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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

纳米压印设备哪个好?预墨印章用于将材料以明显的图案转移到基材上。该技术用于表面化学的局部修饰或捕获分子在生物传感器制造中的精确放置。

纳米压印设备可以进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。


将聚合物片或旋涂聚合物加热到其玻璃化转变温度以上,从而将材料转变为粘性状态。然后以足够的力将压模压入聚合物中。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。


EVG ® 7200 LA是大面积SmartNIL ® UV紫外光纳米压印光刻系统。光学镜头纳米压印优惠价格

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纳米压印光刻(NIL)技术

EVG是纳米压印光刻(NIL)设备和集成工艺的市场**供应商。EVG从19年前的研究方法中率先并掌握了NIL,并实现了从2英寸化合物半导体晶圆到300 mm晶圆甚至大面积面板的各种尺寸基板的批量生产。NIL是产生纳米尺度分辨率图案的**有前途且相当有成本效益的工艺,可用于生物MEMS,微流体,电子学以及**近各种衍射光学元件的各种商业应用。


其中EVG紫外光纳米压印系统型号包含:

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®


热压纳米压抑系统型号包含:

EVG®510HE

EVG®520HE


详细的参数,请联系我们岱美有限公司。


EVG7200纳米压印有谁在用SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能,因此还可以实现****的吞吐量。

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HERCULES ® NIL完全模块化和集成SmartNIL ® UV-NIL系统达300毫米

结合EVG的SmartNIL一个完全模块化平台®技术支持AR / VR,3D传感器,光子和生物技术生产应用


EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的跟 踪系统,将清洁,抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤与EVG专有的SmartNIL大面积纳米压印光刻(NIL)工艺结合在一个平台上,用于直径比较大为300 mm的晶圆。它是***个基于EVG的全模块化设备平台和可交换模块的NIL系统,可为客户提供比较大的自由度来配置他们的系统,以比较好地满足其生产需求,包括200 mm和300 mm晶圆的桥接功能。


关于WaveOptics       

      WaveOptics是衍射波导的全球**设计商和制造商,衍射波导是可穿戴AR设备中的关键光学组件。

      诸如智能眼镜之类的AR可穿戴设备使用户能够观看覆盖在现实世界之上的数字图像。有两个关键元素可让您看到这些图像-微型投影仪之类的光源,以及将图像从投影仪传递到用户眼睛中的一种方式。

WaveOptics的波导技术可传输来自光源的光波并将其投射到用户的眼睛中。该技术可产生大的眼框,双目观察和高视野。眼图框(查看窗口)是从中可以看到完整图像的AR显示器的尺寸-请参见下图。WaveOptics的波导提供清晰,无失真的文本以及稳定的图像。

      WaveOptics技术旨在用于工业,企业和消费者市场的沉浸式AR体验。该公司的目标是,凭借其独特的技术和专业知识,其波导将成为所有AR可穿戴设备中使用的he心光学组件,以实现****的制造可扩展性和视觉性能,并为众多应用提供多功能性。 NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法。

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EVG ® 610 紫外线纳米压印光刻系统

具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统,从碎片到比较大150毫米。

该工具支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,并且可以选择背面对准。此外,该系统还为多功能配置提供了附加功能,包括键对准和纳米压印光刻(NIL)。EVG610提供快速的处理和重新安装工具,以改变用户需求,光刻和NIL之间的转换时间*为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到**级别的所有需求,因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。


EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA是自动化的全场域纳米压印解决方案,适用于第3代基材。低温纳米压印实际价格

纳米压印设备可用来进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。光学镜头纳米压印优惠价格

EVG ® 7200 LA特征:

专有SmartNIL ®技术,提供了****的印迹形大面积

经过验证的技术,具有出色的复制保真度和均匀性

多次使用的聚合物工作印模技术可延长母版使用寿命并节省大量成本

强大且精确可控的处理

与所有市售的压印材料兼容


EVG ® 7200 LA技术数据:

晶圆直径(基板尺寸):直径200毫米(比较大Gen3)(550 x 650毫米)

解析度:40 nm-10 µm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率窄带(> 400 mW /cm²)

对准:可选的光学对准:≤±15 µm

自动分离:支持的

迷你环境和气候控制:可选的


工作印章制作:支持的


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岱美仪器技术服务(上海)有限公司拥有磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 等多项业务,主营业务涵盖半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪。目前我公司在职员工以90后为主,是一个有活力有能力有创新精神的团队。公司业务范围主要包括:半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪等。公司奉行顾客至上、质量为本的经营宗旨,深受客户好评。公司力求给客户提供全数良好服务,我们相信诚实正直、开拓进取地为公司发展做正确的事情,将为公司和个人带来共同的利益和进步。经过几年的发展,已成为半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪行业出名企业。

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