。

3、箱体闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。

4、工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成,确保产品经久耐用。

5、储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行,所以不会氧化。

真空程序分段控制

该型号机型,抽真空过程可提供程序化编程,根据客户要求编辑设定真空值,保压时间值。可实现多段抽真空和保压编程。

可靠的测控系统

1温度控制装置:进口温控器,内置PID自动整定,斜率设定功能

2温度控制方式为SSR固态继电器功率调整输出,温度采集探头为特制铠装K型热电偶

3温度监控装置:采用六通道巡回检测 有纸记录仪,可将烤箱内实时环境温度进行检测打印。

完善的控制系统,及安全防护措施

1操作控制系统,采用精密电子仪器仪表结合电力拖动系统控制,更快速,更稳定。

2防护措施:紧急停止,超温保护,断线报警,相序保护,过载保护,短路保护,漏电保护,及电磁门禁保护等 合肥真萍科技工业烤箱值得推荐。

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一、本产品广泛应用于航空、航天、电子、通讯等科研及生产单位。确定仪器仪表、电工产品、材料、零部件、设备等在低气压、高温单项或同时作用下的环境适应性与可靠性试验.

二、主要技术指标:

1、工作室温度范围:常温~ +300℃   用户使用温度260℃

2、温度波动度:    ±1.0℃(空载);

3、温度偏差:     常压温度试验:常温~200℃时±2℃  

200~300℃时±5.0℃

低气压高温综合试验:≤100℃时±2.0℃,

100℃~200℃时±5.0℃

200℃~300℃时±7.0℃

4、 升降温速率:

升温时间:①常压时:90min(常温~ +260℃)

    ②低气压0.0001pa时:180min(常温~ +260℃)

降温时间:3℃~10℃/min(260℃~ 120℃), 1℃~5℃/min(120℃~ 常温℃)

降温方式:水冷降温

5、试验箱承压方式:采用内承压方式

6、压力范围:     常压~0.0001Pa 广泛应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。福建工业烤箱温度不均匀

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超高真空烘箱 

一、本产品广泛应用于航空、航天、电子、通讯等科研及生产单位。确定仪器仪表、电工产品、材料、零部件、设备等在低气压、高温单项或同时作用下的环境适应性与可靠性试验.

二、主要技术指标:

1、工作室温度范围:常温~ +300℃   用户使用温度260℃

2、温度波动度:    ±1.0℃(空载);

3、温度偏差:     常压温度试验:常温~200℃时±2℃  

200~300℃时±5.0℃

低气压高温综合试验:≤100℃时±2.0℃,

100℃~200℃时±5.0℃

200℃~300℃时±7.0℃

4、 升降温速率:

升温时间:①常压时:90min(常温~ +260℃)

    ②低气压0.0001pa时:180min(常温~ +260℃)

降温时间:3℃~10℃/min(260℃~ 120℃), 1℃~5℃/min(120℃~ 常温℃)

降温方式:水冷降温

5、试验箱承压方式:采用内承压方式

6、压力范围:     常压~0.0001Pa 上海做工业烤箱

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